本公开的实施例提供一种清洗装置及设备，用于基材表面的清洗，包括清洗物质提供机构，所述清洗物质提供机构包括：喷枪，用于向基材喷射清洗物质；喷枪移动机构，用于移动所述喷枪至特定位置，以使所述喷枪在多个维度移动。采用本公开的实施例提供的清洗装置，可以实现基材表面不同形状与厚度膜层的清洗，同时不损伤基材。伤基材。伤基材。
【技术实现步骤摘要】
一种清洗装置及设备
[0001]本公开涉及清洗
，特别涉及一种清洗装置及设备。
技术介绍
[0002]不同细分市场的电子产品，存在不同等级的防护需求，如：防水、防汗液、防腐蚀、防化学品，等。现有电子产品的功能载体PCBA之间，通过各类连接器，如：BTB、ZIF、PIN，等实现信号的传递。通过纳米镀膜的方式，可以有效满足不同实用工况下，不同等级防护的需求。但是，纳米镀膜对上述连接器，会带来功能异常的问题。对此，现有量产解决方案，均是采用“先遮蔽、后镀膜、然后去遮蔽”的工艺路线。通过UV胶、热熔胶、乳胶、压敏胶带等方式，预先对各类连接器镀膜。工业化量产时，不同遮蔽方案，均存在“遮蔽失效”的概率，导致遮蔽区域的功能失效。针对基材表面膜层的清洗和退镀，需要提供一种能够有效去除膜层，同时不损伤基材的清洗装置。
技术实现思路
[0003]为清洗去除基材上表面的膜层，同时不损伤基材，以便基材可以再次镀膜应用，本公开的实施例提供一种清洗装置，用于基材表面的清洗。所述清洗装置包括清洗物质提供机构，所述清洗物质提供机构包括：喷枪，用于向基材喷射清洗物质；喷枪移动机构，用于移动所述喷枪至特定位置，以使所述喷枪适于在多个维度移动。
[0004]在一些实施例中，所述清洗装置还包括基材传送机构，所述基材传送机构包括：第一传输机构，适于带动基材沿第一路径来回移动，所述第一传输机构上设有底座。
[0005]在一些实施例中，所述基材传送机构还包括：基材安装座，用于固定基材，设于所述底座上，所述基材安装座适于带动基材转动。
[0006]在一些实施例中，所述喷枪移动机构包括：喷枪固定块，用于固定所述喷枪，设置于固定座上，所述喷枪固定块适于相对所述固定座摆动；第二传输机构，适于带动喷枪沿第二路径来回移动，所述第二路径垂直于第一路径，所述第二传输机构上设有固定座。
[0007]在一些实施例中，所述喷枪移动机构还包括：第三传输机构，适于带动喷枪沿第三路径来回移动，所述第三路径垂直于第一路径和第二路径。
[0008]在一些实施例中，所述清洗装置还包括：传输管，用于将清洗气体传输至所述喷枪以进行清洗，所述传输管的一端与所述喷枪相连通，另一端与气体储存装置相连通。
[0009]在一些实施例中，所述喷枪的内部设有内腔，所述内腔内适于形成电场，以便清洗气体在电场内被电离形成等离子体。
[0010]在一些实施例中，所述内腔内的电场通过外部的等离子发生装置提供电压产生。
[0011]在一些实施例中，所述等离子发生装置包括脉冲电源，用于产生脉冲电压。
[0012]在一些实施例中，所述喷枪的枪口为圆形或多边形；所述枪口为圆形时，所述枪口的直径不小于1mm；所述枪口为多边形时，所述多边形的最长边不小于1mm。
[0013]在一些实施例中，所述喷枪喷射清洗物质的流量为1～10L/min。
[0014]在一些实施例中，所述清洗装置还包括：排气机构，适于将清洗或退镀过程中产生的废气排出，包括：排气管；抽气装置，适于通过所述排气管抽取废气。
[0015]在一些实施例中，所述第一传输机构包括第一导轨和第一传动带，所述第一传动带适于带动所述底座在所述第一导轨上移动；所述第二传输机构包括第二导轨和第二传动带，所述第二传动带适于带动所述固定座在所述第二导轨上移动；所述第三传输机构包括第三导轨和第三传动带，所述第三传动带适于带动所述第二导轨在所述第三导轨上移动。
[0016]本公开的实施例还提供一种清洗设备，包括前述任一项所述的清洗装置，还包括：交互界面设备，适于接收输入的基材形状与基材膜层厚度的参数；控制系统，适于根据所述交互界面设备接收的基材形状与基材膜层厚度的参数形成清洗参数，并根据所述清洗参数控制所述清洗装置，以便控制基材传送机构、喷枪移动机构和等离子发生装置；所述清洗参数包括所述喷枪与所述基材的移动轨迹、以及所述喷枪喷射的等离子体温度、流量与喷射时长。
[0017]在一些实施例中，所述清洗设备还包括：机械手，适于在所述基材安装座上取放基材，以及将基材翻面；所述控制系统还适于控制所述机械手取放基材和将基材翻面。
[0018]与现有技术相比，本公开实施例的技术方案具有以下有益效果：
[0019]本公开的实施例提供的清洗装置，通过喷枪移动机构调节喷枪在多个维度移动，通过基材传送机构调节基材在多个维度移动，并通过喷枪移动机构和基材传送机构的相互配合以在多个维度调节喷枪与基材的相对位置，通过等离子发生装置调节等离子体的温度、流量等参数。
[0020]本公开的实施例提供的清洗装置，根据基材待清洗区域的形状与待去除膜层的厚度，确定基材与喷枪的移动轨迹、以及喷枪喷射的等离子的温度、流量及喷射时间，从而实现基材不同形状的待清洗区域表面的清洗或不同形状与厚度的膜层退镀，也可以针对基材的特定区域进行精准的靶向清洗或退镀，且不损坏基材本身。
[0021]本公开的实施例提供的清洗设备通过交互界面设备和控制系统相互配合，根据交互界面设备接收的基材形状与基材膜层厚度的参数，控制系统形成清洗参数，并根据清洗参数控制所述清洗装置，具体通过控制喷枪与基材的移动轨迹、以及喷枪喷射的等离子体温度、流量与喷射时长等清洗参数，实现自动化的基材清洗作业。
附图说明
[0022]本公开的其它特征以及优点将通过以下结合附图详细描述的可选实施方式更好地理解，附图中相同的标记表示相同或相似的部件，其中：
[0023]图1示出了根据本公开的实施例的清洗装置的立体结构示意图；
[0024]图2示出了根据本公开的实施例的清洗装置的另一角度的立体结构示意图；
[0025]图3示出了根据本公开的实施例的清洗设备的框架结构图。
具体实施方式
[0026]下面详细描述本公开的实施例，所述实施例的示例在附图中示出。在附图中，相同或相似的标号表示相同或相似的元件或具有相同或相似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本公开，而不能理解为对本公开的限制。
[0027]除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。在本公开的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本公开和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。
[0028]为解决现有纳米膜退镀中退镀不完全或退镀损伤基材的问题，本公开的实施例提供一种清洗装置，以下结合附图对所述清洗装置进行详细阐述。
[0029]参考图1，图1示出了根据本公开的实施例的清洗装置的立体结构示意图。本公开的实施例提供一种清洗装置，用于基材表面的清洗，所述清洗装置包括基材传送机构1，用于传送待本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种清洗装置，用于基材表面的清洗，其特征在于，包括：清洗物质提供机构，包括：喷枪，用于向基材喷射清洗物质；喷枪移动机构，用于移动所述喷枪至特定位置，以使所述喷枪在多个维度移动。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，还包括：基材传送机构，包括：第一传输机构，适于带动基材沿第一路径来回移动，所述第一传输机构上设有底座。3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述基材传送机构还包括：基材安装座，用于固定基材，设于所述底座上，所述基材安装座适于带动基材转动。4.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述喷枪移动机构包括：喷枪固定块，用于固定所述喷枪，设置于固定座上，所述喷枪固定块适于相对所述固定座摆动；第二传输机构，适于带动喷枪沿第二路径来回移动，所述第二路径垂直于第一路径，所述第二传输机构上设有固定座。5.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述喷枪移动机构还包括：第三传输机构，适于带动喷枪沿第三路径来回移动，所述第三路径垂直于第一路径和第二路径。6.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，还包括：传输管，用于将清洗气体传输至所述喷枪以进行清洗，所述传输管的一端与所述喷枪相连通，另一端与气体储存装置相连通。7.根据权利要求6所述的清洗装置，其特征在于，所述喷枪的内部设有内腔，所述内腔内适于形成电场，以便清洗气体在电场内被电离形成等离子体。8.根据权利要求7所述的清洗装置，其特征在于，所述内腔内的电场通过外部的等离子发生装置提供电压产生。9.根据权利要求8所述的清洗装置，其特征在于，所述等离子发生装置包括脉冲电源，用于产生脉冲电压。10.根据权利要求1
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9中任一项所述的清洗装置，其特征在于，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：宗坚，
申请(专利权)人：江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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