掩膜版以及掩膜版的制备方法技术

本申请公开了一种掩膜版以及掩膜版的制备方法，该掩膜版包括：框架、多个掩膜条和至少一个支撑条；其中，多个掩膜条与框架连接，多个掩膜条沿第一方向并排设置；第一方向与掩膜条的长度方向交叉，且在第一方向上，掩膜条相对设置的两侧分别设置有至少一个沿第一方向延伸的第一延伸部；至少一个支撑条层叠设置于掩膜条一侧，且与框架连接；支撑条在多个掩膜条上的正投影覆盖多个第一延伸部，并与覆盖的多个第一延伸部连接。通过上述方式，本申请能够降低大尺寸掩膜版制备过程中的难度。降低大尺寸掩膜版制备过程中的难度。降低大尺寸掩膜版制备过程中的难度。

【技术实现步骤摘要】
掩膜版以及掩膜版的制备方法


[0001]本申请属于显示
，具体涉及一种掩膜版以及掩膜版的制备方法。

技术介绍

[0002]OLED(有机发光二极管)显示面板一般会借助掩膜版来蒸镀一些有机膜层。随着显示面板尺寸的增大，对应的掩膜版尺寸也越来越大。
[0003]以通用型金属掩膜板(Common Metal Mask，CMM)为例，CMM 一般采用整面蚀刻和张网工艺进行制备，CMM网面厚度一般为100微米～200微米。随着CMM尺寸变大，常规的制备方式弊端就显露出来了，例如，100微米～200微米厚的超大尺寸CMM网面无法利用现有设备被压延出来；超大网面无法利用现有设备被蚀刻以及被张网出来；且超大网面下垂量巨大，不满足蒸镀支撑需求。

技术实现思路

[0004]本申请提供一种掩膜版以及掩膜版的制备方法，以降低大尺寸掩膜版制备过程中的难度。
[0005]为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种掩膜版，包括：框架；多个掩膜条，与所述框架连接，所述多个掩膜条沿第一方向并排设置；其中，所述第一方向与所述掩膜条的长度方向交叉，且在所述第一方向上，所述掩膜条相对设置的两侧分别设置有至少一个沿所述第一方向延伸的第一延伸部；至少一个支撑条，层叠设置于所述掩膜条一侧，且与所述框架连接；其中，所述支撑条在所述多个掩膜条上的正投影覆盖多个所述第一延伸部，并与覆盖的多个所述第一延伸部连接。
[0006]为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种掩膜版的制备方法，包括：将支撑条与框架连接；将连接有辅助件的掩膜条层叠设置于所述支撑条一侧；其中，所述掩膜条设置有至少一个沿第一方向延伸的第一延伸部，所述第一方向与所述掩膜条的长度方向交叉，至少部分所述第一延伸部背离所述支撑条一侧连接有所述辅助件，且所述辅助件沿所述第一方向延伸至所述框架外侧；利用张网机夹持所述辅助件位于所述框架外侧的端部以及所述掩膜条长度方向上的两端，以使得所述掩膜条张紧；使所述掩膜条长度方向上的两端与所述框架连接，所述第一延伸部与所述支撑条连接；将至少部分所述辅助件去除。
[0007]区别于现有技术情况，本申请的有益效果是：本申请将现有技术中整面形成的超大网面分割为独立的小网面(即单个掩膜条)，以降低超大尺寸掩膜版制备的工艺难度。另一方面，本申请中独立的小网面(也即单个掩膜条)上设置有多个第一延伸部，该第一延伸部的引入可以使得在张网过程中可以通过辅助件将第一延伸部与张网机连接，以保证张网机能够对独立的小网面进行长度方向和第一方向上的张网拉伸，以保证张网拉伸效果，有利于控制大尺寸掩膜版的稳定性和下垂量，保证后续蒸镀效果。再一方面，上述第一延伸部与掩膜版中的支撑条固定连接，以进一步降低大尺寸掩膜版的下垂量，保证后续蒸镀效果。
附图说明
[0008]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中：
[0009]图1为本申请掩膜版一实施方式的结构示意图；
[0010]图2为图1中沿A
‑
A剖线一实施方式的剖面示意图；
[0011]图3为图1中沿A
‑
A剖线另一实施方式的剖面示意图；
[0012]图4为本申请掩膜版另一实施方式的结构示意图；
[0013]图5为图1中部分框架一实施方式的结构示意图；
[0014]图6为图1中部分框架一实施方式的俯视示意图；
[0015]图7为本申请掩膜版的制备方法一实施方式的流程示意图；
[0016]图8为图7中步骤S100对应的一实施方式的结构示意图；
[0017]图9为图7中步骤S102对应的一实施方式的结构示意图；
[0018]图10为图9中沿B
‑
B剖线一实施方式的剖面示意图。
具体实施方式
[0019]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本申请保护的范围。
[0020]请参阅图1，图1为本申请掩膜版一实施方式的结构示意图，该掩膜版10包括框架100、多个掩膜条102和至少一个支撑条104。
[0021]具体地，如图1所示，框架100可以为环形，其中间设置有一个大的镂空区。例如，框架100可以为矩形环等，框架100的形状或尺寸可以根据实际蒸镀需求进行设定，本申请对此不作限定。此外，上述框架 100的材质可以为金属等硬度较高且不易变形的材质。
[0022]多个掩膜条102与框架100连接；例如，多个掩膜条102可以与框架100通过焊接等方式固定。多个掩膜条102沿第一方向X并排设置；其中，第一方向X与掩膜条102的长度方向Y交叉，且在第一方向X 上，掩膜条102相对设置的两侧分别设置有至少一个沿第一方向X延伸的第一延伸部1020。可选地，该第一方向X可以与掩膜条102的宽度方向P平行，以使得多个掩膜条102的排布方式较为规整。
[0023]至少一个支撑条104层叠设置于掩膜条102一侧，且与框架100连接；例如，支撑条104可以与框架100通过焊接等方式固定；支撑条104 的材质可以为高强度钢等。其中，支撑条104在多个掩膜条102上的正投影覆盖多个第一延伸部1020，并与覆盖的多个第一延伸部1020连接；例如，支撑条104与覆盖的多个第一延伸部1020通过焊接等方式固定。
[0024]在上述设计方式中，将现有技术中整面形成的超大网面分割为独立的小网面(即单个掩膜条102)，以降低超大尺寸的掩膜版10制备的工艺难度。另一方面，本申请中独立的小网面(也即单个掩膜条102)上设置有多个第一延伸部1020，该第一延伸部1020的引入可以使得在张网过程中，可以通过辅助件将第一延伸部1020与张网机连接，以保证张网机能
够对掩膜条102进行长度方向Y和第一方向X上的张网拉伸，以保证张网拉伸效果，有利于控制大尺寸掩膜版10的稳定性和下垂量，保证后续蒸镀效果。再一方面，上述第一延伸部1020与掩膜版10中的支撑条104固定连接，以进一步降低大尺寸掩膜版的下垂量，保证后续蒸镀效果。
[0025]在一个实施方式中，请继续参阅图1，掩膜条102包括主体部1022，在掩膜条102的宽度方向P上，主体部1022包括相对设置的第一侧10220 和第二侧10222，第一侧10220和第二侧10222上分别连接有多个第一延伸部1020。该设计方式可以使得张网过程中掩膜条102在长度方向Y 上各个位置处所受到的第一方向X上的力较为均衡。
[0026]可选地，如图1中所示，同一掩膜条102上，位于第一侧10220的多个第一延本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：框架；多个掩膜条，与所述框架连接，所述多个掩膜条沿第一方向并排设置；其中，所述第一方向与所述掩膜条的长度方向交叉，且在所述第一方向上，所述掩膜条相对设置的两侧分别设置有至少一个沿所述第一方向延伸的第一延伸部；至少一个支撑条，层叠设置于所述掩膜条一侧，且与所述框架连接；其中，所述支撑条在所述多个掩膜条上的正投影覆盖多个所述第一延伸部，并与覆盖的多个所述第一延伸部连接。2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜条包括主体部，在所述掩膜条的宽度方向上，所述主体部包括相对设置的第一侧和第二侧，所述第一侧和所述第二侧上分别连接有多个所述第一延伸部；优选地，所述掩膜条包含与所述长度方向平行的对称轴，所述掩膜条关于所述对称轴呈轴对称设置。3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，在所述长度方向上，所述主体部包括间隔设置的多个掩膜单元，位于相邻两个所述掩膜单元之间的所述主体部上设置有所述第一延伸部；优选地，所述掩膜条还包括两个第二延伸部，一个所述第二延伸部与所述主体部在所述长度方向上的一个端部连接；其中，位于相邻的所述第二延伸部与所述掩膜单元之间的所述主体部上设置有所述第一延伸部。4.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，在所述掩膜条的厚度方向上，所述第一延伸部背离所述支撑条一侧平整。5.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，在所述掩膜条的厚度方向上，所述第一延伸部背离所述支撑条一侧设置有凹陷；优选地，所述凹陷与所述第一延伸部背离所述主体部一侧连通；优选地，所述掩膜版还包括辅助件，至少填充所述凹陷；优选地，所述辅助件背离所述主体部一侧与所述第一延伸部齐平；优选地，在所述厚度方向上，所述凹陷的深度与所述辅助件的厚度相同。6.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：李文星，李伟丽，邱岳，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：