【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】超薄微电池包装和处理
技术介绍
[0001]本专利技术总体上涉及电池设计、构造和用途,并且更具体地涉及微电池的处理、密封和包装。
[0002]微型电池是具有广泛使用的小型典型单个单元电池,包括诸如无线耳塞、耳机或助听器的可穿戴设备、手表、计算器、诸如起搏器的可植入装置以及其他产品。用途范围从消费产品到医疗和工业用途。
[0003]然而,用于微电池的超薄电池基板可能非常易碎。此类超薄电池可以是例如厚度范围从0.01mm至1mm的薄膜Li电池。解决微电池的这些和其他问题将是有益的。
技术实现思路
[0004]该部分旨在是示例性的并且不旨在是限制性的。
[0005]在示范性实施例中,微电池包括形成在堆叠体中的微电池结构。堆叠体包括多个表面。所述微电池包括在所述表面之一上并耦接到所述微电池结构中的电池的阳极的第一端子。该微电池包括第二端子,该第二端子在所述表面之一上并且耦接到该微电池结构中的电池的阴极上。所述微电池还包括覆盖所述堆叠体的至少一个表面的含金属膜。
[0006]另外的示例性实施例是一种用于形成微电池的方法。该方法包括将薄膜电池面板安装到处理器上,薄膜电池板包括具有形成于其中的多个微电池结构的堆叠体。薄膜电池面板在粘合剂层上具有表面,并且粘合剂层在处理器上的释放层上。所述堆叠体包括基板、聚合物和盖板的层。该方法包括切穿堆叠体的多个层以至少部分地分离多个微电池结构,以及在已经切穿的堆叠体的多个层的表面上模制焊料。该方法另外包括将多个微电池结构单个化成相应的单个微电池单元。
[0007]又 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种微电池,包括:形成在堆叠体中的微电池结构,所述堆叠体包括多个表面;第一端子,所述第一端子在所述表面之一上并耦接到所述微电池结构中的电池的阳极;第二端子,位于所述表面之一上并耦接到所述微电池结构中的所述电池的阴极;以及覆盖所述堆叠体的表面的至少一个的含金属膜。2.根据权利要求1所述的微电池,其中,所述含金属膜包括焊料。3.根据权利要求1所述的微电池,其中,所述多个表面包括两个侧表面,并且所述含金属膜覆盖所述堆叠体的表面的至少两侧。4.根据权利要求3所述的微电池,其中所述多个表面包括所述第一端子和所述第二端子所在的正面以及与所述正面相对的另一侧,并且其中所述含金属膜另外覆盖所述堆叠体的另一侧。5.根据权利要求4所述的微电池,其中:该堆叠体包括基板、聚合物、和盖板的多个层,盖板层在该堆叠体的另一侧上并且被该含金属膜覆盖,并且该基板在该正面上;所述堆叠体具有在两侧之间的长度,并且所述层沿着所述长度是平行的;至少将聚合物层和盖板层从所述基板的与所述微电池的边缘相邻的区域上方去除;所述含金属膜包括金属;以及焊料膜覆盖所述含金属膜的表面。6.根据权利要求5所述的微电池,其中,所述基板在所述长度的大约中点处较厚并且在所述堆叠体的端部处较薄,并且至少所述聚合物和顶部覆盖层从所述基板的与所述微电池的边缘相邻的较薄区域上方去除。7.根据权利要求4所述的微电池,其中:该堆叠体包括基板、聚合物、和盖板的多个层,盖板层在该堆叠体的另一侧上并且被该含金属膜覆盖,并且该基板在该正面上;所述堆叠体具有在两侧之间的长度,并且所述层沿着所述长度是平行的;所述含金属膜包括金属;焊料膜覆盖所述含金属膜的表面;以及所述正面上的所述基板具有不被所述含金属膜或所述焊料膜覆盖的表面。8.根据权利要求4所述的微电池,其中:该堆叠体包括基板、聚合物、和盖板的多个层,盖板层在该堆叠体的另一侧上并且被该含金属膜覆盖,并且该基板在该正面上;所述堆叠体具有在两侧之间的长度,并且所述层沿着所述长度是平行的;所述含金属膜包括金属;焊料膜覆盖所述含金属膜的表面;聚合物覆盖所述焊料膜的表面;所述正面上的所述基板至少部分地覆盖有粘合剂,并且所述正面包括耦接至通孔的两个端子,所述通孔延伸穿过基板层;聚合物膜覆盖所述焊料膜的表面以及所述粘合剂的与覆盖所述基板的所述粘合剂的表面相对的表面;以及
在该聚合物膜中形成了多个开口以露出相应的端子的至少一部分。9.根据权利要求8所述的微电池,其中,所述开口填充有导体。10.根据权利要求4所述的微电池,其中:该堆叠体包括基板、聚合物、和盖板的多个层,盖板层在该堆叠体的另一侧上并且被该含金属膜覆盖,并且该基板在该正面上;所述堆叠体具有在两侧之间的长度,并且所述层沿着所述长度是平行的;所述含金属膜包括焊料;以及所述含金属膜覆盖所述基板的一部分,并且所述基板的其余部分具有未被所述含金属膜覆盖的表面。11.根据权利要求1所述的微电池,其中,所述微电池的厚度在0.01mm至1mm的范围内。12.一种用于形成微电池的方法,包括:将薄膜电池面板安装到处理器上,所述薄膜电池面板包括堆叠体,所述堆叠体具有形成于其中的多个微电池结构,其中所述薄膜电池面板在粘合剂层上具有表面,并且所述粘合剂层在所述处理器上的释放层上,其中所述堆叠体包括基板、聚合物和盖板的层;切穿所...
【专利技术属性】
技术研发人员:党兵,L潘科斯特,JW纳赫,J尼克博克,
申请(专利权)人:国际商业机器公司,
类型:发明
国别省市:
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