【技术实现步骤摘要】
一种DDR3存储微模组的布线结构和方法
[0001]本专利技术属于先进电子封装
,具体属于一种DDR3存储微模组的布线结构和方法。
技术介绍
[0002]集成电路应用的多元化及芯片技术的快速发展,促使封装技术不断革新,满足系统微型化、多功能化的先进封装技术成为系统封装的重要手段。TSV即硅通孔技术(Through Silicon Via)极大的提升了先进封装水平。随着封装密度不断提高,封装厚度不断减小,二维封装技术的发展速度逐渐变缓,三维堆叠立体集成封装技术成为电子行业关注的热点。
[0003]在TSV三维堆叠系统中,复杂的互连结构导致信号在传输过程中存在失真现象。如因反射而产生过冲、下冲、延时、振铃等,因拓扑结构、串扰产生的数据传输错误等都会使系统无法正常工作。DDR3微模组中数据信号为点对点网络,走线模式单一,不存在因拓扑结构引起的信号完整性问题。地址、控制信号为多节点网络,多节点网络的拓扑结构很难保障阻抗连续性,为了满足DDR时序要求,保证DDR正常工作,需要在DDR布线上进行严格控制。对于PCB板级布线 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种DDR3存储微模组的布线结构,其特征在于,包括若干层硅基板(5);每层硅基板(5)里均埋置有DDR3芯片(2),若干层硅基板(5)从下往上依次堆叠形成DDR3存储微模组;所述DDR3芯片(2)外侧的硅基板(5)上设置有TSV孔(3),每层硅基板(5)上均设置有与下一层硅基板连接的层间信号连接引脚(1);DDR3芯片(2)通过信号线连接TSV孔(3),层间信号连接引脚(1)对应连接下层的TSV孔(3);最下层的硅基板(5)上设置有对外引脚(4),对外引脚(4)为DDR3存储微模组对外输出的信号连接点。2.根据权利要求1所述的一种DDR3存储微模组的布线结构,其特征在于,所述DDR3芯片均采用引线键合芯片。3.根据权利要求2所述的一种DDR3存储微模组的布线结构,其特征在于,所述DDR3芯片上引线键合点的一端的高度和硅基板的高度相同。4.根据权利要求2所述的一种DDR3存储微模组的布线结构,其特征在于,所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨巧,王艳玲,赵超,
申请(专利权)人:西安微电子技术研究所,
类型:发明
国别省市:
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