杯、液处理装置以及液处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及杯、液处理装置以及液处理方法。抑制从基板飞散的处理液在该杯的内周面向该基板弹回。一种杯，其包围基板以对该基板进行液处理，其中，该杯构成为包括：第1槽，其在所述杯的内周面在纵向上伸长地设置；多个第2槽，其以各自的一端与所述第1槽分别连接的方式设置，在朝向伸长方向观察时的该多个第2槽各自的截面积小于所述第1槽的截面积。的截面积小于所述第1槽的截面积。的截面积小于所述第1槽的截面积。

【技术实现步骤摘要】
杯、液处理装置以及液处理方法


[0001]本公开涉及杯、液处理装置以及液处理方法。

技术介绍

[0002]在半导体器件的制造工序中，进行对半导体晶圆(以下，记载为晶圆)的液处理。对于该液处理，包括以对收纳于杯的晶圆供给处理液的方式进行的处理。在专利文献1中示出了该杯的内周面设为实施有粗糙化处理并且形成有亲水性覆膜的结构。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2013
‑
138089号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的问题
[0007]本公开的目的在于，当对被杯包围的基板进行液处理时，抑制从基板飞散的处理液在该杯的内周面向该基板弹回。
[0008]用于解决问题的方案
[0009]本公开的杯包围基板以对该基板进行液处理，其中，该杯包括：第1槽，其在所述杯的内周面在纵向上伸长地设置；以及多个第2槽，其以各自的一端与所述第1槽分别连接的方式设置，在朝向伸长方向观察时的该多个第2槽各自的截面积小于所述第1槽的截面积。
[0010]专利技术的效果
[0011]对于本公开，当对被杯包围的基板进行液处理时，能够抑制从基板飞散的处理液在该杯的内周面向该基板弹回。
附图说明
[0012]图1是包括本公开的一实施方式的杯的显影装置的纵剖侧视图。
[0013]图2是所述显影装置的俯视图。
[0014]图3是所述显影装置的纵剖侧视图。
[0015]图4是所述显影装置的纵剖侧视图。
[0016]图5是表示所述杯的内周面的俯视图。
[0017]图6是包括在所述内周面形成的槽的纵剖视图。
[0018]图7是包括在所述内周面形成的槽的纵剖视图。
[0019]图8是包括在所述内周面形成的槽的纵剖视图。
[0020]图9是包括在所述内周面形成的槽的纵剖视图。
[0021]图10是表示所述内周面的液体流动的示意图。
[0022]图11是表示所述槽的概略纵剖视图。
[0023]图12是在所述显影装置处理的晶圆的俯视图。
[0024]图13是表示所述内周面的情形的说明图。
[0025]图14是表示所述内周面的情形的说明图。
[0026]图15是表示内周面的槽的其他结构的俯视图。
具体实施方式
[0027]说明作为液处理装置的一例的显影装置1的概要。显影装置1包括本公开的一实施方式的杯3。在显影装置1中，对作为基板的晶圆W进行供给显影液而在晶圆W的表面使抗蚀图案解像的显影处理和接着该显影处理的清洗处理。在清洗处理中，向旋转的晶圆W的表面供给例如纯水即清洗液，从而去除显影液。
[0028]上述的显影处理和清洗处理在晶圆W被杯3包围的状态下进行，防止各液体向装置的各部飞散，并且使用完的各液体从杯3向排液路径流动而被去除。而且，在清洗处理时，由于晶圆W的旋转而从该晶圆W飞散的清洗液的液滴与杯3的内周面碰撞。在该内周面形成有由槽构成的图案。利用该图案由上述的液滴形成液膜，接着利用该液膜捕捉与内周面碰撞的液滴。该图案构成为能够将构成该液膜的清洗液向杯的下方排出，以在清洗处理中利用适量的清洗液维持液膜。
[0029]以下，参照图1的纵剖侧视图和图2的俯视图对显影装置1进行说明。显影装置1具备旋转卡盘11作为载置晶圆W的载置部。旋转卡盘11吸附晶圆W的背面中央部，将该晶圆W保持为水平。该旋转卡盘11借助垂直地延伸的轴部12与旋转机构13连接，在保持着晶圆W的状态下绕铅垂轴线旋转。利用该旋转卡盘11的旋转，该晶圆W绕中心旋转。
[0030]对上述的杯3进行说明。杯3在俯视时位于被旋转卡盘11保持的晶圆W的外侧区域，该杯3包括主体部31、倾斜壁32、底部33、内周壁35、圆环部36以及下降壁38。上述的各部构成为在俯视时中心轴线互相一致的圆环状或者圆筒状的构件。另外，该中心轴线在俯视时与旋转卡盘11的旋转轴线一致。
[0031]主体部31在俯视时设于载置于旋转卡盘11的晶圆W的外侧，构成为垂直地立起的圆筒体。将该主体部31的内周面表示为附图标记31A。该内周面31A是杯3的内周面的第3高度区域，未形成上述的槽、后述的利用喷砂形成的凹凸53，构成为光滑面。主体部31的上端侧通过以朝向该主体部31的中心轴线沿斜上方伸出的方式倾斜而构成为倾斜壁32。倾斜壁32的下端位于比被旋转卡盘11保持的晶圆W靠下方的位置，倾斜壁32的上端位于比被旋转卡盘11保持的晶圆W靠上方的位置。因而，该倾斜壁32与主体部31一起构成杯3的侧壁和内周面。上述的槽的图案形成于该倾斜壁32，随后详细叙述。
[0032]主体部31的下端朝向该主体部31的中心轴线水平地伸长，形成圆环状的底部33。在该底部33的上表面设有垂直的划分壁34，以将该底部33上划分为周缘侧的外周缘区域33A和靠主体部31的中心轴线的内周缘区域33B，该划分壁34构成为沿着底部33的周向的圆筒状。在底部33的面向外周缘区域33A的区域开口有排液口30，从晶圆W向杯3内流下的显影液和清洗液从该排液口30向排液路径流动而被去除。此外，在底部33，在面向内周缘区域33B的区域开口有用于对杯3内进行排气的排气口39。
[0033]底部33的内周缘向垂直上方突出，构成内周壁35。此外，设有以包围轴部12的方式构成的圆环部36，内周壁35的上端与圆环部36的宽度方向上的中央部的下表面接触。圆环部36的周缘侧包括引导部37，该引导部37在纵剖视时呈山型，并且其顶部位于晶圆W的周缘
部下方。该引导部37的周端通过以朝向比划分壁34的上端靠下方的位置的方式垂直地伸出，而构成为圆筒状的下降壁38，该下降壁38位于划分壁34的外侧。
[0034]以贯穿圆环部36的比引导部37靠中心侧的部位的方式，设有三个垂直的销14。各销14利用升降机构15升降，用于在未图示的输送机构和旋转卡盘11之间交接晶圆W。此外，在杯3的上方设有过滤器机构16，该过滤器机构16向下方供给大气。利用来自该过滤器机构16的大气的供给和来自杯3内的排气口39的排气，在晶圆W上形成有大气的下降气流的状态下，进行上述的显影处理和清洗处理。
[0035]而且，流入到杯3内的大气穿过在晶圆W的侧面和倾斜壁32的内周面之间形成的流路(设为排气区域17)。进而，该大气穿过主体部31的内周面31A和下降壁38的外周面之间的流路(设为狭小流路18)，从内周缘区域33B向排气口39流动而被去除。因而，相对于排气区域17而言，狭小流路18是位于下方且下游侧的流路。狭小流路18的宽度A2小于排气区域17的宽度A1。另外，由于杯3如上述那样构成，因此，排气区域17和狭小流路18是圆环，上述的宽度A1和宽度A2是该圆环的径向上的长度。
[0036]杯3由树脂构成。构成形成有图案的倾斜壁32的内周面的树脂进行有亲水化处理，具备羧基。更详细地叙述，例如亲水化处理前的树脂具备甲基，针对该甲基，如本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种杯，其包围基板以对该基板进行液处理，其中，该杯包括：第1槽，其在所述杯的内周面在纵向上伸长地设置；以及多个第2槽，其以各自的一端与所述第1槽分别连接的方式设置，在朝向伸长方向观察时的该多个第2槽各自的截面积小于所述第1槽的截面积。2.根据权利要求1所述的杯，其中，由所述第1槽和从左右夹着该第1槽且各自的一端与该第1槽连接的多个第2槽构成的槽的组在所述杯的内周面的周向上设有多个，所述第2槽的数密度大于所述第1槽的数密度。3.根据权利要求2所述的杯，其中，所述槽的各组的所述第1槽在左侧的互相不同的高度、右侧的互相不同的高度分别连接有第2槽。4.根据权利要求1所述的杯，其中，在从所述杯内观察时，所述第1槽相对于水平面倾斜地伸长。5.根据权利要求1所述的杯，其中，所述第1槽和所述第2槽设于所述杯的内周面的第1高度区域，在该内周面比所述第1高度区域靠上方且比在所述杯内处理的所述基板的表面靠上方的第2高度区域的凹凸比所述第1高度区域的凹凸微细。6.根据权利要求5所述的杯，其中，所述第2高度区域的凹凸包括第3槽，该第3槽的在朝向槽的伸长方向观察时的截面积小于所述第1槽的截面积，与所述第1高度区域的所述第2槽的开口面积相对于所述第1槽的开口面积的比例相比，所述第2高度区域的所述第3槽的开口面积相对于所述第1槽的开口面积的比例较大。7.根据权利要求1～6中任一项所述的杯，其中，所述第1槽和所述第2槽设于所述杯的内周面的第1高度区域，所述杯和在所述杯内处理的所述基板之间形成有环状的排气区域，所述内周面的比所述第1高度区域靠下方的第3高度区域形成环状的狭小流路，该狭小流路位于所述排气区域的下方且下游侧，并且该狭小流路的宽度比该排气区域的宽度窄，在所述第1高度区域和所述第3高度区域之间，第3高度区域的所述第2槽的每单位面积的开口的比例较小。8.根据权利要求7所述的杯，其中，在所述内周面比所述第3高度区域靠上方侧的区域进行有亲水化处理。9.根据权利要求7所述的杯，其中，所述第3高度区域构成金属捕集面。10.根据权利要求1～6中任一项所述的杯，其中，所述第1槽和所述第2槽设于所述杯的内周面的第1高度区域，在该内周面在所述第1高度区域...

【专利技术属性】
技术研发人员：出石佑树，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：