半导体制程设备及其使用方法技术

本揭露提供一种半导体制程设备及其使用方法，用于半导体制程的溶液分配系统是包含较长的循环回路，以最小化自光阻泵浦至分配喷嘴的闲置部分。T字阀及控制阀是设置在靠近喷嘴处，以减少闲置部分及减少材料消耗。以减少闲置部分及减少材料消耗。以减少闲置部分及减少材料消耗。

【技术实现步骤摘要】
半导体制程设备及其使用方法


[0001]本揭露是关于一种半导体制程设备及其使用方法，特别是关于一种用以减少溶剂消耗的半导体制程设备及其使用方法。

技术介绍

[0002]光阻溶液是用于许多半导体制程中。光阻层经常形成，以选择性地遮罩下方的半导体基材免于半导体制程操作。由于其具有光敏性，光阻是用做旋涂罩幕层，其可选择性地被图案化，例如利用光微影制程，以形成复杂的图案在半导体基材上。

技术实现思路

[0003]本揭露的一态样是提供一种半导体制程设备，其是包含供应用于半导体制程的溶液的槽体。泵浦接收来自槽体的溶液。阀体具有第一输出口、第二输出口及接收来自泵浦的溶液的输入口。控制阀是选择性地分配来自第一输出口的溶液至喷嘴，其是接收来自控制阀的溶液，并分配用于半导体制程的溶液。延伸的循环管自第二输出口重新循环未使用的溶液回到槽体。
[0004]本揭露的另一态样是提供一种半导体制程设备，其是包含提供用于半导体制程的溶液的槽体。泵浦接收来自槽体的溶液。泵浦具有用以循环溶液环绕第一再循环回路的循环机构。泵浦亦具有泵浦输出口，用以循环溶液至半导体制程。阀体具有自泵浦输出口接收溶液的输入口。阀体还具有第一输出口及第二输出口。溶液是自第一输出口供给至半导体制程。延伸的循环管自第二输出口重新循环溶液沿着第二再循环回路回到槽体。
[0005]本揭露的再一态样是提供一种半导体制程设备的使用方法，其是包含利用泵浦自槽体循环溶液，并在阀体的输入口接收来自泵浦的溶液。当制程操作进行时，指示溶液至阀体的第一输出口，其中第一输出口连接至用于制程中的喷嘴。当制程操作闲置时，指示溶液至第二输出口，其中第二输出口连接至延伸的再循环通道。溶液是通过延伸的再循环通道再循环回到槽体，以在制程操作中再利用。
附图说明
[0006]根据以下详细说明并配合附图阅读，使本揭露的态样获致较佳的理解。需注意的是，如同业界的标准作法，许多特征并不是按照比例绘示的。事实上，为了进行清楚讨论，许多特征的尺寸可以经过任意缩放。
[0007]图1是绘示根据一些实施例的晶圆制程设备；
[0008]图2A是绘示根据一些实施例的第一溶剂循环系统的详细示意图；
[0009]图2B是绘示根据一些实施例的第一溶剂循环系统的示意图；
[0010]图3是绘示根据一些实施例的第二溶剂循环系统的详细示意图；
[0011]图4是绘示根据一些实施例的第二溶剂循环系统的示意图；
[0012]图5A及图5B是绘示根据一些实施例的控制器的示意图；
[0013]图6是绘示根据一些实施例的再循环制程的流程图。
[0014]【符号说明】
[0015]100:设备
[0016]101:壳体
[0017]103:基材支架
[0018]110:基材
[0019]115:清洗流体源
[0020]116:水源
[0021]121,123,125:喷嘴
[0022]130:紫外光源
[0023]150:流体供应器
[0024]155:辅助溶剂供应器
[0025]160:气体供应器
[0026]161,162,167:方向阀
[0027]163:槽体
[0028]164:排气阀
[0029]165:排泄阀
[0030]166:泵浦系统
[0031]168:过滤器
[0032]169:循环机构
[0033]170,171,172,174,175,176:方向阀
[0034]173:主泵浦
[0035]177:流速计
[0036]178:控制阀
[0037]200,300:系统
[0038]302:回吸装置
[0039]304:t字阀
[0040]306:再循环管
[0041]308:方向阀
[0042]310:排泄阀
[0043]312:再循环阀
[0044]500:控制器
[0045]501:计算机
[0046]502:键盘
[0047]503:鼠标
[0048]504:屏幕
[0049]505:光盘机
[0050]506:磁盘机
[0051]511:处理器
[0052]512:只读记忆体
[0053]513:随机存取记忆体
[0054]514:硬盘
[0055]515:数据通讯总线
[0056]521:光盘
[0057]522:磁盘
[0058]600:再循环制程
[0059]602,603,604,606,608,610,612,613,614,615:操作H:高液面高度
[0060]L:中间液面高度
[0061]LL:低液面高度
具体实施方式
[0062]以下揭露提供许多不同实施例或例示，以实施专利技术的不同特征。以下叙述的组件和配置方式的特定例示是为了简化本揭露。这些当然仅是做为例示，其目的不在构成限制。举例而言，说明书中第一特征形成在第二特征之上或上方包含第一特征和第二特征有直接接触的实施例，也包含有其他特征形成在第一特征和第二特征之间，以致第一特征和第二特征没有直接接触的实施例。除此之外，本揭露在各种具体例中重复元件符号及/或字母。此重复的目的是为了使说明简化且清晰，并不表示各种讨论的实施例及/或配置之间有关系。
[0063]再者，空间相对性用语，例如“下方(beneath)”、“在
…
之下(below)”、“低于(lower)”、“在
…
之上(above)”、“高于(upper)”等，是为了易于描述附图中所绘示的零件或特征和其他零件或特征的关系。空间相对性用语除了附图中所描绘的方向外，还包含元件在使用或操作时的不同方向。设备/装置可以其他方式定向(旋转90度或在其他方向)，而本揭露所用的空间相对性描述也可以如此解读。除此之外，用于“由
…
组成(made of)”可代表“包含(comprising)”或“由
…
组成(consisting of)”。在本揭露中，除非另外说明，用语“A、B及C其中一者”表示“A、B及/或C”(A、B、C、A及B、A及C、B及C或A、B及C)，而不表示A中的一个元素、B中的一个元素及C中的一个元素。在本揭露的各种实施例中，各种方向阀体是单一方向阀体，其使溶液仅能流过一个方向。在本揭露的各种实施例中，用语“溶剂(solvent)”及“溶液(solution)”是交替地使用。
[0064]在光阻涂布及/或显影设备中，泵浦系统或分配系统提供光阻或其他溶液至半导体制程及操作。步骤必须是为了使光阻免于污染及结晶。在光阻中，大于0.3微米(μm)的颗粒会在制造的半导体装置上造成不均匀的涂布。再者，当颗粒落在特征之间，则颗粒也会造成装置的短路。有缺陷的装置不可贩售且必本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体制程设备，其特征在于，包含：一槽体，提供用于一半导体制程的一溶液；一泵浦，接收来自该槽体的该溶液；一阀体，具有一第一输出口、一第二输出口及一输入口，其中该输入口接收来自该泵浦的该溶液；一控制阀，选择性地分配来自该第一输出口的该溶液；一喷嘴，接收来自该控制阀的该溶液，并分配用于该半导体制程的该溶液；以及一循环管，自该第二输出口重新循环未使用的溶液至该槽体。2.如权利要求1所述的半导体制程设备，其特征在于，该喷嘴还包含：一真空装置，当该半导体制程闲置时，用以自该喷嘴的一端收集溶液。3.如权利要求1所述的半导体制程设备，其特征在于，还包含：一控制器，用以选择性地开启及关闭该第一输出口及该第二输出口。4.如权利要求1所述的半导体制程设备，其特征在于，该阀体为t字阀。5.如权利要求1所述的半导体制程设备，其特征在于，还包含：一第一再循环回路，在该泵浦及该槽体之间循环该溶液。6.一种半导体制程设备，其特征在于，包含：一槽体，提供用于一半导体制程的一溶液；一泵浦，接收来自该槽体的该溶液，其中该泵浦具有一循环机构，用以循环该溶液环绕一第一再循环回路，该泵浦还具有一泵浦输出口，用以循环该溶液...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖俊维，冯东鸿，李蕙君，王士哲，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：