电磁波透过性金属光泽构件制造技术

本发明专利技术涉及一种电磁波透过性金属光泽构件，其具备：基体、以连续状态设置于前述基体上的含有氧化铟的层、和在前述含有氧化铟的层上形成的金属层，前述金属层包含多个部分，所述多个部分中，至少一部分处于彼此不连续的状态，作为前述金属层与前述含有氧化铟的层的层叠体的薄层电阻为2.50E+8Ω/

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电磁波透过性金属光泽构件


[0001]本专利技术涉及电磁波透过性金属光泽构件。

技术介绍

[0002]以往，具有电磁波透过性及金属光泽的构件由于兼具源自其金属光泽的外观的高级感和电磁波透过性，因此适合用于发送/接收电磁波的装置。
[0003]金属光泽样的构件使用金属的情况下，电磁波的发送/接收实质上是不可能的或会受到妨碍。因此，为了不妨碍电磁波的发送/接收、不损害外观性，需要兼具金属光泽和电磁波透过性这两者的电磁波透过性金属光泽构件。
[0004]这种电磁波透过性金属光泽构件期待作为发送/接收电磁波的装置在需要通信的各种设备、例如设置有智能钥匙的汽车的门把手、车载通信设备、手机、个人电脑等电子设备等中的应用。进而，近年，随着IoT技术的发展，也期待在以往未进行通信等的冰箱等家电制品、生活设备等广阔的领域中的应用。
[0005]关于电磁波透过性金属光泽构件，专利文献1中记载了一种电磁波透过性金属光泽构件，其特征在于，具备：设置于基体的表面的含有氧化铟的层、和层叠于前述含有氧化铟的层的金属层，前述金属层包含多个部分，多个部分中，至少一部分处于彼此不连续的状态。
[0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1：日本特许第6400062号公报

技术实现思路

[0009]专利技术要解决的问题
[0010]现有技术的电磁波透过性金属光泽构件中的金属层增厚厚度时，则反射率变高，容易得到金属光泽。但是，若增厚金属层的厚度，则形成为岛状的金属彼此会重合，电阻值急剧降低，因此显著损害电磁波透过性。因此，反射率与电磁波透过性呈此消彼长的关系。
[0011]本专利技术是为了解决现有技术中的上述问题而作出的，其目的在于，提供具有高的反射率、并且表现优异的电磁波透过性的电磁波透过性金属光泽构件。
[0012]用于解决问题的方案
[0013]本专利技术人等为了解决上述问题反复进行了深入研究，结果发现，通过将薄层电阻设为特定范围，能够解决上述问题，从而完成了本专利技术。
[0014]即，本专利技术如下。
[0015]〔1〕
[0016]一种电磁波透过性金属光泽构件，其具备：基体、以连续状态设置于前述基体上的含有氧化铟的层、和在前述含有氧化铟的层上形成的金属层，
[0017]前述金属层包含多个部分，所述多个部分中，至少一部分处于彼此不连续的状态，
[0018]作为前述金属层与前述含有氧化铟的层的层叠体的薄层电阻为2.50E+8Ω/
□
以上。
[0019]〔2〕
[0020]根据〔1〕所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，前述含有氧化铟的层的厚度为3.3nm～4.6nm。
[0021]〔3〕
[0022]根据〔1〕或〔2〕所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，前述含有氧化铟的层包含氧化铟(In2O3)、铟锡氧化物(ITO)、或铟锌氧化物(IZO)中的任意者。
[0023]〔4〕
[0024]根据〔1〕～〔3〕中任一项所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，前述金属层为含有铝或铝合金的层。
[0025]〔5〕
[0026]根据〔1〕～〔4〕中任一项所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，前述金属层的厚度为10nm～200nm。
[0027]〔6〕
[0028]根据〔1〕～〔5〕中任一项所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，前述多个部分形成为岛状。
[0029]〔7〕
[0030]根据〔1〕～〔6〕中任一项所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，前述基体为基材薄膜、树脂成型物基材、玻璃基材、或应赋予金属光泽的物品中的任意者。
[0031]专利技术的效果
[0032]根据本专利技术，能够提供具有高的反射率、并且表现优异的电磁波透过性的电磁波透过性金属光泽构件。
附图说明
[0033]图1为本专利技术的一实施方式的电磁波透过性金属光泽构件的截面示意图。
[0034]图2为示出本专利技术的一实施方式的电磁波透过性金属光泽构件的表面的电子显微镜照片(SEM图像)的图。
[0035]图3为示出本专利技术的一实施方式的电磁波透过性金属光泽构件的截面的电子显微镜照片(TEM图像)的图。
[0036]图4为用于对本专利技术的一实施方式的电磁波透过性金属光泽构件的金属层的厚度的测定方法进行说明的图。
[0037]图5为示出本专利技术的实施例及比较例中的电磁波透过性金属光泽构件的、含有氧化铟的层的膜厚与薄层电阻的关系的图。
具体实施方式
[0038]以下，参照添附附图，详细地对本专利技术进行说明，但本专利技术不限定于以下的实施方式，可以在不脱离本专利技术的主旨的范围内任意变形来实施。另外，表示数值范围的“～”以包含记载于其前后的数值作为下限值及上限值的含义来使用。
[0039]<1.基本构成>
[0040]本专利技术的实施方式的电磁波透过性金属光泽构件具备：基体、以连续状态设置于前述基体上的含有氧化铟的层、和在前述含有氧化铟的层上形成的金属层，前述金属层包含多个部分，所述多个部分中，至少一部分处于彼此不连续的状态，作为前述金属层与前述含有氧化铟的层的层叠体的薄层电阻为2.50E+8Ω/
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以上。
[0041]图1示出本专利技术的一实施方式的电磁波透过性金属光泽构件1的截面示意图。另外，图2中示出本专利技术的一实施方式的电磁波透过性金属光泽构件1的表面的电子显微镜照片(SEM图像)的一例。
[0042]如图1所示，电磁波透过性金属光泽构件1包含：基体10、形成于基体10上的含有氧化铟的层11、和在含有氧化铟的层11上形成的金属层12。
[0043]含有氧化铟的层11设置于基体10的面。含有氧化铟的层11可以直接设置于基体10的面，也可以隔着设置于基体10的面的保护膜等间接地设置。含有氧化铟的层11优选以连续状态、换言之没有间隙地设置于基体10的面。通过以连续状态设置，能够提高含有氧化铟的层11、进而电磁波透过性金属光泽构件1的平滑性、耐腐蚀性，另外，也容易将含有氧化铟的层11在面内没有不均地成膜。
[0044]金属层12层叠于含有氧化铟的层11。金属层12包含多个部分12a。通过层叠于含有氧化铟的层11，从而这些部分12a中，至少一部分处于彼此不连续的状态，换言之，至少一部分被间隙12b隔开。由于被间隙12b隔开，因此这些部分12a的薄层电阻变大，与电波的相互作用降低，因此能够使电波透过。所述各部分12a为通过使金属蒸镀、溅射而形成的溅射颗粒的集合体。溅射颗粒在基体10等基体上形成薄膜时，基体上的颗粒的表面扩散性影响薄膜的形状。
[0045]需要说明的是，本说明书所说的“不连续的状态”是指彼此被间隙12b隔开，结果彼此电绝缘的状态。通过电绝缘，从而薄层电阻变大，得到期望的电磁波透过性。不连续的形态没有特别限定，例如，包含岛状、裂纹等。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种电磁波透过性金属光泽构件，其具备：基体、以连续状态设置于所述基体上的含有氧化铟的层、和在所述含有氧化铟的层上形成的金属层，所述金属层包含多个部分，所述多个部分中，至少一部分处于彼此不连续的状态，作为所述金属层与所述含有氧化铟的层的层叠体的薄层电阻为2.50E+8Ω/
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以上。2.根据权利要求1所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，所述含有氧化铟的层的厚度为3.3nm～4.6nm。3.根据权利要求1或2所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，所述含有氧化铟的层包含氧化铟(In2O3)...

【专利技术属性】
技术研发人员：横井辽太郎，中井孝洋，梨木智刚，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：