外观检查系统和计算机程序技术方案

提供一种能够在抑制缺陷的漏检的同时抑制过度检测的技术。提供利用被检查物的图像来判定被检查物合格与否的外观检查系统等。外观检查系统具有：存储装置，其存储有合格品图像、记述有多个阈值的基准表以及记述有多个偏移值的偏移表；以及运算电路。多个阈值分别是用于判定为对应的多个部分区域各自所包含的被检查物的像表示缺陷的基准。运算电路执行判定部分图像的图像特征量是否被分类为过度检测类别的处理。在部分图像的图像特征量被分类为过度检测类别的情况下，运算电路进一步使用偏移值来变更部分区域的位置处的基准表的阈值，并使用变更后的基准表来判定在被检查物的图像中是否包含有缺陷的像。像中是否包含有缺陷的像。像中是否包含有缺陷的像。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】外观检查系统和计算机程序


[0001]本公开涉及外观检查系统和计算机程序。

技术介绍

[0002]以往，进行如下的外观检查：通过将对被检查物进行拍摄而获取的图像与作为基准的物品的图像(基准图像)进行比较，来判定被检查物是否存在缺陷、即被检查物是否是合格品。
[0003]在现有的外观检查装置中，在对用于合格与否判定的判定基准进行了充分的验证之后，通过人工方式在装置中进行设定。在对形状、表面的图案经常变化的对象进行检查的情况下，需要频繁地变更判定基准，因此难以进行有效的运用。
[0004]例如，日本公开公报特开2013
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224833号公报公开了按照每个特定的像素对合格与否判定的判定基准进行定义，使用亮度的平均值/标准偏差来自动设定判定基准的技术。根据日本公开公报特开2013
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224833号公报的技术，能够省略借助人工的判定基准的频繁的变更，从而能够更有效地运用外观检查。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本公开公报：日本特开2013
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224833号公报

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的课题
[0009]然而，在日本公开公报特开2013
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224833号公报中，如果抑制过度检测，则像素值的偏差较大的部位的判定基准变得宽松，因而有可能发生缺陷的漏检。
[0010]本公开提供能够在抑制缺陷的漏检的同时抑制过度检测的外观检查系统和计算机程序。
[0011]用于解决课题的手段
[0012]本公开的例示性的外观检查系统利用被检查物的图像来判定所述被检查物合格与否，其中，该外观检查系统具有：存储装置，其存储有拍摄了被判定为合格品的多个物品而得的多个图像、记述有多个阈值的基准表以及记述有多个偏移值的偏移表；接口装置，其接收被检查物的图像数据和表示与制造条件相关的属性的属性数据；以及运算电路。所述被检查物的图像和所述多个图像分别包含多个部分区域。所述基准表的所述多个阈值的每一个阈值和所述偏移表的所述多个偏移值的每一个偏移值与所述多个部分区域分别对应地设定。所述多个阈值分别是用于判定为对应的所述多个部分区域各自所包含的所述被检查物的像表示缺陷的基准。所述多个偏移值包含使所述多个阈值的一部分变化的第1种偏移值和不使其余的一部分变化的第2种偏移值。所述运算电路执行如下处理：处理(a)，对所述图像数据进行预先确定的缺陷检测处理，在所述被检查物的图像中包含有至少一个缺陷的像的情况下，提取所述被检查物作为缺陷候选。另外，所述运算电路执行如下处理：处理
(b)，从提取为所述缺陷候选的所述被检查物的图像中切取部分图像，其中，切取的所述部分图像的位置是所述偏移表中的所述第1种偏移值所对应的部分区域的位置。另外，所述运算电路执行如下处理：处理(c)，判定切取的所述部分图像的图像特征量是否被分类为过度检测类别，其中，所述过度检测类别是所述第1种偏移值所对应的部分区域的位置处的、所述多个图像的各部分图像的图像特征量以规定以上的比例被分类的类别。另外，所述运算电路执行如下处理：处理(d)，在切取的所述部分图像的图像特征量被分类为所述过度检测类别的情况下，使用所述第1种偏移值来变更所述部分区域的位置处的所述基准表的阈值，进一步提高用于判定为所述被检查物的像表示缺陷的基准。另外，所述运算电路执行如下处理：处理(e)，使用变更了所述阈值的所述基准表来判定在所述被检查物的图像中是否包含有至少一个缺陷的像。
[0013]本公开的例示性的计算机程序由利用被检查物的图像来判定所述被检查物合格与否的外观检查系统的运算电路执行。所述外观检查系统具有：存储装置，其存储有分别拍摄了被判定为合格品的多个物品而得的多个图像、记述有多个阈值的基准表以及记述有多个偏移值的偏移表；接口装置，其接收被检查物的图像数据；以及所述运算电路。所述被检查物的图像和所述多个图像分别包含多个部分区域，所述基准表的所述多个阈值的每一个阈值和所述偏移表的所述多个偏移值的每一个偏移值与所述多个部分区域分别对应地设定。所述多个阈值分别是用于判定为对应的所述多个部分区域各自所包含的所述被检查物的像表示缺陷的基准。所述多个偏移值包含使所述多个阈值的一部分变化的第1种偏移值和不使其余的一部分变化的第2种偏移值。所述计算机程序使所述运算电路执行如下的处理(a)：对所述图像数据进行预先确定的缺陷检测处理，在所述被检查物的图像中包含有至少一个缺陷的像的情况下，提取所述被检查物作为缺陷候选。另外，所述计算机程序使所述运算电路执行如下的处理(b)：从提取为所述缺陷候选的所述被检查物的图像中切取部分图像，其中，切取的所述部分图像的位置是所述偏移表中的所述第1种偏移值所对应的部分区域的位置。另外，所述计算机程序使所述运算电路执行如下的处理(c)：判定切取的所述部分图像的图像特征量是否被分类为过度检测类别，其中，所述过度检测类别是所述第1种偏移值所对应的部分区域的位置处的、所述多个图像的各部分图像的图像特征量以规定以上的比例被分类的类别。另外，所述计算机程序使所述运算电路执行如下的处理(d)：在切取的所述部分图像的图像特征量被分类为所述过度检测类别的情况下，使用所述第1种偏移值来变更所述部分区域的位置处的所述基准表的阈值，进一步提高用于判定为所述被检查物表示缺陷的基准。另外，所述计算机程序使所述运算电路执行如下的处理(e)：使用变更了所述阈值的所述基准表来判定在所述被检查物的图像中是否包含有至少一个缺陷的像。
[0014]专利技术效果
[0015]根据本公开的例示性的实施方式，能够在将未检测的发生抑制为最低限度的同时抑制过度检测。
附图说明
[0016]图1是示出具有外观检查装置100的本公开的外观检查系统1000的结构例的图。
[0017]图2是主要示意性地示出外观检查装置100的结构例的图。
[0018]图3是示出存储装置14内的数据库14Z的一例的图。
[0019]图4是示意性地示出对工件70进行拍摄而得到的图像数据的一例的图。
[0020]图5是示出被分成多个部分区域72的工件70的图像的例子的图。
[0021]图6是示出外观检查处理的过程的流程图。
[0022]图7是示出在某个部分区域72b存在损伤时的缺陷检测处理的结果的一例的图。
[0023]图8是示意性地示出偏移表14c(上段)和从工件70的图像72切取的部分图像的位置(下段)的图。
[0024]图9是用于对图6的步骤S8的处理进行说明的图。
[0025]图10是用于对图6的步骤S10进行说明的图。
[0026]图11是示出外观检查处理的具体的过程的流程图。
[0027]图12是示出数据库登记处理的过程的流程图。
[0028]图13是示出类似倾向确认处理的过程的流程图。
[0029]图14是用于对图13的步骤S56和S58具体地进行说明的图。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种外观检查系统，其利用被检查物的图像来判定所述被检查物合格与否，其中，该外观检查系统具有：存储装置，其存储有拍摄了被判定为合格品的多个物品而得的多个图像、记述有多个阈值的基准表以及记述有多个偏移值的偏移表；接口装置，其接收被检查物的图像数据；以及运算电路，所述被检查物的图像和所述多个图像分别包含多个部分区域，所述基准表的所述多个阈值的每一个阈值和所述偏移表的所述多个偏移值的每一个偏移值与所述多个部分区域分别对应地设定，所述多个阈值分别是用于判定为对应的所述多个部分区域各自所包含的所述被检查物的像表示缺陷的基准，所述多个偏移值包含使所述多个阈值的一部分变化的第1种偏移值和不使其余的一部分变化的第2种偏移值，所述运算电路执行如下处理：处理(a)，对所述图像数据进行预先确定的缺陷检测处理，在所述被检查物的图像中包含有至少一个缺陷的像的情况下，提取所述被检查物作为缺陷候选；处理(b)，从提取为所述缺陷候选的所述被检查物的图像中切取部分图像，其中，切取的所述部分图像的位置是所述偏移表中的所述第1种偏移值所对应的部分区域的位置；处理(c)，判定切取的所述部分图像的图像特征量是否被分类为过度检测类别，其中，所述过度检测类别是所述第1种偏移值所对应的部分区域的位置处的、所述多个图像的各部分图像的图像特征量以规定以上的比例被分类的类别；处理(d)，在切取的所述部分图像的图像特征量被分类为所述过度检测类别的情况下，使用所述第1种偏移值来变更所述部分区域的位置处的所述基准表的阈值，进一步提高用于判定为所述被检查物的像表示缺陷的基准；以及处理(e)，使用变更了所述阈值的所述基准表来判定在所述被检查物的图像中是否包含有至少一个缺陷的像。2.根据权利要求1所述的外观检查系统，其中，所述接口装置还接收表示与所述被检查物的制造条件相关的属性的属性数据，所述存储装置按照预先分类的每个属性存储有所述基准表和所述偏移表，所述处理(b)包含如下处理：处理(b1)，所述运算电路根据所述被检查物的属性数据，从所述存储装置所存储的多个种类的偏移表中读出具有与所述被检查物的属性相同的属性的同属性偏移表；以及处理(b2)，所述运算电路在读出的所述同属性偏移表所包含的所述第1种偏移值所对应的所述部分区域的位置处从提取为所述缺陷候选的所述被检查物的图像中切取部分图像。3.根据权利要求1或2所述的外观检查系统，其中，与所述制造条件相关的所述属性是从由制造所述被检查物时使用的模具、生产线以及制造工厂构成的组中选择的至少一种。4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的外观检查系统，其中，
所述运算电路在由所述处理(a)进行的所述缺陷检测处理中，利用所述图像数据的第1图像特征量来检测所述至少一个缺陷的像，在将所述处理(c)中使用的所述图像特征量设为第2图像特征量时，所述第1图像特征量和所述第2图像特征量是相同的。5.根据权利要求1至3中的任意一项所述的外观检查系统，其中，所述处理(c)中的所述图像特征量是与图像的灰度等级共生矩阵(GLCM)相关的图像特征量。6.根据权利要求1至5中的任意一项所述的外观检查系统，其中，所述处理(a)中的所述缺陷检测处理是用于检测多个种类的缺陷的处理，所述处理(a)包含按照检测出的所述至少一个缺陷的种类而提取所述缺陷候选的处理。7.根据权利要求6所述的外观检查系统，其中，所述存储装置按照所述缺陷的每个种类存储有所述基准表和所述偏移表，所述处理(b)包含如下处理：处理(b3)，所述运算电路从所述存储装置所存储的多个种类的偏移表中读出与所述至少一个缺陷的种类对应的同种类偏移表；以及处理(b4)，所述运算电路在读出的所述同种类偏移表所包含的所述第1种偏移值所对应的所述部分区域的位置处从提取为所述缺陷候选的所述被检查物的图像中切取部分图像。8.根据权利要求1至7中的任意一项所述的外观检查系统，其中，所述多个部分区域分别是由一个像素表示的区域，所述基准表的所述多个阈值的每一个阈值和所述偏移表的所述多个偏移值的每一个偏移值按照每个像素对应地设定。9.根据权利要求1至8中的任意一项所述的外观检查系统，其中，该外观检查系统还包含如下的处理(f)：在所述处理(e)中所述被检查物的图像中不包含所述至少一个缺陷的像的情况下，将所述被检查物的图像作为分别拍摄了被判定为合格品的所述多个物品而得的所述多个图像而追加存储在所述存储装置中。10.根据权利要求9所述的外观检查系统，其中，该外观检查系统还包含如下的处理(g)：在所述处理(f)之后，将存储在所述存储装置中的所述偏移表改写为变更了所述第2偏移值的偏移表。11.根据权利要求10所述的外观检查系统，其中，所述处理(f)包含如下处理：处理(f1)，判定是否存在类似的过度检测结果；以及处理(f2)，在判定结果表示存在类似的过度检测结果的情况下，改写所述偏移表的所述第2偏移值，所述处理(f1)是如下的处理：在关于所述第1种偏移值所对应的部分区域的位置所述多个图像的各部分图像的图像特征量以所述规定以上的比例被分类为所述过度检测类别的情况下，判定为存在类似的过度检测结果。12.根据权利要求11所述的外观检查系统，其中，
所述处理(f1)是如下的处理：在关于所述第1种偏移值所对应的部分区域的位置针对所述多个图像的各部分图像的图像特征量执行规定的聚类...

【专利技术属性】
技术研发人员：森口和也，
申请(专利权)人：日本电产株式会社，
类型：发明
国别省市：