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一种电流路径调控型应力探测装置制造方法及图纸

技术编号:35610273 阅读:31 留言:0更新日期:2022-11-16 15:34
本实用新型专利技术涉及应力探测技术领域,具体涉及一种电流路径调控型应力探测装置,包括基底、弹性层、二维材料层、电极等。应用时,将基底粘附在待测物体上,待测物体中的应力通过基底、弹性层,带动二维材料层产生形变,改变二维材料层的导电特性,通过二维材料层导电特性的变化实现应力探测。在本实用新型专利技术中,二维材料层导电特性较少地受到基底温度的影响,测量结果准确。另外,待测物体应力不仅改变了二维材料层中的应力,而且改变了孔洞附近的介电分布,导致孔洞附近的电流路径发生变化,从而更多地改变了二维材料层的导电特性。因此,本实用新型专利技术能够实现更高灵敏度的应力探测,在应力探测领域具有良好的应用前景。探测领域具有良好的应用前景。探测领域具有良好的应用前景。

【技术实现步骤摘要】
一种电流路径调控型应力探测装置


[0001]本技术涉及应力探测
,具体涉及一种电流路径调控型应力探测装置。

技术介绍

[0002]在外因作用下,物体内部各部分之间会产生相互作用的内力。应力和应力的集中分布是压力容器、管道、叶片、飞行机构等承载结构失效的主要原因之一。研究材料或结构的应力分布及应力状态下材料的物理、化学方面的性质,能够预防工程应用中的损坏或失效。
[0003]应变贴片是常见的应力探测装置。应用时,将应变贴片贴在被探测的物体上,应变贴片随着被探测的物体一起伸缩,应变贴片中敏感金属随之产生伸长或收缩,导致敏感金属的导电特性变化,通过导体特性变化实现应变探测。
[0004]现有应变贴片的尺寸大、灵敏度低,难以准确测量微米级区域的应力。技术专利CN209166685U公开了一种应力探测装置:电极置于硅衬底上凹槽的两侧,二维层状材料片设置在电极上,二维层状材料片贴附在柔性衬底上。由于电极设置在硅衬底上,硅衬底的导电特性严重地依赖于其温度,被测物体的温度将严重影响应力探测的准确性;另外,由于二维层状材料片贴附在柔性衬底上本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电流路径调控型应力探测装置,其特征在于,包括基底、弹性层、二维材料层、电极,所述基底的表面设有凹槽,所述弹性层固定在所述基底的表面上,所述弹性层覆盖所述凹槽,所述二维材料层设置在所述弹性层上,所述二维材料层的宽度大于所述凹槽的长度,所述电极有两个,两个所述电极设置在所述二维材料层上所述凹槽的相对两侧,在所述凹槽的顶部,所述弹性层和所述二维材料层中设有贯穿的孔洞。2.如权利要求1所述的电流路径调控型应力探测装置,其特征在于:所述基底的材料为硅。3.如权利要求1所述的电流路径调控型应力探测装置,其特征在于:所述二维材料层为过渡金属硫属化合物。4.如权利要求3所述的电流路径调控...

【专利技术属性】
技术研发人员:庞凝黄洁向志丹温若澜杨俊王梦茹解宜原
申请(专利权)人:西南大学
类型:新型
国别省市:

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