功能材料至靶材表面上的可控沉积制造技术

本文提供了板(1)，其包括将要使用具有波长(λ

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】功能材料至靶材表面上的可控沉积


[0001]本申请涉及用于将功能材料可控沉积到靶材表面上的方法。
[0002]本申请还涉及包括待沉积到靶材表面上的功能材料的板。
[0003]本申请还涉及包括这种板的沉积装置。

技术介绍

[0004]根据一种方法，待沉积的功能材料作为连续层提供在基底的第一侧，并且该层被经由基底引导至该层的激光束局部烧蚀。其实例是US 2009/061112 A1、EP 2 924 718 A1、EP 2 843 079 A1、US 6 177 151 B1。
[0005]根据另一种方法，待沉积的功能材料不作为连续层存在，而是存在于源基底的凹陷区域中。从US2017268100已知一种根据这种方法将功能材料可控沉积到靶材表面上的方法。根据其中公开的方法，提供了一种透光板，该透光板具有带有一个或多个孔的第一表面和与第一表面相对的第二表面。在用光吸收材料薄层涂覆第一表面后，用功能材料填充孔。然后用脉冲光从第二表面照射板以在孔中诱导热量并且从而诱导气体以将功能材料从孔转移到位于板附近的接收基底上。在这个过程中，孔本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.使用具有波长(λ
R3
)的单色辐射(R3)将功能材料(2)可控沉积到靶材表面(51)上的方法，所述方法包括：
‑
提供(S1)具有基底(10)的透明载板(1)，所述基底(10)具有相互相对的第一表面和第二表面(分别为11,12)，其中向所述第一表面(11)提供(S1B)一个或多个凹陷区域(111)；
‑
在所述第一表面(11)上沉积(S2)介电涂层(4)，所述介电涂层(4)包括一系列折射率交替的介电涂层子层(41,42,43)，与对于以45度角入射到所述介电涂层(4)的所述单色辐射(R3)的反射率相比，所述介电涂层(4)对于垂直于所述介电涂层(4)入射的所述单色辐射(R3)具有相对高的反射率；
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用所述功能材料(2)填充(S3)所述一个或多个凹陷区域(111)；
‑
将所述透明载板(1)定位在所述单色辐射源(3)和所述靶材表面(51)之间，其中所述第一表面(11)面对所述靶材表面(51)；
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将所述单色辐射(R3)引导(S4)朝向所述板(1)的所述第二表面(12)，所述单色辐射(R3)具有引起功能材料(2)从所述一个或多个凹陷区域(111)转移(S5)到所述靶材表面(51)的强度和持续时间。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述介电涂层子层(41,42,43)的厚度为所述单色辐射(R3)的所述波长(λ
R3
)的0.05倍至0.15倍。3.根据权利要求1或2所述的方法，还包括，在为所述第一表面(11)提供(S1B)一个或多个凹陷区域(111)之前，在所述第一表面(11)处沉积(S1C)反射涂层(6)，所述反射涂层(6)基本上反射向其入射的所述单色辐射(R3)。4.根据权利要求1所述的方法，其中使用扫描激光器(3)来产生所述单色辐射(R3)。5.根据权利要求4所述的方法，其中所述单色辐射(R3)经由远心透镜被引导至所述板(1)的所述第二表面(12)，以确保所述入射角在所述单色辐射(R3)覆盖的区域上相等。6.根据权利要求4所述的方法，其中准分子激光器(3)用于产生所述单色辐射(R3)。7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，还包括在沉积所述介电涂层的步骤之后并在填充(S3)具有所述功能材料(2)的所述一个或多个凹陷区域(111)的步骤之前，沉积光子辐射吸收层(9)的步骤。8.板(1)，包括使用具有波长(λ
R...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗布，
申请(专利权)人：荷兰应用自然科学研究组织TNO，
类型：发明
国别省市：