本发明专利技术公开了一种用于LDS镭雕防尘的处理工艺，包括以下步骤：(1)将表面活性剂、增稠剂与无杂质纯水混合均匀，得到表面处理剂；(2)将LDS材料浸渍于步骤(1)制备的表面处理剂中，取出烘干在LDS材料表面形成保护薄膜，得到表面处理后的LDS材料；(3)将表面处理后的LDS材料进行镭雕处理，镭雕处理后去除LDS材料的保护薄膜，得到镭雕处理后的半成品，待进入后续工序。本发明专利技术通过自制表面处理剂对镭雕前的LDS材料进行表面处理，在材料表面形成保护薄膜，可有效降低LDS材料在镭雕过程中粉尘的吸附，且该薄膜易溶于水，通过去除保护薄膜进一步消除粉尘对后续工序的影响，大大提高了产品良率。率。率。
【技术实现步骤摘要】
一种用于LDS镭雕防尘的处理工艺
[0001]本专利技术涉及LDS镭雕
，具体涉及一种用于LDS镭雕防尘的处理工艺。
技术介绍
[0002]LDS镭雕是利用数控技术为基础，激光为加工媒介，使加工材料在激光照射下瞬间的熔化和气化的物理变性已达到加工目的。但因产品结构与天线设计的缺限，线路靠拢材料侧壁，镭雕时产生的粉尘无法及时的被抽风吸走，在靠近材料侧壁或结构不开阔的位置，因材料中含有金属粒子，在剥离主体时，产生静电，粉尘吸附在产品的线路附件上，在抽风作用下吸附粉尘无法完全去除。而这类粉尘中含有金属粒子，化镀前无法去除的粉尘将会上镀，从而影响外观和产品的功能异常。此外，部分产品本身主体偏小或结构复杂，在镭雕后清洁粉尘时，无法有效去除，且在清洁过程中线路主体受到影响的风险较大，从而影响化镀站的上镀效果。
[0003]目前业内用于去除粉尘的方法主要有以下两种：1.镭雕机外接烟尘机；2.安装大型的抽风设备并外接镭雕机，这类增加设备去除粉尘的方法成本较高，且使用过程中还需维护保养。更为关键的是，上述两种方法虽可改善粉尘吸附的问题，但由于产品结构以及天线设计上存在的缺陷，仍无法有效解决粉尘残留的问题，为进一步降低吸附的粉尘对上镀的影响，需要增加相关工站进行处理。因此，亟需一种可有效解决LDS镭雕过程中粉尘吸附的问题，降低生产成本的同时有效提高产品的良率。
技术实现思路
[0004]本专利技术要解决的技术问题是提供一种用于LDS镭雕防尘处理工艺，本专利技术通过自制的表面处理剂，在镭雕处理前的LDS材料上形成保护薄膜，该薄膜在镭雕过程中可有效减少静电粉尘的吸附，且在镭雕后通过水清洗的方式可有效去除保护薄膜以及残余的粉尘，从而有效解决粉尘上镀的问题。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术提供以下技术方案：
[0006]本专利技术第一方面提供了一种用于LDS镭雕防尘处理工艺，包括以下步骤：
[0007](1)将表面活性剂、增稠剂与无杂质纯净水混合均匀，得到表面处理剂；所述表面活性剂包含脂肪酸盐、磺酸盐类、硫酸酯盐及磷酸酯盐；
[0008](2)将LDS材料浸渍于步骤(1)制备的表面处理剂中，取出烘干在LDS材料表面形成保护薄膜，得到表面处理后的LDS材料；
[0009](3)将表面处理后的LDS材料进行镭雕处理，镭雕处理后去除LDS材料的表面薄膜，得到镭雕处理后的半成品，待进入后续工序。
[0010]进一步地，步骤(1)中，所述表面活性剂、增稠剂与无杂质纯净水的质量比为1～1.5:1～1.5:5～7。
[0011]进一步地，所述表面活性剂、增稠剂与无杂质纯净水的质量比优选为1:1:6。
[0012]在本专利技术的一些实施例中，所述表面处理剂由100g表面活性剂、100g增稠剂与
600g无杂质纯净水混合均匀得到。
[0013]进一步地，步骤(1)中，所述脂肪酸盐为羊毛脂脂肪酸钙盐、硬脂酸钠盐、硬脂酸钾盐、椰油酸二乙醇酰胺、油酸失水山梨醇酯中的一种或多种。
[0014]进一步地，步骤(1)中，所述磺酸盐为烷基苯磺酸盐、α
‑
烯烃磺酸盐、烷基磺酸盐、α
‑
磺基单羧酸酯、脂肪酸磺烷基酯、琥珀酸酯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、石油磺酸盐、木质素磺酸盐、烷基甘油醚磺酸盐中的一种或多种。
[0015]进一步地，步骤(1)中，所述硫酸酯盐为烷基硫酸盐、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐、甘油脂肪酸酯硫酸盐、硫酸化蓖麻酸钠、环烷硫酸钠、脂肪酰氨烷基硫酸钠中的一种或多种。
[0016]进一步地，步骤(1)中，所述磷酸酯盐为烷基磷酸单酯盐、烷基磷酸双酯盐、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸单酯盐、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸双酯盐、烷基酚聚氧乙烯醚磷酸单酯盐、烷基酚聚氧乙烯醚磷酸双酯盐中的一种或多种。
[0017]进一步地，步骤(1)中，所述增稠剂为聚乙二醇，其分子量为600
‑
900g/mol，例如PEG800。
[0018]进一步地，步骤(1)中，所述无杂质纯净水通过将原水纯化净化处理得到；所述纯化净化处理具体为：将原水依次经过多介质过滤器过滤、活性炭过滤器过滤、软水器软化、精密过滤器过滤、第一级反渗透处理后调节pH进入中间水箱，再经过第二级反渗透处理、纯化水箱纯化以及微孔过滤器过滤后得到所述无杂质纯净水。
[0019]进一步地，步骤(1)中，所述无杂质纯水的电导率为2～8US/cm。
[0020]进一步地，步骤(2)中，所述LDS材料为内含有机金属复合物的改性塑胶。
[0021]进一步地，步骤(2)中，所述浸渍的时间为25～35min，例如30min。
[0022]进一步地，步骤(2)中，所述烘干的温度为70～80℃，时间为25～35min。
[0023]进一步地，步骤(3)中，将镭雕后的LDS材料在化镀站进行超声清洗去除表面保护薄膜，得到镭雕处理后的半成品。
[0024]进一步地，所述超声清洗的清洗溶液为水。
[0025]与现有技术相比，本专利技术的有益效果在于：
[0026]1.对因产品结构与天线设计的缺限，线路靠拢材料侧壁，镭雕时产生的粉尘无法及时有效的被抽风吸走的问题，本专利技术在镭雕前采用自制的表面处理剂对LDS材料进行预处理，在LDS材料表面形成全包覆的保护薄膜，该薄膜可降低在镭雕过程中产生的静电粉尘吸附，且由于薄膜表面光滑，吸附的粉尘易被抽风吸走；此外，上述保护薄膜易溶于水，将镭雕后的产品经过超声波水洗，产品表面的粉尘进一步随着保护膜的溶解而去除，从而解决了粉尘上镀影响产品外观或功能的问题，有效提高产品的良率。
[0027]2.本专利技术所述LSD镭雕粉尘去除工艺，较之现有技术，有效降低了镭雕后清洁粉尘的成本以及化镀站清溢镀的成本。此外，上述工艺适用于结构复杂以及主体较小的产品，解决了这类产品不具备生产或生产效率低下的问题。
附图说明
[0028]图1为实施例1制备的表面处理剂；
[0029]图2为入耳蓝牙耳机未经药剂浸泡直接镭雕后侧壁的图片(A)，经药剂浸泡后镭雕后侧壁的图片(B)；
[0030]图3为3501机壳未经药剂浸泡直接镭雕后的图片(A)，经药剂浸泡后镭雕后的图片(B)；
[0031]图4为中框1083未经药剂浸泡直接镭雕走线后的图片(A)，经药剂浸泡后镭雕走线后的图片(B)。
具体实施方式
[0032]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0033]下面结合附图及具体实施例对本专利技术作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好地理解本专利技术并能予以实施，但所举实施例不作为对本专利技术的限定。
[0034]下述实施例及对比例中使用的表面活性剂的产品信息如下：
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于LDS镭雕防尘的处理工艺，其特征在于，包括以下步骤：(1)将表面活性剂、增稠剂与无杂质纯净水混合均匀，得到表面处理剂；所述无杂质纯净水的电导率为2～8US/cm；所述表面活性剂包含脂肪酸盐、磺酸盐、硫酸酯盐及磷酸酯盐；(2)将LDS材料浸渍于步骤(1)制备的表面处理剂中，取出烘干在LDS材料表面形成保护薄膜，得到表面处理后的LDS材料；(3)将表面处理后的LDS材料进行镭雕处理，镭雕处理后去除LDS材料的保护薄膜，得到镭雕处理后的半成品，待进入后续工序。2.根据权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，步骤(1)中，所述表面活性剂、增稠剂与无杂质纯净水的质量比为1～1.5:1～1.5:5～7。3.根据权利要求2所述的处理工艺，其特征在于，所述表面活性剂、增稠剂与无杂质纯净水的质量比为1:1:6。4.根据权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述脂肪酸盐为羊毛脂脂肪酸钙盐、硬脂酸钠盐、硬脂酸钾盐、椰油酸二乙醇酰胺、油酸失水山梨醇酯中的一种或多种；所述磺酸盐为烷基苯磺酸盐、α
‑
烯烃磺酸盐、烷基磺酸盐、α
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磺基单羧酸酯、脂肪酸磺烷基酯、琥珀酸酯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、石油磺酸盐、木质素磺酸盐、烷基甘油醚磺酸盐中的一种或多种；所述硫酸酯盐为烷基硫酸盐、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐、甘油脂肪酸酯硫酸盐、硫酸化蓖麻酸钠、环烷硫酸钠、脂肪酰氨烷基硫酸钠中的...
【专利技术属性】
技术研发人员：王咏，王江坡，
申请(专利权)人：苏州同拓光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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