一种基于MicroOLED的激光修复系统及修复方法技术方案

本发明专利技术涉及一种基于MicroOLED的激光修复系统及修复方法，基于MicroOLED的激光修复系统用于修复MicroOLED上的亮点缺陷像素，MicroOLED从上至下依次堆叠设有Lens层、封装层、彩膜层、IZO阴极层；激光修复系统包括依次设置的纳秒激光装置、扫描机构、聚焦机构；聚焦机构中设有多个聚焦镜片；纳秒激光装置用于发出激光束，扫描机构用于对激光束补偿位置，聚焦机构用于对激光束进行聚焦形成加工光斑，加工光斑用于依次对亮点缺陷像素所在区域的Lens层、封装层、彩膜层进行碳化。通过上述技术方案，可解决MicroOLED中单个像素的亮点缺陷修复良率低、易损伤其他周围像素的问题。易损伤其他周围像素的问题。易损伤其他周围像素的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种基于Micro OLED的激光修复系统及修复方法


[0001]本专利技术涉及Micro OLED激光修复
，尤其是指一种基于Micro OLED的激光修复系统及修复方法。

技术介绍

[0002]目前，在Micro OLED制程中，OLED会产生亮点、闪点、碎亮点等常见亮点缺陷。一般采用激光对显示屏的阴极层进行碳化，从而打灭异常亮点、实现缺陷修复。
[0003]在Micro OLED工艺中，为了提高亮度，OLED中最近开发了Lens和IZO电极，并应用在OLED批量生产中。
[0004]由于Micro OLED的像素尺寸非常微小(通常都小于5um)，而且阴极之下存在所有像素的公共膜层及IZO电极。当进行碳化时，只完全碳化单个像素的阴极层而不损伤下边的公共膜层，在操作上非常困难、较难实现。其中，修复不到位时，存在阴极碳化不完全、依旧存在亮点的现象；修复单个像素的亮点缺陷时，则容易损伤公用膜层、导致周围像素被打灭。即，现有技术中的设备容易在IZO电极层(即氧化铟锌层)中产生损伤、损伤其他膜层，导致亮点缺陷修复的稳定性低、生产本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于Micro OLED的激光修复系统，其特征在于，用于修复Micro OLED上的亮点缺陷像素，所述Micro OLED从上至下依次堆叠设有Lens层、封装层、彩膜层、IZO阴极层；所述激光修复系统包括依次设置的纳秒激光装置、扫描机构、聚焦机构；所述聚焦机构中设有多个聚焦镜片；所述纳秒激光装置用于发出激光束，所述扫描机构用于对所述激光束补偿位置，所述聚焦机构用于对所述激光束进行聚焦形成加工光斑，所述加工光斑用于依次对所述亮点缺陷像素所在区域的Lens层、封装层、彩膜层进行碳化。2.根据权利要求1所述的基于Micro OLED的激光修复系统，其特征在于，所述激光修复系统还包括光路调向机构，其包括反射透镜；所述光路调向机构设于所述聚焦机构的光束出口端外侧，用于将从所述聚焦机构中聚焦后的激光束引导至所述亮点缺陷像素所在区域、并形成圆形加工光斑。3.根据权利要求1或2所述的基于Micro OLED的激光修复系统，其特征在于，所述聚焦机构为L形聚焦单元，所述L形聚焦单元的光束入口端并列设有四个聚焦镜片，用于聚焦所述激光束并使所述加工光斑的尺寸范围不超过1.5um。4.根据权利要求1所述的基于Micro OLED的激光修复系统，其特征在于，所述激光修复系统还包括扩束镜，其设于所述纳秒激光装置、所述扫描机构两者之间，用于放大所述激光束。5.根据权利要求2所述的基于Micro OLED的激光修复系统，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶浩，黄阳，
申请(专利权)人：苏州科韵激光科技有限公司，
类型：发明
国别省市：