【技术实现步骤摘要】
一种发光元件、发光元件的制造方法以及显示面板
[0001]本申请涉及显示领域,特别涉及一种发光元件、发光元件的制造方法以及显示面板。
技术介绍
[0002]QNED显示屏采用量子纳米电池发光二极管(Quantum Nano Cell Emiting Diode,QNED),是在将纳米级的半导体颗粒量子点和氮发光二极管(GaN LED)技术上的衍生品,理论上具有长寿命、高亮度、低功耗和除燃等优势。在QNED结构中需要将LED横放在基板上,也就是说LED的堆叠方向与QNED器件的堆叠方向相垂直。然而,这样LED结构的出光面仅为发光层的侧表面,出光面积小,显示亮度低。
技术实现思路
[0003]有鉴于此,本申请的目的在于提供一种发光元件、发光元件的制造方法以及显示面板,可以增大出光面积,增大垂直出光占比,提高显示亮度。其具体方案如下:
[0004]第一方面,本申请提供了一种发光元件,包括在第一方向上依次堆叠的第一半导体结构、第一发光层和第二半导体结构;
[0005]所述第一半导体结构和所述第二半导体结构中包括导电元素;
[0006]所述第一发光层所在平面与所述第一方向之间的夹角小于90
°
。
[0007]第二方面,本申请实施例还提供了一种发光元件的制造方法,包括:
[0008]提供基底;
[0009]在所述基底上依次形成第一半导体结构、第一发光层和第二半导体结构;所述第一半导体结构和所述第二半导体结构中包括导电元素;所述第一发光层所在平面与第 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种发光元件,其特征在于,包括在第一方向上依次堆叠的第一半导体结构、第一发光层和第二半导体结构;所述第一半导体结构和所述第二半导体结构中包括导电元素;所述第一发光层所在平面与所述第一方向之间的夹角小于90
°
。2.根据权利要求1所述的发光元件,其特征在于,还包括:位于所述第一发光层和所述第二半导体结构之间的第三半导体结构,以及位于所述第三半导体结构和所述第二半导体结构之间的第二发光层;所述第二发光层所在平面与所述第一方向之间的夹角小于90
°
。3.根据权利要求2所述的发光元件,其特征在于,在第一平面内,所述第一发光层的正投影和所述第二发光层的正投影之间的距离大于或等于0;所述第一平面与所述第一方向平行,且与所述第一发光层所在平面之间的夹角,等于所述第一发光层所在平面和所述第一方向之间的夹角。4.根据权利要求3所述的发光元件,其特征在于,所述第一发光层中朝向所述第一方向的一端,与所述第二发光层中朝向所述第一方向的一端,位于所述发光元件的不同侧。5.根据权利要求4所述的发光元件,其特征在于,所述第一发光层所在平面和所述第一方向之间的夹角,与所述第二发光层所在平面和所述第一方向之间的夹角相等。6.根据权利要求3所述的发光元件,其特征在于,所述第一发光层中朝向所述第一方向的一端,与所述第二发光层中朝向所述第一方向的一端,位于所述发光元件的同一侧。7.根据权利要求2所述的发光元件,其特征在于,所述第一发光层的两个表面分别与所述第一半导体结构和第三半导体结构接触,所述第二发光层的两个表面分别与所述第二半导体结构和所述第三半导体结构接触,所述第一半导体结构和所述第三半导体结构的导电类型相反,所述第一半导体结构和所述第二半导体结构的导电类型相同。8.根据权利要求1所述的发光元件,其特征在于,所述第一发光层的两个表面分别与所述第一半导体结构和所述第二半导体结构接触,所述第一半导体结构和所述第二半导体结构的导电类型相反。9.根据权利要求1
‑
8任一项所述的发光元件,其特征在于,所述第一发光层所在平面与所述第一方向之间的夹角大于45
°
,和/或,所述第二发光层所在平面与所述第一方向之间的夹角大于45
°
。10.根据权利要求9所述的发光元件,其特征在于,所述第一发光层所在平面与所述第一方向之间的夹角大于80
°
,和/或,所述第二发光层所在平面与所述第一方向之间的夹角大于80
°
。11.根据权利要求1
‑
8任一项所述的发光元件,其特征在于,所述发光元件构成圆柱状结构或棱柱状结构,所述第一半导体结构背离所述第一发光层的一侧表面和所述第二半导体结构背离所述第一发光层一侧的表面平行。12.根据权利要求1
‑
8任一项所述的发光元件,其特征在于,所述第一发光层在垂直表面所在平面的方向上的尺寸大于10nm且小于1um。13.根据权利要求1
‑
8任一项所述的发光元件,其特征在于,所述发光元件在垂直所述第一方向的方向上的尺寸大于1um且小于10um。14.一种发光元件的制造方法,其特征在于,包括:
提供基底;在所述基底上依次形成第一半导体结构、第一发光层和第二半导体结构;所述第一半导体结构和所述第二半导体结构中包括导电元素;所述第一发光层所在平面与第一方向之间的夹角小于90
°
;所述第一方向沿所述第一半导体结构、所述第一发光层和所述第二半导体结构的堆叠方向;去除所述基底后,沿所述第一方向...
【专利技术属性】
技术研发人员:鄢杰林,盛晨航,
申请(专利权)人:上海天马微电子有限公司,
类型:发明
国别省市:
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