一种二流体清洗平台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种二流体清洗平台，其包括净化棚、二流体清洗机构、移动平台和吸附平台；所述净化棚的内部设有排水工作台；所述移动平台固定于排水工作台的上表面；所述吸附平台设置在移动平台上，吸附平台包括吸附底板和进气块，吸附底板上设有若干组气体流道，进气块与气体流道一一对应且固定在吸附底板的下表面；所述二流体清洗机构固定在净化棚的顶部并位于吸附平台的上方，二流体清洗机构包括调节柱、安装板和超音速喷嘴，安装板与调节柱滑动连接，超音速喷嘴均匀地布置在安装板的下表面。本实用新型专利技术采用二流体清洗机构将高压气态流体和液态流体混合后喷出，能够去除零件上附着的超微小颗粒，零件表面清洁效果一致性好，清洗效率高。清洗效率高。清洗效率高。

【技术实现步骤摘要】
一种二流体清洗平台


[0001]本技术属于零件清洗设备领域，尤其涉及一种二流体清洗平台。

技术介绍

[0002]精密设备制造领域对零件的洁净程度要求较高，因为洁净度对产品的性能有着至关重要的影响。零件的基体表面污染物主要有尘埃粒子、纤维、油脂以及加工过程遗留的水迹、指纹等，现有生产工序主要采用分段转移纯水清洗。
[0003]传统的清洗设备如授权公告号为CN205380094U的中国专利公开的便于装配的清洗机，包括机体，安装在机体上并设有基准梁的抬起步伐输送机构，以基准梁为安装基准依次安装在机体上的射流清洗机构、高压清洗机构、定位清洗机构、翻转倒水机构、定位吹干机构、真空干燥机构。
[0004]上述清洗设备采用简单的纯水清洗，该清洗方式无法除净附着的超微小颗粒，存在效率低、耗能大等问题；大批量混合清洗时，基体表面洁净度一致性差。

技术实现思路

[0005]本技术提供了一种二流体清洗平台，以解决传统清洗装置无法除净附着的超微小颗粒的问题。
[0006]为解决上述技术问题，本技术提供的技术方案为：
[000本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种二流体清洗平台，其特征在于：其包括净化棚、二流体清洗机构、移动平台和吸附平台；所述的净化棚的内部设有排水工作台；所述的移动平台固定于排水工作台的上表面；所述的吸附平台设置在移动平台上，吸附平台包括吸附底板和进气块，吸附底板上设有若干组气体流道，进气块与气体流道一一对应且固定在吸附底板的下表面；所述的二流体清洗机构固定在净化棚的顶部并位于吸附平台的上方，二流体清洗机构包括调节柱、安装板和超音速喷嘴，安装板与调节柱滑动连接，超音速喷嘴均匀地布置在安装板的下表面。2.根据权利要求1所述的二流体清洗平台，其特征在于：所述移动平台包括X轴模组、Y轴模组和连接板，所述的X轴模组固定在排水工作台的上表面，Y轴模组设置在X轴模组的上方并与X轴模组滑动连接，连接板位于Y轴模组的上方并与Y轴模组滑动连接，所述吸附平台固定在连接板的上表面。3.根据权利要求1所述的二流体清洗平台，其特征在于：所述净化棚包...

【专利技术属性】
技术研发人员：何子强，朱伟杰，朱凡，
申请(专利权)人：杭州爱新凯科技有限公司，
类型：新型
国别省市：