壳体组件及其制备方法和电子设备技术

本申请提供了壳体组件及其制备方法和电子设备。该壳体组件包括：基材；UV纹理层，UV纹理层设置在基材的一侧；光学镀膜层，光学镀膜层设置在UV纹理层远离基材的表面上，光学镀膜层包括至少一层第一子镀膜层和至少一层第二子镀膜层，第一子镀膜层和第二子镀膜层交替设置，第一子镀膜层的折射率小于第二子镀膜层的折射率，且第二子镀膜层的折射率大于等于3.0。通过设置较高折射率的第二子镀膜层，在可以实现高亮度的同时，还可以大大减小第二子镀膜层的厚度，从而将光学镀膜层的整体厚度减薄，避免了因厚度过厚而导致的膜层开裂的问题，提高产品良率，而且在工艺上缩短镀膜的时间，提高了设备的利用率，降低了生产成本。降低了生产成本。降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】
壳体组件及其制备方法和电子设备


[0001]本申请涉及电子设备
，具体的，涉及壳体组件及其制备方法和电子设备。

技术介绍

[0002]在目前的壳体组件中，膜片的镀膜工艺通常包括两种：一种是镀氧化硅、铟锡、氧化铌、氧化钛、氧化硅等膜层结构，使壳体增亮，获得高亮银色的外观效果；另一种是镀氧化铌、氧化钛、氧化硅等高低折射率叠加的光学膜，获得高亮的质感，实现各种色彩。但是，上述两种镀膜方案中，为了使得壳体组件的外观具有较高的亮度，镀膜厚度都比较厚，导致镀膜时间长，效率低。

技术实现思路

[0003]本申请旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本申请的一个目的在于提出一种壳体组件，该壳体组件的外观亮度较佳，光学镀膜不易开裂。
[0004]在本申请的一方面，本申请提供了一种壳体组件。根据本申请的实施例，壳体组件包括：基材；UV纹理层，所述UV纹理层设置在所述基材的一侧；光学镀膜层，所述光学镀膜层设置在所述UV纹理层远离所述基材的表面上，所述光学镀膜层包括至少一层第一子镀膜层和至少一层第二子镀膜层，所述第一子镀膜层和所述第二子镀膜层交替设置，所述第一子镀膜层的折射率小于所述第二子镀膜层的折射率，且所述第二子镀膜层的折射率大于等于3.0。根据菲涅尔原理可知，实现相同的反射率(亮度)，较高折射率的材料所需的厚度更薄。在本申请中，通过设置较高折射率的第二子镀膜层，在可以实现高亮度的同时，还可以大大减小第二子镀膜层的厚度，从而将光学镀膜层的整体厚度减薄，避免了因厚度过厚而导致的膜层开裂的问题，提高产品良率，而且在工艺上缩短镀膜的时间，提高了设备的利用率，降低了生产成本。
[0005]在本申请的另一方面，本申请提供了一种制备壳体组件的方法。根据本申请的实施例，制备壳体组件的方法包括：提供基材；在所述基材的一侧形成UV纹理层；在所述UV纹理层远离所述基材的表面上溅射沉积光学镀膜层，所述光学镀膜层包括至少一层第一子镀膜层和至少一层第二子镀膜层，所述第一子镀膜层和所述第二子镀膜层交替形成，所述第一子镀膜层的折射率小于所述第二子镀膜层的折射率，且所述第二子镀膜层的折射率大于等于3.0。由此，在本申请的上述制备方法中，通过形成较高折射率的第二子镀膜层，在同样可以实现高亮度的同时，还可以大大减小第二子镀膜层的厚度，从而将光学镀膜层的整体厚度减薄，避免了因厚度过厚而导致的膜层开裂的问题，提高产品良率，而且在工艺上缩短镀膜的时间，提高了设备的利用率，降低了生产成本。
[0006]在本申请的又一方面，本申请提供了一种电子设备。根据本申请的实施例，电子设备包括：前面所述的壳体组件；显示屏组件，所述显示屏组件与所述壳体组件相连，且所述显示屏组件和所述壳体组件之间限定出安装空间；以及主板，所述主板设置在所述安装空间内且与所述显示屏组件电连接。由此，电子设备的壳体外观具有较高的亮度，提高了其外
观的金属质感，而且电子设备的壳体组件的厚度较薄。本领域技术人员可以理解，该电子设备具有前面所述的壳体组件的所有特征和优点，在此不再过多的赘述。
附图说明
[0007]本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0008]图1是本申请一个实施例中壳体组件的结构示意图；
[0009]图2是本申请另一个实施例中壳体组件的结构示意图；
[0010]图3是本申请又一个实施例中壳体组件的结构示意图；
[0011]图4是本申请又一个实施例中制备壳体组件的流程图；
[0012]图5是本申请又一个实施例中电子设备的结构示意图。
具体实施方式
[0013]下面将结合实施例对本申请的方案进行解释。本领域技术人员将会理解，下面的实施例仅用于说明本申请，而不应视为限定本申请的范围。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。
[0014]下面参考具体实施例，对本申请进行描述，需要说明的是，这些实施例仅仅是描述性的，而不以任何方式限制本申请。
[0015]在本申请的一方面，本申请提供了一种壳体组件。根据本申请的实施例，参照图1，壳体组件包括：基材10；UV纹理层20，UV纹理层20设置在基材10的一侧；光学镀膜层30，光学镀膜层30设置在UV纹理层20远离基材10的表面上，光学镀膜层30包括至少一层第一子镀膜层31和至少一层第二子镀膜层32(图1中仅仅是以光学镀膜层30包括两层第一子镀膜层31和一层第二子镀膜层32为例)，第一子镀膜层31和第二子镀膜层32交替设置，第一子镀膜层31的折射率小于第二子镀膜层32的折射率，且第二子镀膜层32的折射率大于等于3.0。根据菲涅尔原理可知，实现壳体组件外观相同的反射率(亮度)，较高折射率的材料所需的厚度更薄。在本申请中，通过设置较高折射率的第二子镀膜层，在可以实现高亮度、强烈的金属质感的同时，还可以大大减小第二子镀膜层的厚度，从而将光学镀膜层的整体厚度减薄，避免了因厚度过厚而导致的膜层开裂的问题，提高产品良率，而且在工艺上缩短镀膜的时间，提高了设备的利用率，降低了生产成本。
[0016]根据本申请的实施例，第一子镀膜层的折射率小于等于2.0，第二子镀膜层的折射率大于等于4.0。由此，第二子镀膜层具有更好的折射率，且第一子镀膜层与第二子镀膜层之间的折射率的差值较大，可以更好的提高壳体组件的金属质感，大大减小第二子镀膜层的厚度，从而将光学镀膜层的整体厚度减薄。
[0017]根据本申请的实施例，基材的具体种类没有特殊要求，本领域的技术人员可以根据实际需求灵活选择，比如，基材可以为玻璃基材、塑胶基材、陶瓷基材或金属基材等。其中，基材的厚度没有特殊要求，本领域技术人员可以根据基材的具体材质等实际情况灵活选择即可。
[0018]进一步的，UV纹理层的厚度以及纹理图案没有特殊要求，本领域技术人员可以根
据实际需求灵活选择。在一些实施例中，UV纹理层的厚度可以为6～15微米。
[0019]根据本申请的实施例，与UV纹理层表面接触的子镀膜层可以是第一子镀膜层，也可以是第二子镀膜层，在此没有特殊要求，本领域技术人员可以进行灵活设置。其中，与UV纹理层接触设置的子镀膜层还具有层结构之间的衔接作用，进而提高光学镀膜层在UV纹理层上的附着力，提高壳体组件的结构稳定性，其中，与UV纹理层接触设置的子镀膜层的厚度可以相对其他子镀膜层的厚度较薄。还有，与基材距离最远的子镀膜层的可以是第一子镀膜层，也可以是第二子镀膜层，在此没有特殊要求，本领域技术人员可以进行灵活设置。其中，与基材距离最远的子镀膜层还具有层结构之间的衔接作用，进而提高光学镀膜层的附着力，提高壳体组件的结构稳定性，其中，与基材距离最远的子镀膜层的厚度可以相对其他子镀膜层的厚度较薄。在一些实施例中，可以使得基材与一层第一子镀膜层邻接设置，如此可以更好的提供壳体组件的亮度和金属质感。
[0020]根据本本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种壳体组件，其特征在于，包括：基材；UV纹理层，所述UV纹理层设置在所述基材的一侧；光学镀膜层，所述光学镀膜层设置在所述UV纹理层远离所述基材的表面上，所述光学镀膜层包括至少一层第一子镀膜层和至少一层第二子镀膜层，所述第一子镀膜层和所述第二子镀膜层交替设置，所述第一子镀膜层的折射率小于所述第二子镀膜层的折射率，且所述第二子镀膜层的折射率大于等于3.0。2.根据权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述第一子镀膜层的折射率小于等于2.0，所述第二子镀膜层的折射率大于等于4.0。3.根据权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述第二子镀膜层的材料为非晶硅或含非晶硅混合物，其中，所述含非晶硅混合物中的硅含量大于等于70％。4.根据权利要求3所述的壳体组件，其特征在于，所述含非晶硅混合物为Si
‑
C、Si
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Ge、Si
‑
Al、Si
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Zr和Si
‑
Nb中的至少一种。5.根据权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述第一子镀膜层的材料为二氧化硅、二氧化锆、氧化铝和氟化镁中的至少一种。6.根据权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述光学镀膜层的总厚度小于等于800nm，所述壳体组件的外表面的亮度L值大于等于80。7.根据权利要求6所述的壳体组件，其特征在于，所述光学镀膜层的总厚度小于等于500nm，所述壳体组件的外表面的亮度L值大于等于90。8.根据权利要求1～7中任一项所述的壳体组件，其特征在于，所述第一子镀膜层和所述第二子镀膜层的总层数为2～9层；所述基材与一层所述第一子镀膜层邻接。9.根据权利要求8所述的壳体组件，其特征在于，所述光学镀膜层包括四层所述第一子镀膜层和四层所述第二子镀膜层，所述第二子镀膜层的材料为非晶硅，所述第一子镀膜层的材料为二氧化硅...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢湘武，赵荣琦，
申请(专利权)人：OPPO广东移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：