一种高介电常数BT@SiC/PI复合薄膜及其制备方法技术

技术编号:35309321 阅读:20 留言:0更新日期:2022-10-22 13:00
本发明专利技术公开了一种高介电常数BT@SiC/PI复合薄膜及其制备方法,首先制备钛酸钡包裹碳化硅的BT@SiC纳米颗粒,然后将BT@SiC纳米颗粒均匀分散在除水DMAc溶剂中,通过共混法制备BT@SiC/PAA共混液,再经过涂膜,真空干燥,最后热亚胺化制得BT@SiC/PI复合薄膜。本发明专利技术与现有技术相比,最高介电常数可达181.8(100Hz),为纯PI薄膜的52倍,并且其介电损耗仍小于0.6,且具有高的储能密度,同时保持着聚酰亚胺优异的热学及力学性能,可以应用于制备高温薄膜电容器。器。器。

【技术实现步骤摘要】
一种高介电常数BT@SiC/PI复合薄膜及其制备方法


[0001]本专利技术属于有机/无机材料领域,具体涉及一种高介电常数BT@SiC/PI复合薄膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]聚酰亚胺是一类具有优异的热稳定性、机械性能及电性能的高性能高分子材料,广泛应用于汽车、航空航天、微电子等高科技领域。
[0003]现有技术中的聚酰亚胺介电常数都较小(一般为2.5~3.5左右),其中结构中含有联吡啶单元的聚酰亚胺介电常数也低于8(专利号:ZL201510527053.3),但其介电常数仍然不足,难以应用于高储能密度电容器中。
[0004]基于上述
技术介绍
,有必要研发一种具有更高介电常数的聚酰亚胺基复合材料,使其具有高介电常数、低介电损耗,同时保存聚酰亚胺优异的热学性能以及力学性能,充分扩展其应用的广泛性。

技术实现思路

[0005]针对现有技术的不足,本专利技术提供了一种高介电常数BT@SiC/PI复合薄膜及制备方法,包括以下步骤:(1)将SiC纳米颗粒超声分散在乙酰丙酮中,形成SiC分散液;将钛酸四丁酯搅拌5

20min后加入到所述SiC分散液中,形成SiC混合液;将醋酸钡溶解在醋酸中并搅拌后加入到所述SiC混合液中,室温搅拌20

60分钟后老化12

24h,制得的悬浮液后经过过滤得到滤渣,将所述滤渣进行干燥后转移至高温管式电炉,在N2气氛下煅烧,制得纳米BT@SiC颗粒。
[0006](2)将所述纳米BT@SiC颗粒超声分散在除水DMAc溶剂中,制得BT@SiC/DMAc分散液;将所述BT@SiC/DMAc分散液加入聚酰胺酸溶液中进行搅拌,制得BT@SiC/PAA共混液。
[0007](3)将所述BT@SiC/PAA共混溶液涂膜在玻璃板上,再转移在烘胶台上干燥,然后在烘箱中进行干燥亚胺化,制得BT@SiC/PI复合薄膜。
[0008]优选地,步骤(1)中,所述SiC纳米颗粒为5

30nm,以4g/L分散在乙酰丙酮中。
[0009]优选地,步骤(1)中,所述SiC分散液与钛酸四丁酯以1.0g:8.5g(25mmol)的比例混合。
[0010]优选地,步骤(1)中,所述醋酸钡溶解在醋酸中并搅拌,其中所述醋酸钡为5

10mL,所述醋酸为5

10mL,所述搅拌是指温度40

80℃,搅拌时间为20

60分钟。
[0011]优选地,步骤(1)中,所述滤渣进行干燥的温度为60℃;所述煅烧温度为先从室温升温至200℃,升温速率为5 ℃/min ,恒温2

4小时,然后以5

10 ℃/min 升温速率升温至1000℃,恒温4

8小时。
[0012]优选地,步骤(1)中,所述纳米BT@SiC颗粒中BT(碳酸钡)包裹的SiC的厚度为2

20纳米。
[0013]优选地,步骤(3)中,所述在烘胶台上干燥,所述干燥是指在40

60℃温度下干燥6

12小时。
[0014]优选地,步骤(3)中,所述干燥亚胺化,所述干燥指在60

100℃下干燥6

12小时,所述亚胺化是指亚胺化温度在250℃

400℃。
[0015]所述的方法得到BT@SiC/PI复合薄膜可用于制备高温薄膜电容器。
[0016]本专利技术的有益效果:1、所述复合薄膜介电常数高,最高介电常数可达181.8(100Hz),为纯PI薄膜的52倍。
[0017]2、所述复合薄膜介电损耗仍小于 0.6,且具有高的储能密度。
[0018]3、所述复合薄膜保持聚酰亚胺优异的耐热性能以及优异的机械柔韧性。
[0019]4、所述复合薄膜可以应用于制备高储能的高温薄膜电容器。
[0020]附图说明
[0021]图1:BT@Si/PI复合膜的介电常数。
[0022]图2:BT@Si/PI复合膜的投射电镜图。
具体实施方式
[0023]专利技术提供的一种高介电常数BT@SiC/PI复合薄膜的制备方法,可以包括以下步骤:(1)纳米BT@SiC颗粒制备: 取0.2

0.4 g的5

30nm SiC纳米颗粒超声分散在50

100ml的乙酰丙酮中,以4g/L分散在乙酰丙酮中,形成SiC分散液。然后将1.701

3.402g(5

10 mmol)钛酸四丁酯搅拌5

20min,SiC分散液与钛酸四丁酯以1.0g:8.5g(25mmol)的比例混合,形成SiC混合液。同时,将1.277

2.554g (5

10mL)醋酸钡溶解在5

10mL醋酸中,在40

80℃下剧烈搅拌20

60分钟,使其充分溶解,将上述溶液滴入SiC混合液,室温搅拌20

60分钟,然后在室温下老化12

24h。得到的悬浮液过滤,滤渣在60℃下干燥,然后转移至高温管式电炉,在N2气氛下煅烧,温度程序如下:从室温升温至200℃,升温速率为5 ℃/min,恒温2

4小时,然后以5

10 ℃/min升温速率升温至1000℃,恒温4

8小时。得到纳米BT@SiC颗粒,纳米BT@SiC颗粒中BT(碳酸钡)包裹的SiC的厚度为2

20纳米。
[0024](2)预聚阶段:将4,4
′‑
二氨基联苯(ODA)与3,3

,4,4
′‑
二苯甲酮四甲酸二酐(BTDA)加入除水的N,N

二甲基乙酰胺(DMAc),在300~1200 rpm强烈的机械搅拌下,于

5~5℃反应5~12小时,得到特性粘度为1.5~3.5 dl/g的聚酰胺酸溶液;将BT@SiC纳米颗粒加入到除水DMAc溶剂中,超声分散1

4h,得到BT@SiC/DMAc分散液。将固含量为1%

30%的BT@SiC/DMAc分散液分别加入PAA预聚体中,充分搅拌使得分散均匀,得含BT@SiC 1%

30%的BT@SiC/PAA共混液。
[0025]3)热亚胺化阶段:将步骤(2)得到的BT@SiC/PAA共混溶液倾倒在玻璃板上,在玻璃板上均匀涂膜,再转移在烘胶台上,在40~60℃干燥6~12小时,再在真空烘箱60~100℃干燥6~12小时,250℃~400℃下亚胺化,得到BT@SiC/PI复合薄膜。
[0026]下面将结合具体实施例来详细说明本发本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高介电常数BT@SiC/PI复合薄膜的制备方法,包括以下步骤:(1)将SiC纳米颗粒超声分散在乙酰丙酮中,形成SiC分散液;将钛酸四丁酯搅拌5

20min后加入到所述SiC分散液中,形成SiC混合液;将醋酸钡溶解在醋酸中并搅拌后加入到所述SiC混合液中,室温搅拌20

60分钟后老化12

24h,制得的悬浮液后经过过滤得到滤渣,将所述滤渣进行干燥后转移至高温管式电炉,在N2气氛下煅烧,制得纳米BT@SiC颗粒;(2)将所述纳米BT@SiC颗粒超声分散在除水DMAc溶剂中,制得BT@SiC/DMAc分散液;将所述BT@SiC/DMAc分散液加入聚酰胺酸溶液中进行搅拌,制得BT@SiC/PAA共混液;(3)将所述BT@SiC/PAA共混溶液涂膜在玻璃板上,再转移在烘胶台上干燥,然后在烘箱中进行干燥亚胺化,制得BT@SiC/PI复合薄膜。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:步骤(1)中,所述SiC纳米颗粒为5

30nm,以4g/L分散在乙酰丙酮中。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:步骤(1)中,所述SiC分散液与钛酸四丁酯以1.0g:8.5g(25mmol)的比例混合。4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:步骤(1)中,所述醋酸钡溶解在醋酸中并搅拌,所述醋酸钡为5

10mL,所述醋酸为5

【专利技术属性】
技术研发人员:彭信文刘颖波徐韬侯豪情
申请(专利权)人:江西师范大学
类型:发明
国别省市:

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