用于数字光刻的图像稳定化制造技术

本公开内容提供当存在包括子像素交叉扫描振动的交叉扫描振动时，用于校正从空间光调制器(SLM)到基板的图像的投射的方法和系统。这些方法和系统包括：偏移相对于基板上的横向扫描行进方向旋转的SLM上的掩模图案，沿着SLM的轴偏移以对交叉扫描振动进行校正，以及延迟或加速投射掩模图案到基板上。或加速投射掩模图案到基板上。或加速投射掩模图案到基板上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于数字光刻的图像稳定化
[0001]背景


[0002]本公开内容的实施方式一般涉及光刻系统。尤其是，本公开内容的实施方式涉及一种用于数字光刻(digital lithography)的图像稳定化的方法。

技术介绍

[0003]数字光刻广泛用于半导体器件的制造中，例如用于半导体器件以及显示设备的后端处理，显示设备例如是液晶显示器(LCD)和发光二极管(LED)显示器。例如，大面积的基板经常用于LCD的制造中。LCD或平板显示器常常用于有源矩阵显示器，例如计算机、触摸板装置、个人数字助理(PDA)、蜂窝电话、电视监视器和类似物。通常，平板显示器包括在每个像素处作为相变材料的一层液晶材料，夹在两个板之间。当横跨或穿过液晶材料施加来自电源的功率时，在像素位置处控制(即，选择性地调制)穿过液晶材料的光量，使得能够在显示器上产生图像。
[0004]利用常规的数字光刻系统可以利用一个或多个图像投影系统。每个图像投影系统被构造为用以将一个或多个写入束(write beam)投影到基板表面上的光刻胶层中。每个图像投影系统将一个或多个写入束投射到本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于数字光刻的图像稳定化的方法，包括以下步骤：在图像投影系统中提供空间光调制器(SLM)，所述空间光调制器相对于横向扫描方向以一个旋转角度定位，所述空间光调制器包括多个SLM像素；光栅化掩模图案以用于从所述SLM投影，所述掩模图案对应于所述多个SLM像素中的第一组SLM像素；在控制器处检测所述SLM与基板之间的交叉扫描振动，所述交叉扫描振动引起交叉扫描偏差；和响应于所述检测，将所述SLM内的所述掩模图案沿所述横向扫描方向偏移到第二组SLM像素，以对所述交叉扫描偏差进行校正。2.如权利要求1所述的方法，进一步包括以下步骤：向所述SLM提供辐射以用于将所述掩模图案投影到基板上，包括以下延迟和加速步骤之一：基于所述检测，延迟和加速向所述SLM提供所述辐射的时间。3.如权利要求1所述的方法，进一步包括以下步骤：通过将所述交叉扫描偏差除以所述旋转角度的正切值，来确定所述掩模图案沿着所述SLM的轴的偏移量。4.如权利要求3所述的方法，其中所述旋转角度是从0.5度到26度。5.如权利要求4所述的方法，其中所述SLM的所述角度为大约1度。6.一种用于数字光刻的系统，包括处理器和存储器，所述存储器包括用于图像稳定化的计算机可读指令，所述方法包括以下步骤：在图像投影系统中提供空间光调制器(SLM)，所述空间光调制器相对于横向扫描方向以一个旋转角度定位，所述空间光调制器包括多个SLM像素；光栅化掩模图案以用于从所述SLM投影，所述掩模图案对应于所述多个SLM像素中的第一组SLM像素；在控制器处检测所述SLM与基板之间的交叉扫描振动，所述交叉扫描振动引起交叉扫描偏差；和响应于所述检测，将所述SLM内的所述掩模图案沿所述横向扫描方向偏移到第二组SLM像素，以对所述交叉扫描偏差进行校正。7.如权利要求6所述的系统，所述方法进一步包括以下步骤...

【专利技术属性】
技术研发人员：托马斯，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：