【技术实现步骤摘要】
一种硅制品清洁生产方法
[0001]本专利技术涉及硅制品生产相关
，具体地说是涉及一种硅制品清洁生产方法。
技术介绍
[0002]高比表面积纳米二氧化硅(二氧化硅气凝胶粉体)是一种三维网状纳米孔结构的无机材料，其BET比表面积约为200～1500
㎡
/g，孔隙率高达60.0～99.9％，孔径在1～50nm(远低于空气的自由程70nm)，常温下的导热系数可低至0.018W/(m.k)以下，在热学、声学、力学、光学、电子学等方面，性能优异，拥有广阔的应用前景。
[0003]现有高比表面积纳米二氧化硅生产方法主要为以四氯化硅为原料的气相法和以硅酸乙酯为原料的溶胶凝胶法。
[0004]气相法又称燃烧法，其原料为四氯化硅、氧气和氢气，高温下反应而成，燃烧室内的反应有：SiCl4+2H2+O2→
SiO2+4HCl，2H2+O2→
2H2O。四氯化硅在高温下气化后，与一定量的氢和氧(或空气)在1800℃左右的高温下进行气相水解，此时生成的气相二氧化硅颗粒极细，与气体形成气溶胶，不易...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种硅制品清洁生产方法，其特征在于，其包括：对硅制品生产中产生的醇和/或氯化氢进行回收，再将回收的醇/或氯化氢用于生产硅制品，使得硅制品生产中产生的醇和/或氯化氢能够被循环利用。2.根据权利要求1所述的硅制品清洁生产方法，其特征在于，其包括：利用第一硅制品通过生产第二硅制品；并对第二硅制品生产过程中产生的醇进行回收，再将第二硅制品生产过程中回收的醇用于生产第一硅制品。3.根据权利要求2所述的硅制品清洁生产方法，其特征在于，其包括：利用第二硅制品生产过程中回收的醇和第三硅制品生产第一硅制品；并对第一硅制品生产过程中产生的氯化氢进行回收，再将第一硅制品生产过程中回收的氯化氢用于生产第四硅制品。4.根据权利要求3所述的硅制品清洁生产方法，其特征在于，其包括：利用第一硅制品生产过程中回收的氯化氢与硅粉生产第四硅制品，或者利用第一硅制品生产过程中回收的氯化氢与硅粉和第三硅制品生产第四硅制品；并对第四硅制品生产过程中产生的氯化氢进行回收，再将第四硅制品生产过程中回收的氯化氢用于生产第四硅制品；利用第四硅制品生产第三硅制品和第五硅制品；并对第五硅制品生产过程中产生的尾气进行回收，再将第五硅制品生产过程中回收的尾气用于生产第四硅制品和第五硅制品。5.根据权利要求4所述的硅制品清洁生产方法，其特征在于，第一硅制品为硅酸酯；第二硅制品为纳米二氧化硅；第三硅制品为四氯化硅；第四硅制品为三氯氢硅；第五硅制品为多晶硅、单晶硅或有机硅。6.根据权利要求4所述的硅制品清洁生产方法，其特征在于，其包括：对纳米二氧化硅和/或硅酸酯生产中产生的醇进行回收，并利用回收的醇生产硅酸酯和/或纳米二氧化硅；对纳米二氧化硅和/或硅酸酯生产中产生的氯化氢进行回收，并利用纳米二氧化硅和/或硅酸酯生产中回收的氯化氢生产四氯化硅、三氯氢硅、多晶硅、单晶硅或有机硅。7.根据权利要求6所述的硅制品清洁生产方法，其特征在于，其包括：对硅酸酯、四氯化硅、三氯氢硅、多晶硅、单晶硅或有机硅生产中产生的氯化氢进行回收，并利用硅制品生产中回收的氯化氢生产四氯化硅、三氯氢硅、多晶硅、单晶硅或有机硅；对四氯化硅、三氯氢硅、多晶硅、单晶硅或有机硅生产中产生的四氯化硅进行回收，并利用四氯化硅、三氯氢硅、多晶硅、单晶硅或有机硅生产中回收的四氯化硅生产硅酸酯、三氯氢硅、多晶硅、单晶硅或有机硅和/或纳米二氧化硅。8.根据权利要求7所述的硅制品清洁生产方法，其特征在于，纳米二氧化硅的生产包括如下步骤：酯化反应步骤，利用第四硅制品和/或第五硅制品生产中回收的四氯化硅和/或外部四氯化硅原料与纳米二氧化硅生产中回收的醇和/或外部醇原料进行酯化反应，生成硅酸酯并产生氯化氢气体；纯化步骤，将酯化反应步骤中产生的氯化氢气体进行纯化，经纯化后的氯化氢气体返回第四硅制品和/或第五硅制品生产中，去参与三氯氢硅的合成反应；水解/缩聚反应步骤，以酯化反应步骤中制得的硅酸酯和/或外部硅酸酯为原料进行水
解缩聚反应，制得高比表面积纳米二氧化硅；并将水解缩聚反应产生的醇进行回收并返回酯化反应步骤中，与四氯化硅进行反应制备硅酸酯；脱液步骤，将水解/缩聚反应步骤中制得的高比表面积纳米二氧化硅进行脱液，获得脱液后的高比表面积纳米二氧...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴梅，
申请(专利权)人：四川绿源聚能环保科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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