一种修复烘焙模型烘焙颜色的方法、系统及计算机可读存储介质技术方案

本发明专利技术提供一种修复烘焙模型烘焙颜色的方法、系统及计算机可读存储介质，其中该方法包括：在运行软件中运行待修复烘焙模型，获取所述待修复烘焙模型的纹理坐标值，根据所述待修复烘焙模型的纹理坐标值确定所述待修复烘焙模型中纹理坐标过小的纹理坐标块，对所述坐标块进行处理，获得修复后的烘焙模型。该方法可自动筛选出待修复模型中的纹理坐标过小的UV块，并对筛选出的UV块进行处理，消除模型中因纹理坐标过小导致颜色变黑的缺陷，提高了烘焙效果。焙效果。焙效果。

【技术实现步骤摘要】
一种修复烘焙模型烘焙颜色的方法、系统及计算机可读存储介质


[0001]本专利技术涉及烘焙贴图
，尤其涉及一种修复烘焙模型的方法、系统及计算机可读存储介质。

技术介绍

[0002]3D游戏引擎中的渲染使用模型的第二套纹理坐标来存储光照信息贴图的位置。纹理坐标指的是模型上每个顶点中包含的对应某个贴图上横纵坐标范围的信息，通常用英文字母UV表示。在烘焙光照贴图的时候，往往出现一些地方很黑的现象，经调查分析其原因在于某些面的纹理坐标过小导致的。如果纹理坐标过小，在遇到光照贴图不够大的情况下，就会导致一个像素中可能直接包含了一整个面，甚至是多个面的情况，从而导致一个像素被计算了多次。目前还没有自动处理的工具和方法可以解决上述问题。

技术实现思路

[0003]本专利技术所要解决的技术问题在于，提供一种修复烘焙模型烘焙颜色的方法、系统及计算机可读存储介质，以解决现有技术中烘焙光照贴图中由于某些面纹理坐标过小导致烘焙颜色黑的缺陷。
[0004]本专利技术第一方面提供一种修复烘焙模型烘焙颜色的方法，包括：
[0005]在运行软件中运行待修复烘焙模型，获取所述待修复烘焙模型的纹理坐标值，根据所述待修复烘焙模型的纹理坐标值确定所述待修复烘焙模型中纹理坐标过小的纹理坐标块；
[0006]对所述坐标块进行处理，获得修复后的烘焙模型。
[0007]在一具体实施方式中，所述方法还包括：
[0008]确定所述待修复烘焙模型中烘焙纹理占据纹理贴图的高度预设值和宽度预设值，根据所述高度预设值和宽度预设值确定单像素在纹理坐标空间中的宽度值和高度值。
[0009]在一具体实施方式中，所述根据所述待修复烘焙模型的纹理坐标值确定所述待修复烘焙模型中纹理坐标过小的纹理坐标块具体包括：
[0010]在UV坐标系下，判断横轴方向上每个纹理坐标面的包围盒的宽度值是否小于单像素宽度值，若是，则将所述纹理坐标面所在的纹理坐标块确定为所述待修复烘焙模型中纹理坐标过小的纹理坐标块。
[0011]在一具体实施方式中，所述根据所述待修复烘焙模型的纹理坐标值确定所述待修复烘焙模型中纹理坐标过小的纹理坐标块具体包括：
[0012]在UV坐标系下，判断纵轴方向上每个纹理坐标面的包围盒的高度值是否小于单像素高度值，若是，则将所述纹理坐标面所在的纹理坐标块确定为所述待修复烘焙模型中纹理坐标过小的纹理坐标块。
[0013]在一具体实施方式中，所述根据所述待修复烘焙模型的纹理坐标值确定所述待修
复烘焙模型中纹理坐标过小的纹理坐标块具体包括：
[0014]在UV坐标系下，判断横轴方向上每个纹理坐标面的包围盒的宽度值是否小于单像素宽度值以及判断纵轴方向上每个纹理坐标面的包围盒的高度值是否小于单像素高度值，若所述纹理坐标面的包围盒的宽度值小于单像素宽度值和/或每个纹理坐标面的包围盒的高度值小于单像素高度值，则将所述纹理坐标面所在的纹理坐标块确定为所述待修复烘焙模型中纹理坐标过小的纹理坐标块。
[0015]在一具体实施方式中，所述对所述坐标块进行处理，获得修复后的烘焙模型具体包括：
[0016]对于任意一个纹理坐标过小的纹理坐标块，选中所述任意一个纹理坐标过小的纹理坐标块并对所述选中的纹理坐标块中的纹理坐标面进行缩放，直至所述选中的纹理坐标块中的纹理坐标面满足预设条件；
[0017]根据缩放处理后的纹理坐标块获得所述修复后的烘焙模型。
[0018]在一具体实施方式中，所述对于任意一个纹理坐标过小的纹理坐标块，选中所述任意一个纹理坐标过小的纹理坐标块并对所述选中的纹理坐标块中的纹理坐标面进行缩放，直至所述纹理坐标面满足预设条件具体包括：
[0019]选中所述待修复模型中任意一个纹理坐标过小的纹理坐标块并确定所述选中的纹理坐标块中像素最小的纹理坐标面；
[0020]分别从横轴方向和纵轴方向对所述选中的纹理坐标块的纹理坐标面进行缩放，直至所述像素最小的纹理坐标面的宽度值等于所述单像素的宽度值，所述像素最小的纹理坐标面的高度值等于所述单像素的高度值。
[0021]在一具体实施方式中，所述对于任意一个纹理坐标过小的纹理坐标块，选中所述任意一个纹理坐标过小的纹理坐标块并对所述选中的纹理坐标块中的纹理坐标面进行缩放，直至所述纹理坐标面满足预设条件具体包括：
[0022]选中所述待修复模型中任意一个纹理坐标过小的纹理坐标块并确定所述选中的纹理坐标块中横向坐标方向上宽度值最小的纹理坐标面；
[0023]对所述选中的纹理坐标块中的纹理坐标面进行等比缩放，直至所述横向坐标方向上宽度值最小的纹理坐标面的包围壳的短边放大到所述单像素对应的宽度值。
[0024]在一具体实施方式中，所述对于任意一个纹理坐标过小的纹理坐标块，选中所述任意一个纹理坐标过小的纹理坐标块并对所述选中的纹理坐标块中的纹理坐标面进行缩放，直至所述纹理坐标面满足预设条件具体包括：
[0025]选中所述待修复烘焙模型中任意一个纹理坐标过小的纹理坐标块并确定所述选中的纹理坐标块中纵向坐标方向上高度值最小的纹理坐标面；
[0026]对所述选中的纹理坐标块中的纹理坐标面进行等比缩放，直至所述纵向坐标方向上高度值最小的纹理坐标面的包围壳的短边放大到所述单像素对应的高度值。
[0027]在一具体实施方式中，所述根据缩放处理后的纹理坐标块获得所述修复后的烘焙模型具体包括：
[0028]对完成缩放后的纹理坐标块进行排布，获得所述修复后的烘焙模型。
[0029]本专利技术第二方面提供一种修复烘焙模型烘焙颜色的系统，包括：
[0030]纹理坐标块筛选单元，用于在运行软件中运行待修复烘焙模型，获取所述待修复
烘焙模型的纹理坐标值，根据所述待修复烘焙模型的纹理坐标值确定所述待修复烘焙模型中纹理坐标过小的纹理坐标块；
[0031]处理单元，用于对所述坐标块进行处理，获得修复后的烘焙模型。
[0032]本专利技术第三方面提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现前述方法的步骤。
[0033]本专利技术实施例的有益效果在于：通过获取待修复烘焙模型中的纹理坐标值，根据该纹理坐标值自动筛选出模型中纹理坐标过小的UV块，并对纹理坐标过小的UV块进行缩放和重新排布，最后均匀地形成纹理坐标分布。该方法可自动筛选出待修复模型中的纹理坐标过小的UV块，并对筛选出的UV块进行处理，消除模型中因纹理坐标过小导致颜色变黑的缺陷，提高了烘焙效果。
附图说明
[0034]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0035]图1是本专利技术实施例一种修复烘焙模型烘焙颜色的方法的流程示意图；
[0036]图2是本专利技术实本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种修复烘焙模型烘焙颜色的方法，其特征在于，包括：在运行软件中运行待修复烘焙模型，获取所述待修复烘焙模型的纹理坐标值，根据所述待修复烘焙模型的纹理坐标值确定所述待修复烘焙模型中纹理坐标过小的纹理坐标块；对所述坐标块进行处理，获得修复后的烘焙模型。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：在所述运行软件中设置所述待修复烘焙模型中烘焙纹理占据纹理贴图的高度预设值和宽度预设值，根据所述高度预设值和宽度预设值确定单像素在纹理坐标空间中的宽度值和高度值。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述待修复烘焙模型的纹理坐标值确定所述待修复烘焙模型中纹理坐标过小的纹理坐标块具体包括：在UV坐标系下，判断横轴方向上每个纹理坐标面的包围盒的宽度值是否小于单像素宽度值，若是，则将所述纹理坐标面所在的纹理坐标块确定为所述待修复烘焙模型中纹理坐标过小的纹理坐标块。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述待修复烘焙模型的纹理坐标值确定所述待修复烘焙模型中纹理坐标过小的纹理坐标块具体包括：在UV坐标系下，判断纵轴方向上每个纹理坐标面的包围盒的高度值是否小于单像素高度值，若是，则将所述纹理坐标面所在的纹理坐标块确定为所述待修复烘焙模型中纹理坐标过小的纹理坐标块。5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述待修复烘焙模型的纹理坐标值确定所述待修复烘焙模型中纹理坐标过小的纹理坐标块具体包括：在UV坐标系下，判断横轴方向上每个纹理坐标面的包围盒的宽度值是否小于单像素宽度值以及判断纵轴方向上每个纹理坐标面的包围盒的高度值是否小于单像素高度值，若所述纹理坐标面的包围盒的宽度值小于单像素宽度值和/或每个纹理坐标面的包围盒的高度值小于单像素高度值，则将所述纹理坐标面所在的纹理坐标块确定为所述待修复烘焙模型中纹理坐标过小的纹理坐标块。6.根据权利要求3
‑
5中任一项所述的方法，其特征在于，所述对所述坐标块进行处理，获得修复后的烘焙模型具体包括：对于任意一个纹理坐标过小的纹理坐标块，选中所述任意一个纹理坐标过小的纹理坐标块并对所述选中的纹理坐标块中的纹理坐标面进行缩放直至缩放，直至所述选中的纹理坐标块中的纹理坐标面满足预设条件；根据缩放处理后的纹理坐标块获得所述修复后的烘焙模型。7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述对于任意一个纹理坐标过小的纹理...

【专利技术属性】
技术研发人员：谈欣诚，杜恺恩，
申请(专利权)人：盛趣信息技术上海有限公司，
类型：发明
国别省市：