一种高光洁度的α型半水石膏制品及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种高光洁度的α型半水石膏制品及其制备方法，所述制备方法包括以下步骤：(1)将α型半水石膏与消泡剂、减水剂和保水剂混合得到粉料，然后与水混合搅拌，得到浆料；(2)将步骤(1)所述浆料置于模具中，当浆料初凝后加入水，用平板盖住刮面，同时对平板施加压力并进行静置，得到α型半水石膏浆体。制备得到的α型半水石膏制品的粗糙度(Ra)为0.1

【技术实现步骤摘要】
一种高光洁度的
α
型半水石膏制品及其制备方法


[0001]本专利技术属于石膏制品加工领域，尤其涉及一种高光洁度的α型半水石膏制品及其制备方法。

技术介绍

[0002]磷石膏是一种呈灰白色或黄白色的，主要以针状晶体、多晶核晶体、单分散板状晶体、密实晶体结晶形态存在的粉状固体。磷石膏是湿法磷酸生产过程中产生的固体废渣，当采用湿法工艺生产磷酸时，每生产1吨磷酸，就伴随着4.5
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5吨磷石膏产生。我国每年磷石膏排放量已超过8000万吨，大量磷石膏的堆积不仅占用土地资源，磷石膏中的有害成分在堆存过程中会向周围环境扩散渗透，存在着安全和环保隐患。因此，加快磷石膏资源化利用，己成为磷化工业可持续发展急需解决的问题。
[0003]目前，通常采用磷石膏制备高品质的石膏制品，但在石膏制品加工完成后，通常需要将石膏制品加入到某种特制的溶液中进行润泽，以增强石膏制品的色泽。现有的处理过程大都是将石膏制品倒入盛有特定溶液的浸润池中进行浸润，浸润完毕之后，再用筛网将浸润池中的石膏制品打捞起来，但上述存在较多问题，其一是需要人工对石膏制品进行无数遍的打捞，效率低且耗时长，其二是打捞过程中，存在部分石膏制品浸没在水中，不易打捞干净，而重复润泽的石膏制品成色不好。
[0004]CN105237036A公开了一种用于圆形石膏制品的润泽装置，包括机架、高低并列设置在机架上的润泽筒和过滤筒，所述润泽筒下方侧壁上设有排料口，所述过滤筒上方侧壁设有进料口，所述排料口和进料口之间滑动连接有用于连通或分离润泽筒和过滤筒的分离板，所述过滤筒底部设有数个滤水孔，所述过滤筒下方侧壁设有出物口，该出物口处滑动连接有挡板，所述润泽筒底部沿排料口方向倾斜，过滤筒底部沿出物口方向倾斜。所述润泽装置可以解决现有润泽装置所存在的石膏制品不易收集的问题，但所述装置存在石膏制品破裂的隐患。
[0005]因此，亟需提供一种从石膏制品制备过程中就能增强石膏制品的色泽，无需将石膏制品进行独立润泽。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供一种高光洁度的α型半水石膏制品及其制备方法，所述制备方法成本低、效率高，制备过程中无需添加润泽剂，也无任何二次污染物排放，得到的α型半水石膏制品光洁度高。
[0007]为达到此专利技术目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0008]本专利技术提供了一种高光洁度的α型半水石膏制品的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
[0009](1)将α型半水石膏与消泡剂、减水剂和保水剂混合得到粉料，然后与水混合搅拌，得到浆料；
[0010](2)将步骤(1)所述浆料置于模具中，当浆料初凝后加入水，用平板盖住刮面，同时对平板施加压力并进行静置，得到α型半水石膏浆体。
[0011]本专利技术中，所述高光洁度为制得的半水石膏制品的粗糙度(Ra)低于1μm。
[0012]本专利技术所述制备方法无需添加润泽剂，通过在浆料初凝后加入少量水进行润泽，然后在一定压力下实现了石膏制品的高光洁度，节约了石膏成品的生产时间，既降低了生产成本，又提高了生产效率，适用于工业化生产。
[0013]作为本专利技术优选的技术方案，步骤(1)所述α型半水石膏与消泡剂、减水剂和保水剂的重量份数比为1000:(1
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2.5):(2
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4):(1
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2.5)，例如可以是1000:1:3:1、1000:2.5:2:1、1000:2:3.5:2、1000:1.5:3:2、1000:1.5:2.5:1.5或1000:2.5:4:2.5等，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
[0014]作为本专利技术优选的技术方案，步骤(1)所述消泡剂包括有机硅类或聚醚类中的任意一种。
[0015]优选地，步骤(1)所述减水剂包括木质素磺酸钠盐减水剂、萘系高效减水剂或聚羧酸高效减水剂中的任意一种。
[0016]优选地，步骤(1)所述保水剂包括聚丙烯酰胺、聚丙烯酸钠、聚丙烯酸钾或聚丙烯酸铵中的任意一种。
[0017]作为本专利技术优选的技术方案，其特征在于，步骤(1)所述水与α型半水石膏的质量比为(0.3
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0.4):1，例如可以是0.3:1、0.32:1、0.34:1、0.36:1、0.38:1或0.4:1等，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
[0018]优选地，步骤(1)所述搅拌的时间为20
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60s，例如可以是20s、25s、30s、35s、40s、45s、50s、55s或60s等，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
[0019]作为本专利技术优选的技术方案，步骤(2)将浆料置于模具中后还包括：反复震荡模具后，将浆料表面刮平。
[0020]优选地，步骤(2)所述初凝后10
‑
40min加入水，例如可以是10min、15min、20min、25min、30min、35min或40min等，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
[0021]优选地，步骤(2)所述水与浆料的质量比为(0.05
‑
0.2):1，例如可以是0.05:1、0.07:1、0.1:1、0.12:1、0.15:1、0.17:1或0.2:1等，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
[0022]本专利技术中，在浆料初凝后一定时间内加入少量水，石膏制品终凝前，水通过初凝后的石膏孔隙渗透至模具与石膏的接触面并形成均一水膜，使终凝后的石膏制品表面水润光滑。
[0023]作为本专利技术优选的技术方案，步骤(2)所述压力为10
‑
15KPa/kg，例如可以是10KPa/kg、11KPa/kg、12KPa/kg、13KPa/kg、14KPa/kg或15KPa/kg等，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
[0024]本专利技术中，通过施加一定的压力，增加石膏浆体终凝后孔隙致密度，能够有效降低石膏制品表面粗糙度。
[0025]优选地，步骤(2)所述静置的时间为1
‑
6h，例如可以是1h、2h、3h、4h、5h或6h等，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
[0026]优选地，步骤(2)施加压力包括：将样块置于平板上。
[0027]优选地，所述样块与浆料的质量比为(3
‑
8):1，例如可以是3:1、3.5:1、4:1、4.5:1、5:1、5.5:1、6:1、6.5:1、7:1、7.5:1或8:1等，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
[0028]作为本专利技术优选的技术方案，所述方法还包括：将得到的α型半水石膏浆体拆模后，进行烘干处理，得到所述α型半水石膏制品。
[0029]作为本专利技术优选的技术方案，所述烘干处理的温度为40
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高光洁度的α型半水石膏制品的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：(1)将α型半水石膏与消泡剂、减水剂和保水剂混合得到粉料，然后与水混合搅拌，得到浆料；(2)将步骤(1)所述浆料置于模具中，当浆料初凝后加入水，用平板盖住刮面，同时对平板施加压力并进行静置，得到α型半水石膏浆体。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述α型半水石膏与消泡剂、减水剂和保水剂的重量份数比为1000:(1
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2.5):(2
‑
4):(1
‑
2.5)。3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述消泡剂包括有机硅类或聚醚类中的任意一种；优选地，步骤(1)所述减水剂包括木质素磺酸钠盐减水剂、萘系高效减水剂或聚羧酸高效减水剂中的任意一种；优选地，步骤(1)所述保水剂包括聚丙烯酰胺、聚丙烯酸钠、聚丙烯酸钾或聚丙烯酸铵中的任意一种。4.根据权利要求1
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3任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述水与α型半水石膏的质量比为(0.3
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0.4):1；优选地，步骤(1)所述搅拌的时间为20
‑
60s。5.根据权利要求1
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4任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)将浆料置于模具中后还包括：反复震荡模具后，将浆料表面刮平；优选地，步骤(2)所述初凝后10
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40min加入水；优选地，步骤(2)所述水与浆料的质量比为(0.05
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0.2):1。6.根据权利要求1
‑
5任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述压力为10
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15KPa/kg；优选地，步骤(2)所述静置的时间为1
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6h；优选地，步骤(2)施加压力包括：将样块置于平板上；优选...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨志，唐永波，刘丽娟，孟醒，
申请(专利权)人：一夫科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：