化合物和含所述化合物的聚合物组合物制造技术

技术编号:35093568 阅读:32 留言:0更新日期:2022-10-01 16:54
一种化合物,其包含2个以上来自具有自由基聚合性基团的单体M的结构单元且在末端具有自由基聚合性基团A,其中,所述单体M包含单体m,所述单体m具有受光激发而生成活性种的结构。构。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】化合物和含所述化合物的聚合物组合物


[0001]本专利技术涉及一种有效提高粘合剂的粘合力、保持力等性能等的化合物,以及含所述化合物的聚合物组合物。本申请基于2020年3月24日在日本提出的日本专利特愿2020

53216号主张优先权,在此援引其内容。

技术介绍

[0002]与聚合物形成交联结构的化合物在涂料、膜、成型材料、粘合剂、粘接剂等各种用途中用于改良物理性质。例如,在专利文献1中记载了一种粘合片,其包含具有放射线反应性位点的(甲基)丙烯酸共聚物和能够通过放射线照射与所述(甲基)丙烯酸共聚物形成键的增塑剂。现有技术文献专利文献
[0003]专利文献1:日本特开2013

40256号公报

技术实现思路

专利技术所要解决的问题
[0004]然而,通过专利文献1记载的方法得到的粘合剂的粘合力、保持力不足。本专利技术的目的是解决这些问题。解决问题的技术方案
[0005]本专利技术的第一要点是一种化合物,其包含2个以上来自具有自由基聚合性基团的单体M的结构单元且在末端具有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种化合物,其包含2个以上来自具有自由基聚合性基团的单体M的结构单元且在末端具有自由基聚合性基团A,其中,所述单体M包含单体m,所述单体m具有受光激发而生成活性种的结构。2.根据权利要求1所述的化合物,其中,受光激发而生成的活性种是自由基。3.根据权利要求1或权利要求2所述的化合物,其中,所述单体m具有由下式1表示的结构;[化1]式中,R
A
、R
B
各自独立地表示烷基、烷氧基、羟基、羧基或卤素原子;n表示0~5的整数;m表示0~4的整数;X表示(甲基)丙烯酰氧基或(甲基)丙烯酰氧基亚烷基氧基。4.根据权利要求1至权利要求3中任一项所述的化合物,其中,相对于所述化合物的总质量,所述化合物中来自所述单体m的结构单元的含量为0.01质量%以上且50质量%以下。5.根据权利要求1至权利要求4中任一项所述的化合物,其中,所述单体M包含具有脂环结构的(甲基)丙烯酸酯。6.根据权利要求1至权利要求5中任一项所述的化合物,其中,利用凝胶渗透色谱测定的重均分子量为1000以上且100000以下。7.根据权利要求1至权利要求6中任一项所述的化合物,其具有由下式2表示的结构:[化2]式中,R是具有受光激发而生成活性种的结构的基团、或碳原子数1~30的直链或支链的烷基、无取代或具有取代基的脂环基、无取代或具有取代基的芳基,或无取代或具有取代基的杂环基;Z是末端基团;多个R
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各自独立地表示氢原子或甲基;多个R
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各自独立地表示具有受光激发而生成活性种的结构的基团、无取代或具有取代基的烷基、无取代或具有取代基的脂环基、无取代或具有取代基的芳基、无取代或具有取代基的杂芳基、无取代或具有取代基的芳烷基、无取代或具有取代基的烷芳基、无取代或具有取代基的...

【专利技术属性】
技术研发人员:藤田果奈美杉原光律
申请(专利权)人:三菱化学株式会社
类型:发明
国别省市:

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