离子阱加载组件制造技术

提供一种加载组件，其被配置用于向原子对象限制装置提供原子对象。加载组件包括一个或更多个烘箱。每个烘箱(a)包括相应烘箱喷嘴并且(b)被配置为经由相应烘箱喷嘴生成相应原子种类的相应原子通量。加载组件包括反射镜阵列和磁体阵列，该反射镜阵列和该磁体阵列被配置为在向反射镜和磁体组件提供光束时生成二维磁光阱(2D MOT)。2D MOT被配置为根据所述一个或更多个烘箱生成的相应原子通量生成基本准直的原子束。加载组件还包括限定束路径的差动泵浦管。差动泵浦管被配置为经由束路径提供基本准直的原子束。所述一个或更多个烘箱中的每一个的相应烘箱喷嘴与束路径错位，并且2D MOT被配置为提供与束路径对准的基本准直的原子束。束。束。

【技术实现步骤摘要】
离子阱加载组件
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2021年3月31日提交的美国申请No.63/200,834的优先权，其内容通过引用整体并入本文。


[0003]各种实施例涉及与利用原子对象(诸如离子)加载原子对象限制装置有关的装置、系统和方法。各种实施例涉及使用二维(2D)磁光阱将多个种类的原子对象加载到原子对象限制装置中。

技术介绍

[0004]用于加载离子阱的传统原子源提供原子云，其中一些被离子阱电离和捕获。然而，相当数量的原子没有被俘获并成为离子阱设置在其中的真空腔室内的背景气体。因此，传统原子源的加载速度相对较慢，并且会损害真空腔室内的真空性能。通过努力、独创性和创新，现有离子阱加载技术的许多缺陷已经通过开发根据本专利技术实施例构成的解决方案而得到解决，本文详细描述了其中的多个示例。

技术实现思路

[0005]示例实施例提供用于将原子对象加载到原子对象限制装置中的方法、系统、装置、计算机程序产品等。在各种实施例中，两个或更多个种类的原子对象被加载到原子对象限制装置中。在各种实施例中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种系统，包括：加载组件，其被配置用于向原子对象限制装置提供原子对象，所述加载组件包括：一个或更多个烘箱，所述一个或更多个烘箱中的每个烘箱(a)包括相应烘箱喷嘴并且(b)被配置为经由相应烘箱喷嘴生成相应原子种类的相应原子通量；反射镜阵列和磁体阵列，所述反射镜阵列和磁体阵列被配置为在向反射镜和磁体组件提供光束时生成二维磁光阱，其中，所述二维磁光阱被配置为根据所述一个或更多个烘箱生成的相应原子通量生成基本准直的原子束；和差动泵浦管，所述差动泵浦管限定束路径，其中，所述差动泵浦管被配置为经由束路径提供基本准直的原子束，其中，所述一个或更多个烘箱中的每一个的相应烘箱喷嘴与束路径错位，并且所述二维磁光阱被配置为提供与束路径对准的基本准直的原子束。2.根据权利要求1所述的系统，还包括所述原子对象限制装置，其中，所述一个或更多个烘箱中的每一个的相应烘箱喷嘴不具有原子对象限制装置的直接视线。3.根据权利要求1所述的系统，还包括所述原子对象限制装置，其中，所述加载组件与原子对象限制装置之间的距离大于0.25米。4.根据权利要求1所述的系统，还包括所述原子对象限制装置，其中，所述原子对象限制装置和加载组件被至少部分地设置在低温恒温器和/或真空腔室内。5.根据权利要求1所述的系统，还包括所述原子对象限制装置；以及一个或更多个热屏蔽件，所述一个或更多个热屏蔽件设置在所述原子对象限制装置与加载组...

【专利技术属性】
技术研发人员：雅各布，
申请(专利权)人：量子计算有限责任公司，
类型：发明
国别省市：