负型抗蚀剂组合物制造技术

本发明专利技术的课题在于提供一种用于制造波长440nm的光的透射率高的滤色器的负型抗蚀剂组合物。本发明专利技术的负型抗蚀剂组合物包含着色剂和树脂，上述着色剂含有呫吨染料，由上述负型抗蚀剂组合物形成的固化膜的分光光谱满足下述条件1。[条件1]在波长范围500nm～580nm具有极大吸收波长，将该波长处的透射率设为5％时，波长440nm处的透射率为80％以上，且波长620nm处的透射率为80％以上。的透射率为80％以上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】负型抗蚀剂组合物


[0001]本专利技术涉及一种负型抗蚀剂组合物。

技术介绍

[0002]为了制造液晶显示装置等中使用的滤色器，使用着色组合物。作为这样的着色组合物，已知有包含喹吖啶酮系颜料的着色组合物(专利文献1)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2019－109487号公报

技术实现思路

[0006]迄今为止已知通过使蓝色与红色混合而得到洋红色。但是，以往的洋红色的滤色器中，波长440nm的光的透射率并不充分。本专利技术的目的在于提供一种用于制造波长440nm的光的透射率高的滤色器的负型抗蚀剂组合物。
[0007]本专利技术包含以下专利技术。
[0008][1]一种负型抗蚀剂组合物，其特征在于，包含着色剂和树脂，
[0009]上述着色剂含有呫吨染料，
[0010]由上述负型抗蚀剂组合物形成的固化膜的分光光谱满足下述条件1。
[0011][条件1][0012]在波长范围500nm～580nm具有极大吸收波长，将该波长处的透射率设为5％时，波长440nm处的透射率为80％以上，且波长620nm处的透射率为80％以上。
[0013][2]根据[1]所述的负型抗蚀剂组合物，其中，上述波长620nm处的透射率为90％以上。
[0014][3]根据[1]或[2]所述的负型抗蚀剂组合物，其中，上述呫吨染料为式(I)表示的化合物。
[0015][0016][式(I)中，R1～R4各自独立地表示氢原子、可具有取代基的碳原子数1～20的一价饱和烃基、或可具有取代基的碳原子数6～20的一价芳香族烃基，该饱和烃基中包含的－CH2－可以被－O－、－CO－或－NR
11
－取代。
[0017]R5表示－OH、－SO3‑
、－SO3H、－SO3‑
Z
+
、－CO2H、－CO2‑
Z
+
、－CO2R8、－SO3R8、或－
SO2NR9R
10
。
[0018]R6和R7各自独立地表示氢原子或碳原子数1～6的烷基。
[0019]m表示0～5的整数。m为2以上时，多个R5可以相同或不同。
[0020]a表示0或1的整数。
[0021]X表示卤素原子。
[0022]Z
+
表示
+
N(R
11
)4、Na
+
、或K
+
，4个R
11
可以相同或不同。
[0023]R8表示碳原子数1～20的一价饱和烃基，该饱和烃基中包含的氢原子可以被卤素原子取代。
[0024]R9和R
10
各自独立地表示氢原子或可具有取代基的碳原子数1～20的一价饱和烃基，该饱和烃基中包含的－CH2－可以被－O－、－CO－、－NH－、或－NR8－取代，R9和R
10
可以键合并与邻接的氮原子一起形成三～十元环的杂环。
[0025]R
11
表示氢原子、碳原子数1～20的一价饱和烃基、或碳原子数7～10的芳烷基。][0026][4]根据[3]所述的负型抗蚀剂组合物，其中，上述呫吨染料为式(Ia)和/或式(Ib1)表示的化合物。
[0027][0028][式(Ia)中，
[0029]R
a1
和R
a4
各自独立地为可以具有2个以下的碳原子数1～4的一价饱和脂肪族烃基的一价芳香族烃基。
[0030]R
a2
和R
a3
各自独立地为氢原子、甲基、或乙基。
[0031]R5～R7、m、a和X表示与上述相同的含义。][0032][0033][式(Ib1)中，R
b1
～R
b4
各自独立地表示氢原子、可具有取代基的碳原子数1～20的一价饱和烃基、或可具有取代基的碳原子数6～20的一价芳香族烃基，
[0034]R
b1
～R
b4
中包含的至少一个饱和烃基或芳香族烃基具有卤素原子、－OH、－OR8、－CO2H、－CO2R8、－SO3‑
、－SO3H、－SO3‑
Z
+
、－SR8、－SO2R8、－SO3R8、－SO2NR9R
10
、或－Si(OR
12
)(OR
13
)(OR
14
)作为取代基，或者R
b1
～R
b4
中包含的至少一个芳香族烃基具有3个以上的碳原子
数1～4的一价饱和脂肪族烃基作为取代基，
[0035]R
12
、R
13
和R
14
各自独立地表示碳原子数1～4的一价饱和烃基，该饱和烃基中包含的氢原子可以被卤素原子取代，
[0036]R5～R
10
、m、a和X表示与上述相同的含义。][0037][5]根据[4]所述的负型抗蚀剂组合物，其中，上述呫吨染料为选自上述式(Ib1)表示的化合物中的2种以上的组合、或者上述式(Ib1)表示的化合物与上述式(Ia)表示的化合物的组合。
[0038][6]根据[1]～[5]中任一项所述的负型抗蚀剂组合物，其中，上述着色剂仅为染料，或者为染料与红色颜料或紫色颜料的组合。
[0039][7]根据[1]～[6]中任一项所述的负型抗蚀剂组合物，其中，进一步包含聚合性化合物和聚合引发剂。
[0040][8]根据[1]～[7]中任一项所述的负型抗蚀剂组合物，其中，能够形成膜厚为1.5μm以下的固化膜。
[0041][9]一种滤色器，是由[1]～[8]中任一项所述的负型抗蚀剂组合物形成的。
[0042][10]一种显示装置，包含[9]所述的滤色器。
[0043]由本专利技术的负型抗蚀剂组合物而得到波长440nm的光的透射率高的滤色器。
具体实施方式
[0044]＜负型抗蚀剂组合物＞
[0045]本专利技术的负型抗蚀剂组合物为包含着色剂(A)和树脂(C)的负型抗蚀剂组合物，着色剂(A)含有呫吨染料，由负型抗蚀剂组合物形成的固化膜的分光光谱满足下述条件1。
[0046][条件1][0047]在波长范围500nm～580nm具有极大吸收波长，将该波长处的透射率设为5％时，波长440nm处的透射率为80％以上，且波长620nm处的透射率为80％以上。
[0048]通过上述构成而得到波长440nm的光的透射率高的洋红色的滤色器。负型抗蚀剂组合物是指具有通过曝光部在显影液中的溶解性降低而使曝光部在显影后残留的性质的抗蚀剂。另外，负型抗蚀剂组合物与曝光部在显影液中的溶解性高的正型抗蚀剂组合物相比，存在用于将图案修饰到所期望的尺寸范围的从曝光到显影的工艺条件的范围较宽的趋势，因而优选本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种负型抗蚀剂组合物，其特征在于，包含着色剂和树脂，所述着色剂含有呫吨染料，由所述负型抗蚀剂组合物形成的固化膜的分光光谱满足下述条件1，条件1：在波长范围500nm～580nm具有极大吸收波长，将该波长处的透射率设为5％时，波长440nm处的透射率为80％以上，且波长620nm处的透射率为80％以上。2.根据权利要求1所述的负型抗蚀剂组合物，其中，所述波长620nm处的透射率为90％以上。3.根据权利要求1或2所述的负型抗蚀剂组合物，其中，所述呫吨染料为式(I)表示的化合物，式(I)中，R1～R4各自独立地表示氢原子、可具有取代基的碳原子数1～20的一价饱和烃基、或可具有取代基的碳原子数6～20的一价芳香族烃基，该饱和烃基中包含的－CH2－可以被－O－、－CO－或－NR
11
－取代，R5表示－OH、－SO3‑
、－SO3H、－SO3‑
Z
+
、－CO2H、－CO2‑
Z
+
、－CO2R8、－SO3R8、或－SO2NR9R
10
，R6和R7各自独立地表示氢原子或碳原子数1～6的烷基，m表示0～5的整数，m为2以上时，多个R5可以相同或不同，a表示0或1的整数，X表示卤素原子，Z
+
表示
+
N(R
11
)4、Na
+
、或K
+
，4个R
11
可以相同或不同，R8表示碳原子数1～20的一价饱和烃基，该饱和烃基中包含的氢原子可以被卤素原子取代，R9和R
10
各自独立地表示氢原子或可具有取代基的碳原子数1～20的一价饱和烃基，该饱和烃基中包含的－CH2－可以被－O－、－CO－、－NH－、或－NR8－取代，R9和R
10
可以键合并与邻接的氮原子一起形成三～十元环的杂环，R
11
表示氢原子、碳原子数1～20的一价饱和烃基、或碳原子数7～10的芳烷基。4.根据权利要求3所述的负型抗蚀剂组合物，其中，所述呫吨染料为式(Ia)和/或式(Ib1)表示的化合物，
式(Ia)中，R
a1
和R<...

【专利技术属性】
技术研发人员：中山智博，赤坂哲郎，青木拓磨，宫泽拓，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：