光透射性积层体的检查方法技术

本发明专利技术提供一种可检测出与以往相比格外微小的异物的光透射性积层体的检查方法。本发明专利技术光透射性积层体的检查方法是在将光透射性积层体逐片固定在半空中的状态下进行透射检查，检测光透射性积层体中的8μm～50μm尺寸的缺陷。例如，缺陷的检测包含以下步骤：将规定倍率的光学系统的焦点对准光透射性积层体的第一主面的表面，并以光学系统扫描光透射性积层体，而制作出缺陷的XY坐标图；使光学系统的焦点从光透射性积层体的第一主面的表面向厚度方向内侧偏移规定距离，并以光学系统扫描光透射性积层体，而制作出另一缺陷的XY坐标图；及，整合制作出的缺陷的XY坐标图。整合制作出的缺陷的XY坐标图。整合制作出的缺陷的XY坐标图。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光透射性积层体的检查方法


[0001]本专利技术涉及一种光透射性积层体的检查方法。

技术介绍

[0002]应用于影像显示装置的光透射性积层体(例如光学构件、光学积层体、光学薄膜、光透射性黏着片)为了防止影像显示缺陷等，必须排除该积层体内部的异物。因此，所述光透射性积层体代表上会用于异物检查。异物检查代表上是一边输送光透射性积层体的长条状带材一边进行的透射检查，在该透射检查中异物及/或缺陷可被辨识为暗点。近年来，对于影像显示装置所要求的显示性能变得格外地高，结果对于光透射性积层体的异物检查精度的要求亦变得格外地高。具体而言，以往只要检测出50μm左右的异物及/或缺陷即可容许，但现已产生检测出10μm左右的异物及/或缺陷的需求。但是，就所述的一边输送长条状带材一边进行的异物检查而言，要检测出如此小的异物及/或缺陷极为困难。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：特开2005
‑
062165号公报

技术实现思路

[0006]专利技术将要解决的技术问题
[0007]本专利技术为了解决所述课题，其主要目的在于提供一种可检测出与以往相比格外微小的异物及/或缺陷的光透射性积层体的检查方法。
[0008]用于解决技术问题的手段
[0009]本专利技术实施方式的光透射性积层体的检查方法是在将光透射性积层体逐片固定在半空中的状态下进行透射检查，并检测该光透射性积层体中的8μm～50μm尺寸的缺陷。
[0010]在一实施方式中，所述缺陷的检测包含以下步骤：将规定倍率的光学系统的焦点对准所述光透射性积层体的第一主面的表面，并利用该光学系统扫描该光透射性积层体，而制作出缺陷的XY坐标图；使该光学系统的焦点从该光透射性积层体的第一主面的表面向厚度方向内侧偏移规定距离，并利用该光学系统扫描该光透射性积层体，而制作出另一缺陷的XY坐标图；及，整合该制作出的缺陷的XY坐标图。
[0011]在一实施方式中，所述缺陷的检测包含以下步骤：使所述光学系统的焦点向所述光透射性积层体的厚度方向内侧偏移该规定距离并利用该光学系统扫描该光透射性积层体，反复进行所述操作规定次数，而制作出规定数量的缺陷的XY坐标图。
[0012]在一实施方式中，所述缺陷的检测包含以下步骤：仅针对所述经整合的缺陷的XY坐标图中发生缺陷的坐标，使用比所述规定倍率更高倍率的光学系统来测定该缺陷的厚度方向的位置。
[0013]在一实施方式中，所述缺陷的厚度方向的位置的测定包含以下步骤：将所述高倍率的光学系统的焦点对准所述光透射性积层体的第一主面的表面；及，使该焦点向该光透
射性积层体的厚度方向内侧移动，测定从该第一主面的表面到该缺陷为止的距离。
[0014]在一实施方式中，所述规定距离为10μm～100μm。
[0015]在一实施方式中，所述规定倍率为5倍以下。在一实施方式中，所述高倍率为10倍以上。
[0016]在一实施方式中，所述光透射性积层体选自光学薄膜、黏着剂片及该等的组合之中。在一实施方式中，所述光学薄膜选自偏光板、相位差板及包含该等的积层体之中。
[0017]在一实施方式中，所述光透射性积层体的厚度为300μm以下。
[0018]在一实施方式中，所述检查方法是在以下区域中进行所述缺陷的检测：以所述规定倍率的光学系统进行扫描时，扫描距离每1000μm的所述光透射性积层体的第一主面的厚度方向的变动量成为
±
10μm以内的区域。
[0019]在一实施方式中，所述检查方法是在所述光透射性积层体的挠曲角度相对于水平方向呈
±
0.57
°
以内的区域中进行所述缺陷的检测。
[0020]在一实施方式中，所述检查方法是在将所述光透射性积层体横向架设的状态下进行所述缺陷的检测。
[0021]在一实施方式中，所述检查方法是在将所述光透射性积层体中属于非制品区域的相对向的端部固定在一对可相对地靠近或远离的支持构件上的状态下，进行所述缺陷的检测。
[0022]在一实施方式中，所述一对支持构件可滑动，且以朝互相远离的方向被赋予势能。
[0023]在一实施方式中，所述光透射性积层体包含黏着剂层，且该光透射性积层体透过该黏着剂层固定于所述一对支持构件上。在一实施方式中，所述光透射性积层体透过所述黏着剂层所进行的固定包含以下步骤：将该光透射性积层体的一端部的分离件剥离去除，并透过所露出的该黏着剂层贴合于其中一支持构件上；接着，将另一端部的分离件剥离去除，并透过所露出的该黏着剂层贴合于另一支持构件上。
[0024]在一实施方式中，所述光透射性积层体包含以可剥离的方式暂时黏附于至少一表面的表面保护薄膜，且所述检查方法包含以下步骤：在将该光透射性积层体固定于所述一对支持构件后，暂时剥离该表面保护薄膜。在一实施方式中，所述检查方法包含以下步骤：在所述缺陷的检测后，于所述光透射性积层体的至少一表面，以可剥离的方式暂时黏附所述已暂时剥离的所述表面保护薄膜或与该表面保护薄膜不同的另一表面保护薄膜。
[0025]根据本专利技术另一面向是提供一种用于所述光透射性积层体的检查方法的光透射性积层体。该光透射性积层体进一步包含至少1片以可剥离的方式暂时黏附于所述第一主面侧的反射性保护薄膜。该反射性保护薄膜具有在将所述规定倍率的光学系统的焦点对准该第一主面的表面时反射照射光且透射检查光的功能。
[0026]在一实施方式中，所述反射性保护薄膜满足以下关系：
[0027]y≥0.0181x
‑
11.142
[0028]在此，x是在650nm～800nm的波长区域中的检测波长的绝对值，y是反射率的绝对值。
[0029]在一实施方式中，所述光透射性积层体进一步包含以可剥离的方式暂时黏附于所述反射性保护薄膜的表面的表面保护薄膜。
[0030]在一实施方式中，所述光透射性积层体进一步包含形成于所述反射性保护薄膜的
表面的硬涂层。
[0031]在一实施方式中，所述光透射性积层体设有可在检查后辨识检查完毕区域的辨识机构。
[0032]专利技术效果
[0033]根据本专利技术实施方式的光透射性积层体的检查方法，通过在将光透射性积层体逐片固定在半空中的状态下进行透射检查，可检测出与以往相比格外微小的(例如8μm尺寸左右的)异物及/或缺陷。
附图说明
[0034]图1是说明本专利技术一实施方式的透射检查的一例的概略侧视图。
[0035]图2(a)～(d)是说明在透射检查的缺陷的检测中，将光透射性积层体固定至支持构件的方法的程序的一例的概略侧视图。
[0036]图3是说明透射检查的缺陷的检测中拍摄组件的焦点对准的概略图。
[0037]图4是说明透射检查的缺陷的检测中，利用拍摄组件进行的光透射性积层体的XY平面的扫描的概略立体图。
[0038]图5是说明透射检查的缺陷的检测中缺陷的XY坐标图的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光透射性积层体的检查方法，在将光透射性积层体逐片固定在半空中的状态下进行透射检查，并检测该光透射性积层体中的8μm～50μm尺寸的缺陷。2.如权利要求1所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述缺陷的检测包含以下步骤：将规定倍率的光学系统的焦点对准所述光透射性积层体的第一主面的表面，并利用该光学系统扫描该光透射性积层体，而制作出缺陷的XY坐标图；使该光学系统的焦点从该光透射性积层体的第一主面的表面向厚度方向内侧偏移规定距离，并利用该光学系统扫描该光透射性积层体，而制作出另一缺陷的XY坐标图；及整合该制作出的缺陷的XY坐标图。3.如权利要求2所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述缺陷的检测包含以下步骤：使所述光学系统的焦点向所述光透射性积层体的厚度方向内侧偏移所述规定距离并利用该光学系统扫描该光透射性积层体，反复进行所述操作规定次数，而制作出规定数量的缺陷的XY坐标图。4.如权利要求2或3所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述缺陷的检测包含以下步骤：仅针对所述经整合的缺陷的XY坐标图中的缺陷发生坐标，使用比所述规定倍率更高倍率的光学系统来测定该缺陷的厚度方向的位置。5.如权利要求4所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述缺陷的厚度方向的位置的测定包含以下步骤：将所述高倍率的光学系统的焦点对准所述光透射性积层体的第一主面的表面；及，使该焦点向该光透射性积层体的厚度方向内侧移动，并测定从该第一主面的表面到该缺陷为止的距离。6.如权利要求2至5中任一项所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述规定距离为10μm～100μm。7.如权利要求2至6中任一项所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述规定倍率为5倍以下。8.如权利要求4至7中任一项所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述高倍率为10倍以上。9.如权利要求1至8中任一项所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述光透射性积层体选自光学薄膜、黏着剂片及该等的组合之中。10.如权利要求9所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述光学薄膜选自偏光板、相位差板及包含该等的积层体之中。11.如权利要求1至10中任一项所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述光透射性积层体的厚度为300μm以下。12.如权利要求2至11中任一项所述的光透射性积层体的检查方法，在以下区域中进行所述缺陷的检测：以所述规定倍率的光学系统进行扫描时，每1000μm扫描距离的所述光透射性积层体的第一主面的厚度方向的变动量在
±
10μm以内的区域。13.如权利要求1至12中任一项所述的光透射性积层体的检查方法，在所述光透射性积层体的挠曲角度相对于水平方向呈
...

【专利技术属性】
技术研发人员：田中卓哉，望月政和，小西隆博，伊崎章典，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：