光学滤波器、固体摄像装置及照相机模块制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种翘曲小、雾度(Haze)值小且耐久性优异的光学滤波器、固体摄像装置及照相机模块。一种光学滤波器，在基材的至少一面具有将包含高折射率层与低折射率层的多层结构重复交替地层叠而成的电介质多层膜，高折射率层为Ce

【技术实现步骤摘要】
光学滤波器、固体摄像装置及照相机模块


[0001]本专利技术涉及一种光学滤波器、固体摄像装置及照相机模块。

技术介绍

[0002]在利用特定波长区域的光线的各种各样的装置中，使用光学滤波器，所述光学滤波器通常使特定波长区域的光线透过并遮蔽特定波长区域的光线。这些特定波长区域是根据使用光学滤波器的用途来决定。
[0003]在摄像机、数字静态照相机、带有照相机功能的移动电话、智能手机等固体摄像装置中，使用作为彩色图像的固体摄像元件的电荷耦合器件(charge coupled device，CCD)或互补金属氧化物半导体(complementary metal oxide semiconductor，CMOS)图像传感器。这些固体摄像元件在其光接收部中使用对于近红外线具有灵敏度的传感器，因此需要进行能见度修正，在进行此种能见度修正时，例如使用使可见光区域的光线透过并遮蔽特定近红外线区域的光线的近红外线截止滤波器(例：专利文献1等中记载的近红外线截止滤波器)作为所述光学滤波器。
[0004]另外，近年来，在智能手机等移动电话或车载终端等中，出于提高安全感(security)或安全性的目的，在进行利用可见光线的摄像的同时，进行利用其他波长区域(例：近红外～红外光线区域)的光线的距离测定或面部认证等的活动正在扩大。在进行此种距离测定或面部认证等时，例如使用使近红外～红外光线区域中的特定波长的光线透过并遮蔽其他特定波长区域的光线的光学滤波器(例：近红外线透过滤波器(红外线通过滤波器(Infrared Ray Pass Filter，IRPF)))作为所述光学滤波器。
[0005]进而，有利用可见光线与近红外光线区域中的特定波长的光线的装置，在所述装置中，例如使用使近红外光线区域中的特定波长区域的光线与可见光区域的光线透过并遮蔽其他特定波长区域的光线的光学滤波器(例：可见光
‑
近红外线选择透过滤波器(双带通滤波器(Dual Band Pass Filter，DBPF)))作为所述光学滤波器。
[0006]一般而言，已知有光学滤波器在包括吸收层的基材的单面或两面具有将高折射率层与低折射率层交替地层叠而成的电介质多层膜，例如通过离子辅助蒸镀成膜而形成电介质多层膜(专利文献1：日本专利特开2021
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039369号公报)。
[0007][现有技术文献][0008][专利文献][0009][专利文献1]日本专利特开2021
‑
039369号公报

技术实现思路

[0010][专利技术所要解决的问题][0011]在实际生产中，当将光学滤波器组入至模块中时，在滤波器的翘曲大的情况下，有时产生与模块的粘接不良，理想的是减少翘曲。
[0012]虽然通过形成所述电介质多层膜而抑制翘曲自身，但是依然存在因由电介质多层
膜与基材的热膨胀系数的差引起的热应力或电介质多层膜其本身的膜应力而会产生翘曲的问题。
[0013]特别是，随着基材变薄，电介质多层膜的影响变大，即便是小的翘曲，影响也增大。翘曲成为模块组装工序中的故障的主要原因，且成为使制品良率降低的原因，因此要求减低起因于电介质多层膜的应力。
[0014]作为高折射率层的低应力材，已知有氧化铈(CeO2)，但氧化铈的结晶性高，在制成电介质多层膜的情况下，来自结晶的散射(雾度(Haze)值)大且不适合于光学滤波器用途。作为抑制雾度(Haze)的产生以及减低翘曲的方法，也有减低电介质多层膜的层数的方法，但无法获得所期望的光学特性而不适合。
[0015]另外，作为抑制翘曲的其他方法，也有在制膜电介质多层膜时使离子辅助能量降低的方法，但存在电介质多层膜的膜质变疏松，例如实施高温高湿的耐久试验时的耐久性会显著降低的问题。
[0016]本专利技术是鉴于以上情况而成，课题在于提供一种翘曲小、雾度(Haze)值小且耐久性优异的光学滤波器及使用所述光学滤波器的装置。
[0017][解决问题的技术手段][0018]本专利技术人们为了解决所述课题而进行了努力研究，结果发现，根据下述结构例而可解决所述课题，从而完成了本专利技术。以下示出本专利技术的结构例。
[0019][1]一种光学滤波器，在基材的至少一面具有将包含高折射率层与低折射率层的多层结构重复层叠而成的电介质多层膜，至少一层高折射率层为Ce
x
M
y
O
z
。
[0020](M为Si、Ta或Al的任一种，
[0021]x、y、z为0.5≦x≦0.95、0.05≦y≦0.5、1≦z)
[0022][2]根据[1]所述的光学滤波器，其中，低折射率层的波长550nm下的折射率为1.6以下。
[0023][3]根据[1]或[2]所述的光学滤波器，其中，基材的厚度为150μm以下。
[0024][4]根据[1]至[3]中任一项所述的光学滤波器，其中，基材包含树脂组合物。
[0025][5]根据[1]至[3]中任一项所述的光学滤波器，其中，基材为玻璃。
[0026][6]一种固体摄像装置，包括根据[1]至[5]中任一项所述的光学滤波器。
[0027][7]一种照相机模块，包括根据[1]至[5]中任一项所述的光学滤波器。
[0028][专利技术的效果][0029]根据本专利技术，可提供一种翘曲小、雾度(Haze)值小且耐久性优异的光学滤波器及使用所述光学滤波器的装置。
[0030]具体而言，为了抑制作为低膜应力的高折射率材的氧化铈(CeO2)的结晶化而使用将Si或Ta、Al等元素掺杂于CeO2中而成的材料，由此可在不降低离子辅助能量的情况下抑制膜应力，从而获得将翘曲抑制得小且雾度(Haze)值也抑制得低的光学滤波器。
具体实施方式
[0031]《光学滤波器》
[0032]本专利技术的光学滤波器(以下也称为“本滤波器”)中，
[0033]在基材的至少一面具有将包含高折射率层与低折射率层的多层结构重复层叠而
成的电介质多层膜。多层结构只要包含高折射率层与低折射率层，则其结构并无特别限定，即便是包含高折射率层与低折射率层的多层结构，也可进而在中间至少设置其他层。在本专利技术中，重复层叠此种多层结构，也可层叠高折射率层或低折射率层彼此。另外，作为电介质多层膜整体，优选为设置成最外层成为低折射率层，但基材侧最内层并无特别限定。
[0034]＜电介质多层膜＞
[0035]电介质多层膜的高折射率层为Ce
x
M
y
O
z
。
[0036](M为Si、Ta或Al的任一种，
[0037]x、y、z为0.5≦x≦0.95、0.05≦y≦0.5、1≦z)
[0038]在M为Si时，x、y、z为0.5≦x≦0.95、0.05≦y≦0.5、1≦z，优选为0.65≦x≦0.95、0.05≦y≦0.35、1≦z，进而优选为0.80≦x≦0.95、0.05≦本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学滤波器，在基材的至少一面具有将包含高折射率层与低折射率层的多层结构重复层叠而成的电介质多层膜，至少一层高折射率层为Ce
x
M
y
O
z
；M为Si、Ta或Al的任一种，x、y、z为0.5≦x≦0.95、0.05≦y≦0.5、1≦z。2.根据权利要求1所述的光学滤波器，其中，低折射率层的波长550nm下的折射率为1.6以下。3.根据权利要求1或2所...

【专利技术属性】
技术研发人员：长尾敦记，王鹏宇，坪内孝史，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：