【技术实现步骤摘要】
一种选择性吸附镓离子的石墨烯基表面离子印迹材料及其制备方法和应用
[0001]本专利技术属于镓的回收提取
,具体涉及一种选择性吸附镓离子的石墨烯基表面离子印迹材料及其制备方法和应用。
技术介绍
[0002]镓是一种稀有金属,被广泛应用于各种高新
,如半导体、太阳能电池、合金和医学应用等。其中半导体行业已成为镓最大的消费领域,约占总消费量的80%。随着我国半导体行业的快速发展,镓的市场需求量也越来越高。由于没有纯镓矿,其主要的存在形式是伴生矿,镓的回收主要从粉煤灰、铝土矿、赤泥和锌渣等中回收。由于煤炭储量巨大、成本低廉,它被广泛用作发电和钢铁生产的一种能源。在过去的几十年里,粉煤灰作为非挥发性残留物在中国急剧增加。所以煤炭中伴生镓资源为解决镓资源困乏提供了新的思路。
[0003]目前,最广泛的提取镓的方法包括吸附法、溶剂萃取法、离子交换法和电化学法。其中吸附法工艺设计简单,操作灵活。复合物吸附剂具有成本较低、吸附量高和不产生废副产物等优点,所以吸附法被认为是一种比较有效且经济的方法。
[0004]但 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种选择性吸附镓离子的石墨烯基表面离子印迹材料的制备方法,其特征在于,包括下述步骤:(1)将氧化石墨烯悬浮液、丙烯酸单体和模板镓离子溶液混合,并加入交联剂和引发剂,在氮气环境下室温搅拌;(2)升温至40
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90℃,搅拌反应1
‑
4h;(3)降温,过滤悬浮液,收集粘稠产物,并用去离子水清洗至中性,干燥得到中间产物;(4)采用盐酸溶液对所述中间产物进行清洗,除去模板镓离子,并用去离子水洗涤至洗涤液呈中性,干燥即得所述选择性吸附镓离子的石墨烯基表面离子印迹材料。2.根据权利要求1所述的选择性吸附镓离子的石墨烯基表面离子印迹材料的制备方法,其特征在于,所述模板镓离子与所述丙烯酸单体的质量比为(0.012
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0.19):1000;所述氧化石墨烯悬浮液与所述丙烯酸单体的体积比为(12.5
‑
25):1,所述氧化石墨烯悬浮液中氧化石墨烯的浓度为2.4g/L。3.根据权利要求2所述的选择性吸附镓离子的石墨烯基表面离子印迹材料的制备方法,其特征在于,所述模板镓离子与所述丙烯酸单体的质量比为(0.024
‑
0.0495):1000;所述氧化石墨烯悬浮液与所述丙烯酸单体的体积比为25:1。4.根据权利要求1
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3任一项所述的选择性吸附镓离子的石墨烯基表面离子印迹材料的制备方法,其特征在于,所述交联...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘伟峰,张曼曼,梁畅,刘旭光,
申请(专利权)人:太原理工大学,
类型:发明
国别省市:
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