基板清洗载台以及清洗设备制造技术

技术编号:35791392 阅读:17 留言:0更新日期:2022-12-01 14:40
本申请提供一种基板清洗载台以及清洗设备,包括载物台,载物台表面设置有多个负压吸附孔,负压吸附孔用于吸附基板;支撑件,支撑件间隔设置于载物台的至少一侧,支撑件用于支撑基板连接的电路板;遮挡件,所述遮挡件与所述支撑件一一对应且间隔设置;其中,支撑件与载物台之间形成漏水区,当基板放置于载物台上时,基板连接的电路板位于支撑件上,遮挡件覆盖支撑件上的电路板。本申请通过设置覆盖支撑件上电路板的遮挡件,并使支撑件与载物台之间形成漏水区,在进行基板清洗时,遮挡件可以避免清洗过程水珠飞溅到电路板上,同时水可以直接经漏水区排出,避免底部积水而导致在风干时底部的水珠飞溅到电路板上的现象。底部的水珠飞溅到电路板上的现象。底部的水珠飞溅到电路板上的现象。

【技术实现步骤摘要】
基板清洗载台以及清洗设备


[0001]本申请涉及柔性显示
,具体涉及一种基板清洗载台以及清洗设备。

技术介绍

[0002]目前,OLED柔性显示面板在生产过程中,需要对带有COF&PCB器件的柔性基板进行清洗,通过清洗机的转运、研磨、二流体冲刷以及风干功能,使得玻璃基板表面的异物清除干净,为后制程提供完美的实验基础。
[0003]然而,现有清洗机在进行研磨区间和二流体区间时清洗的水珠容易飞溅到PCB器件上,同时在风干区间也存在高气压吹起底部多余的水分而形成空气漩涡的现象,该空气旋涡也会导致底部的水珠飞溅到PCB器件上,因此在清洗过程中PCB器件防水能力的高低将直接影响器件电学性能良率。

技术实现思路

[0004]本申请提供一种基板清洗载台以及清洗设备,旨在解决目前基板清洗过程中容易导致水珠飞溅到电路板上的技术问题。
[0005]第一方面,本申请提供一种基板清洗载台,包括:
[0006]载物台,载物台表面设置有多个负压吸附孔;
[0007]支撑件,支撑件间隔设置于载物台的至少一侧;
[0008]遮挡件,所述遮挡件与所述支撑件一一对应且间隔设置;
[0009]其中,支撑件与载物台之间形成漏水区,当基板放置于载物台上时,基板连接的电路板位于支撑件上,遮挡件覆盖支撑件上的电路板。
[0010]在一些实施例中,支撑件包括分别间隔设置于载物台相对两侧的第一支撑件和第二支撑件;
[0011]遮挡件包括第一遮挡件和第二遮挡件,第一遮挡件和第二遮挡件用于分别覆盖第一支撑件和第二支撑件上的电路板。
[0012]在一些实施例中,多个负压吸附孔包括至少一个临近第一支撑件的第一负压吸附斜孔,以及至少一个临近第二支撑件的第二负压吸附斜孔;
[0013]第一负压吸附斜孔的轴线方向具有垂直于载物台表面以及朝向第一支撑件的方向分量;
[0014]第二负压吸附斜孔的轴线方向具有垂直于载物台表面以及朝向第二支撑件的方向分量。
[0015]在一些实施例中,第一负压吸附斜孔和第二负压吸附斜孔相对于载物台表面中心处的垂直线对称设置。
[0016]在一些实施例中,多个负压吸附孔还包括至少一个位于第一负压吸附斜孔和第二负压吸附斜孔之间的负压吸附直孔;
[0017]负压吸附直孔的轴线与载物台表面垂直。
[0018]在一些实施例中,第一支撑件背离载物台的一侧设置有第一翻转台,第一遮挡件铰接安装于第一翻转台上并可转动盖住第一支撑件上的电路板;
[0019]第二支撑件背离载物台的一侧设置有第二翻转台,第二遮挡件铰接安装于第二翻转台上并可转动盖住第二支撑件上的电路板。
[0020]在一些实施例中,遮挡件包括相互垂直连接的水平部以及竖直部,竖直部连接于水平部临近载物台的边缘处;
[0021]当遮挡件盖住支撑件上的电路板时,水平部覆盖电路板,竖直部位于载物台和支撑件之间。
[0022]在一些实施例中,所述支撑件包括所述沿载物台一侧边缘间隔设置的多个支撑柱;或者
[0023]所述支撑件包括沿载物台一侧边缘设置的支撑台。
[0024]在一些实施例中,支撑件的高度大于载物台的高度;和/或
[0025]当遮挡件覆盖电路板时,遮挡件临近载物台一侧的高度小于远离载物台一侧的高度。
[0026]第二方面,本申请提供一种清洗设备,包括如第一方面所述的基板清洗载台。
[0027]本申请通过设置覆盖支撑件上电路板的遮挡件,并使支撑件与载物台之间形成漏水区,在进行基板清洗时,遮挡件可以避免清洗过程水珠飞溅到电路板上,同时水可以直接经漏水区排出,避免底部积水而导致在风干时底部的水珠飞溅到电路板上的现象。
附图说明
[0028]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0029]图1是基板的一种结构示意图;
[0030]图2是本申请实施例中提供的基板清洗载台的一种结构示意图;
[0031]图3是本申请实施例中提供的中基板放置在清洗载台上的一种结构示意图;
[0032]图4是本申请实施例中提供的载物台与支撑件的一种布置示意图;
[0033]图5是本申请图4中A处的一种放大示意图;
[0034]图6是本申请实施例中提供的第一负压吸附斜孔的一种轴线分解示意图;
[0035]图7是本申请图4中B处的一种放大示意图;
[0036]图8是本申请实施例中提供的第二负压吸附斜孔的一种轴线分解示意图;
[0037]图9是本申请实施例中提供的基板清洗载台的另一种结构示意图;
[0038]图10是本申请实施例中提供的遮挡件的一种结构示意图。
[0039]其中,1基板,2电路板,10载物台,11负压吸附孔,111第一负压吸附斜孔,112第二负压吸附斜孔,113负压吸附直孔,20支撑件,21第一支撑件,22第二支撑件,30遮挡件,31第一遮挡件,301水平部,302竖直部,32第二遮挡件,40第一翻转台,50第二翻转台,60漏水区。
具体实施方式
[0040]下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0041]在本技术的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本技术的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
[0042]在本申请中,“示例性”一词用来表示“用作例子、例证或说明”。本申请中被描述为“示例性”的任何实施例不一定被解释为比其它实施例更优选或更具优势。为了使本领域任何技术人员能够实现和使用本技术,给出了以下描述。在以下描述中,为了解释的目的而列出了细节。应当明白的是,本领域普通技术人员可以认识到,在不使用这些特定细节的情况下也可以实现本技术。在其它实例中,不会对公知的结构和过程进行详细阐述,以避免不本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板清洗载台,其特征在于,包括:载物台,所述载物台表面设置有多个负压吸附孔;支撑件,所述支撑件间隔设置于所述载物台的至少一侧;遮挡件,所述遮挡件与所述支撑件一一对应且间隔设置;其中,所述支撑件与所述载物台之间形成漏水区,当所述基板放置于所述载物台上时,所述基板连接的电路板位于所述支撑件上,所述遮挡件覆盖所述支撑件上的所述电路板。2.如权利要求1所述的基板清洗载台,其特征在于,所述支撑件包括分别间隔设置于所述载物台相对两侧的第一支撑件和第二支撑件;所述遮挡件包括第一遮挡件和第二遮挡件,所述第一遮挡件和所述第二遮挡件用于分别覆盖所述第一支撑件和所述第二支撑件上的所述电路板。3.如权利要求2所述的基板清洗载台,其特征在于,所述多个负压吸附孔包括至少一个临近所述第一支撑件的第一负压吸附斜孔,以及至少一个临近所述第二支撑件的第二负压吸附斜孔;所述第一负压吸附斜孔的轴线方向具有垂直于所述载物台表面以及朝向所述第一支撑件的方向分量;所述第二负压吸附斜孔的轴线方向具有垂直于所述载物台表面以及朝向所述第二支撑件的方向分量。4.如权利要求3所述的基板清洗载台,其特征在于,所述第一负压吸附斜孔和所述第二负压吸附斜孔相对于所述载物台表面中心处的垂直线对称设置。5.如权利要求3所述的基板清洗载台,其特征在于,所述多个负压吸附孔还...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴诗伟陈新亮苑立阁
申请(专利权)人:广东聚华印刷显示技术有限公司
类型:新型
国别省市:

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