光罩制造技术

本实用新型专利技术实施例公开了一种光罩；该光罩包括光罩主体、及位于该光罩主体的一侧的准直遮光层，该光罩主体包括至少一第一开口，该准直遮光层包括至少一准直遮光单元，该准直遮光单元包括一准直孔，其中，一该准直遮光单元围绕一该第一开口设置，在垂直于该光罩主体的方向上，一该第一开口与一该准直孔重合设置；本实用新型专利技术通过在光罩主体的第一开口周围设置准直遮光单元，准直遮光单元的准直孔与第一开口对应重合，利用准直遮光单元对倾斜光线的遮挡，提高光线的准直性，提高了曝光精度，增强了图案化的解析力，提高了制作精度。提高了制作精度。提高了制作精度。

【技术实现步骤摘要】
光罩


[0001]本技术涉及显示领域，具体涉及一种光罩。

技术介绍

[0002]近些年，显示领域中的曝光显影技术要求的精度越来越高，曝光制程中，需要有Mask(光罩)进行遮光，光罩上设置有开口，在光罩开口边缘附近的光强变化快，当曝光机的光线准直性较差时，对于开口边缘的光线会有斜向侵入，导致有多余曝光区域，进而导致图案化的解析力降低，降低了制作精度。
[0003]因此，亟需一种光罩以解决上述技术问题。

技术实现思路

[0004]本技术提供一种光罩，可以缓解目前光罩的开口边缘的光线异常侵入的技术问题。
[0005]本技术提供一种光罩，包括：
[0006]光罩主体，包括至少一第一开口；
[0007]准直遮光层，位于所述光罩主体的一侧，所述准直遮光层包括至少一准直遮光单元，所述准直遮光单元包括一准直孔；
[0008]其中，一所述准直遮光单元围绕一所述第一开口设置，在垂直于所述光罩主体的方向上，一所述第一开口与一所述准直孔重合设置。
[0009]进一步优选的，第一截面垂直于所述光罩，在任一所述第一截面上，所述第一开口的宽度为L，所述第一开口的最大宽度为L
max
，所述准直遮光单元的厚度为H；其中，至少一所述准直孔满足以下关系：H≥L
max
tan2
°
。
[0010]进一步优选的，所述第一开口为矩形，所述矩形包括两个长边和两个短边，所述短边的长度为M，所述长边的长度为N，所述准直遮光单元的厚度为H；其中，N≥10M，所述准直孔满足以下关系：H≥Mtan2
°
。
[0011]进一步优选的，所述光罩主体包括多个所述第一开口，所述准直遮光层包括多个所述准直遮光单元；其中，相邻两个所述准直遮光单元间隔设置。
[0012]进一步优选的，所述光罩主体包括多个所述第一开口，所述准直遮光层包括多个所述准直遮光单元；其中，相邻两个所述准直遮光单元接触设置。
[0013]进一步优选的，所述准直遮光层还包括至少一透明单元，所述透明单元位于所述准直孔内。
[0014]进一步优选的，所述透明单元与所述准直遮光单元一体设置。
[0015]进一步优选的，所述光罩还包括位于所述准直遮光层与所述光罩主体之间的金属遮光层，所述金属遮光层包括至少一第三开口，一所述第一开口与一所述第三开口重合设置。
[0016]进一步优选的，所述准直遮光单元的透光率小于所述金属遮光层的透光率。
[0017]进一步优选的，所述准直遮光单元的厚度大于所述金属遮光层的厚度。
[0018]本技术有益效果：本技术通过在光罩主体的第一开口周围设置准直遮光单元，准直遮光单元的准直孔与第一开口对应重合，利用准直遮光单元对倾斜光线的遮挡，提高光线的准直性，提高了曝光精度，增强了图案化的解析力，提高了制作精度。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0020]图1是本技术实施例提供的光罩的第一种结构的俯视示意图；
[0021]图2是本技术实施例提供的光罩的第二种结构的俯视示意图；
[0022]图3是本技术实施例提供的光罩的第三种结构的俯视示意图；
[0023]图4是图1沿A1
‑
A2截面的结构示意图；
[0024]图5是图2沿B1
‑
B2截面的结构示意图；
[0025]图6是图1沿C1
‑
C2截面的第一种结构示意图；
[0026]图7是图1沿C1
‑
C2截面的第二种结构示意图；
[0027]图8是图1沿C1
‑
C2截面的第三种结构示意图；
[0028]图9是图1沿C1
‑
C2截面的第四种结构示意图。
具体实施方式
[0029]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本技术，并不用于限制本技术。在本技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
[0030]近些年，显示领域中的曝光显影技术要求的精度越来越高，曝光制程中，需要有光罩进行遮光，光罩上设置有开口，在光罩开口边缘附近的光强变化快，当曝光机的光线准直性较差时，对于开口边缘的光线会有斜向侵入，导致有多余曝光区域，尤其对于现行接近式曝光机光路过滤功能存在缺陷，照度损失70％以上，且图案化的解析不佳，经过后续图案化制程例如显影刻蚀等步骤后，最终呈现为图案化的解析力差，制作精度低。
[0031]请参阅图1至图8，本技术实施例提供一种光罩100，包括：
[0032]光罩主体200，包括至少一第一开口210；
[0033]准直遮光层300，位于所述光罩主体200的一侧，所述准直遮光层300包括至少一准直遮光单元310，所述准直遮光单元310包括一准直孔320；
[0034]其中，一所述准直遮光单元310围绕一所述第一开口210设置，在垂直于所述光罩主体200的方向上，一所述第一开口210与一所述准直孔320重合设置。
[0035]本技术通过在光罩主体200的第一开口210周围设置准直遮光单元310，准直遮光单元310的准直孔320与第一开口210对应重合，利用准直遮光单元310对倾斜光线的遮挡，提高光线的准直性，提高了曝光精度，增强了图案化的解析力，提高了制作精度。
[0036]现结合具体实施例对本技术的技术方案进行描述。
[0037]本实施例中，请参阅图1、图4，所述光罩100包括光罩主体200、及位于所述光罩主体200的一侧的准直遮光层300，所述光罩主体200包括至少一第一开口210，所述准直遮光层300包括至少一准直遮光单元310，所述准直遮光单元310包括一准直孔320，其中，一所述准直遮光单元310围绕一所述第一开口210设置，在所述光罩100的俯视方向上，一所述第一开口210与一所述准直孔320重合设置。
[0038]所述准直遮光单元310较厚，对应所述准直孔320较深，从而使光线在经过所述准直孔320后，斜向的光线被所述准直遮光单元310阻挡，类似于百叶窗的原理，垂直于所述光罩主体200的光线得以顺利透本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光罩，其特征在于，包括：光罩主体，包括至少一第一开口；准直遮光层，位于所述光罩主体的一侧，所述准直遮光层包括至少一准直遮光单元，所述准直遮光单元包括一准直孔；其中，一所述准直遮光单元围绕一所述第一开口设置，在垂直于所述光罩主体的方向上，一所述第一开口与一所述准直孔重合设置。2.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，第一截面垂直于所述光罩，在任一所述第一截面上，所述第一开口的宽度为L，所述第一开口的最大宽度为L
max
，所述准直遮光单元的厚度为H；其中，至少一所述准直孔满足以下关系：H≥L
max
tan2
°
。3.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述第一开口为矩形，所述矩形包括两个长边和两个短边，所述短边的长度为M，所述长边的长度为N，所述准直遮光单元的厚度为H；其中，N≥10M，所述准直孔满足以下关系：H≥Mtan2
°
。4.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈都，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：新型
国别省市：