【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学系统和光刻设备
[0001]本专利技术涉及光学系统并且涉及具有这种光学系统的光刻设备。
[0002]通过引文将优先权申请DE 10 2020 201724.7的内容全部并入本文。
[0003]微光刻用于制造微结构化部件,诸如集成电路。使用具有照明系统和投射系统的光刻设备执行微光刻过程。凭借照明系统照明的掩模(掩模母版)的像,在这种情况下,凭借投射系统投射至涂覆有感光层(光刻胶)且布置在投射系统的像平面中的基板(例如硅晶片)上,以便将掩模结构转印至基板的感光涂层。
[0004]反射镜是已知的,其反射镜表面可以凭借适当布置的致动器以有针对性的方式变形。这允许校正或补偿光学成像误差,也称为像差。像差可以有不同的来源,特别是温度波动会导致机械应力,这会使光学元件的支持件和/或光学元件本身畸变,因此所讨论的光学元件的光学性质会发生改变。例如,在天文学中使用这种反射镜,其中术语自适应光学已经确立。在此,用测量光扫描反射镜表面,并确定与理想形状的偏差。因此,可以设置闭环控制电路,该电路基于所确定的偏差驱动对应的致动器,从而使反射镜表面更接近其理想形状。
[0005]其表面可以用致动器变形的反射镜也用于光刻设备中。然而,已知的光刻设备具有非常小的安装空间,因为许多功能单元(例如有源或无源部件)必须布置在小体积中。因此,如上所述在光刻设备中布置附加的光学测量系统以便扫描反射镜表面是不切实际的。因此,致动器的反馈控制迄今为止是不可能的,或者只能通过在经济上不合理的努力来实施。
[0006]针对上述背景,本专利技术的目的是使改进 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学系统(200),具有至少一个反射镜(210),所述反射镜(210)具有反射镜主体(212)和反射镜表面(214),并且所述光学系统具有耦合到所述反射镜主体(212)、用于使所述反射镜表面(214)变形的至少一个致动器装置(220),其中所述致动器装置(220)包括:至少一个电致伸缩致动器元件(222),用于在所述反射镜主体(212)中产生用于取决于电驱动电压(VS)使所述反射镜表面(214)变形的机械应力,至少一个电致伸缩传感器元件(224),用于取决于所述传感器元件(224)的变形输出传感器信号(SS),其中所述至少一个传感器元件(224)布置成直接邻接所述致动器元件(222),和/或布置在所述反射镜主体(212)的背离所述反射镜表面(214)的一侧,并且至少由所述致动器元件(222)与所述反射镜主体(212)隔开和/或布置成使得所述至少一个传感器元件(224)至少部分地设置用于将所述致动器元件(222)产生的机械应力转移到所述反射镜主体(212),并且其中所述致动器装置(220)耦合到所述反射镜主体(212),使得所述反射镜表面(214)取决于所述致动器元件(222)的电驱动电压(VS)可变形。2.根据权利要求1所述的光学系统,还包括闭环控制单元,用于取决于所述传感器元件(224)输出的所述传感器信号(SS)控制所述致动器元件(222)的驱动电压(VS),使得在所述反射镜主体(212)中实现预先确定的机械应力。3.根据权利要求1或2所述的光学系统,其中,所述至少一个致动器元件(222)和所述至少一个传感器元件(224)被单片地制造。4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学系统,其中,所述至少一个致动器元件(222)和所述至少一个传感器元件(224)集成在布置在所述反射镜(210)上的层(221)中,在所述反射镜主体(212)的背离所述反射镜表面(214)的一侧。5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学系统,其中,所述至少一个传感器元件(224)至少部分地布置在沿所述反射镜表面(214)的表面法线的方向上、在所述至少一个致动器元件(222)和所述反射镜主体(212)之间。6.根据权利要求1至5中任一项所述的光学系统,其中,所述至少一个致动器元件(222)和所述至少一个传感器元件(224)各自包括电致伸缩材料的至少一个层(L1、...、Ln)。7.根据权利要求6所述的光学系统,其中,所述至少一个致动器元件(222)具有电致伸缩材料的多个层(L1、...、Ln),其中多个层中的每一个层(L1、...、Ln)具有分配的阴极(K1
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Kn)和分配的阳极(A1
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An)并且用相应的驱动电压(VS)可驱动。8.根据权利要求6和7中任一项所述的光学系统,其中,所述至少一个致动器元件(222)和所述至少一个传感器元件(224)形成包括至少两个层(L1、...、Ln)的层堆叠体(SL)。9.根据权利要求1
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8中任一项所述的光学系统,其中,所述致动器装置(220)具有至少两个传感器元件(224),其中所述至少两个传感器元件(224)的电致伸缩材料的材料成分不同,其中,所述至少两个传感器元件(224)中的每一个设置为用于输出传感器信号(SS)。10.根据权利要求9所述的光学系统,其中,提供确定单元(230),用于取决于从所述至少两个传感器元件(224)输出的传感器信号(SS)确定所述反射镜主体(212)中的温度。11.根据权利要求9或10所述的光学系统,其中,提供测量单元,用于将测量交替电压(VM)施加到所述至少两个传感器元...
【专利技术属性】
技术研发人员:M曼格,M拉布,
申请(专利权)人:卡尔蔡司SMT有限责任公司,
类型:发明
国别省市:
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