【技术实现步骤摘要】
超光谱滤波器结构及制造方法
[0001]本美国技术专利申请依据35U.S.C.
§
119(e)要求4/30/2021提交的标题为“超光谱滤波器结构及制造(HYPERSPECTRAL FILTER STRUCTURE AND MANUFACTURE)”的第63/182,237号美国临时申请的优先权,所述临时申请出于任何和所有目的以全文引用的方式并入本文中且成为本美国技术专利申请的一部分。
[0002]本专利技术大体上涉及光谱学,且更具体地说涉及使用基于干涉的滤波器的光谱传感器。
技术介绍
[0003]光谱装置已经被证明可在包含例如健康、生物计量、农业、化学和健身等各种行业中应用。一般来说,光谱装置通过检测和/或获取与多个波长范围相关的入射光并提取光谱信息来运作。例如法布里
‑
珀罗(Fabry
‑
P
é
rot)滤波器等基于干涉的滤波器当结合光谱传感器使用时一直展示为能够提供受控的光波长。
[0004]如进一步知晓的,基于干涉的滤波器可通过提供额外制造步骤/过程而应用于例如CMOS图像传感器等图像传感器。
附图说明
[0005]图1A提供根据本专利技术的实例光学传感器与滤波器覆叠的自上向下表示;
[0006]图1B提供根据本专利技术的实例光学传感器与滤波器覆叠的透视表示;
[0007]图2提供根据本专利技术的邻近干涉滤波器覆叠图像传感器的横截面;
[0008]图3提供根据本专利技术的邻近干涉滤波器 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种传感器系统,其包括:多个光学传感器,其实施于集成电路的像素层中;以及光学滤波器的多个集合,其在多个交替滤波器层中且在所述像素层的近侧实施,其中光学滤波器的集合的光学滤波器包含以堆叠形式实施的多个滤波器组件,且被配置成使相应目标波长范围的光通过到所述多个光学传感器的一个或多个光学传感器,其中所述多个滤波器层的滤波器层中的所述多个滤波器组件的滤波器组件对于光学滤波器的集合的多个光学滤波器是共同的。2.根据权利要求1所述的传感器系统,其中所述多个滤波器组件的滤波器组件包括所述光学滤波器的底部表面。3.根据权利要求1所述的传感器系统,其中所述多个交替滤波器层包含具有不同于所述多个交替滤波器层的另一层的针对一个或多个蚀刻工艺的选择性的一个或多个层。4.根据权利要求3所述的传感器系统,其中所述一个或多个蚀刻工艺中的至少一个选自由以下组成的列表:反应性离子蚀刻(RIE);离子刻蚀;电感耦合等离子(ICP)蚀刻;等离子蚀刻;以及湿式化学蚀刻。5.根据权利要求1所述的传感器系统,其中具有针对一个或多个蚀刻工艺的选择性的所述一个或多个层中的至少一个层选自由以下组成的列表:牺牲层;对一个或多个湿式蚀刻剂具有抗性的层;以及对一个或多个等离子工艺具有抗性的层。6.根据权利要求1所述的传感器系统,其中光学滤波器的集合的每一光学滤波器的所述目标波长范围基于所述多个交替滤波器层的光学特性的组合确定。7.根据权利要求1所述的传感器系统,其中所述多个交替滤波器层包含使用选自由以下组成的列表的工艺沉积的一个或多个层:气相沉积化学气相沉积(CVD);单层沉积;旋涂工艺;e束沉积溅镀;离子束溅镀反应性溅镀高靶材利用率溅镀;离子辅助沉积;高功率脉冲磁控溅镀;气流溅镀,而单层沉积技术包含
分子束外延法(MBE);朗缪尔
‑
布洛杰特方法;原子层沉积;以及分子层沉积。8.根据权利要求1所述的传感器系统,其中所述多个交替滤波器层包括选自由以下组成的列表的一个或多个层:反射材料;部分反射玻璃光学平板;氧化硅(SiO
x
);氧化钛(TiO
x
);以及氧化铌(Nb
x
O
y
)。9.根据权利要求1所述的传感器系统,其中光学滤波器的所述集合包括多个法布里
‑
珀罗滤波器,其中对于所述多个法布里
‑
珀罗滤波器中的一个或多个,制造在同一步骤中沉积和限定的所述多个法布里
‑
珀罗滤波器中的至少一些法布里
‑
珀罗滤波器的滤波器组件。10.根据权利要求1所述的传感器系统,其中所述多个交替滤波器层的第一滤波器层包括所述光学滤波器的底部表面,其中所述第一滤波器层的滤波器组件被配置成直接覆叠所述像素层,其中所述第一滤波器层的所述滤波器组件被配置成斥拒光波长范围外部的光波长。11.根据权利要求1所述的传感器系统,其中光学滤波器的所述集合包括多个法布里
‑
珀罗滤波器,其中所述多个法布里
‑
珀罗滤波器中的至少一些法布里
‑
珀罗滤波器包含多个布拉格反射镜,其中不同法布里
‑
珀罗滤波器的布拉格反射镜的共同第一和共同第二部分同时沉积。12.根据权利...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。