一种低残留清洗消毒液制备系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种低残留清洗消毒液制备系统，涉及清洗消毒液制备技术领域。本实用新型专利技术包括制备缸、适温制备结构和清理推导结构，制备缸的外侧固定连接有适温制备结构，适温制备结构的顶端固定连接有清理推导结构，适温制备结构用于对制备缸内侧的消毒液进行适温制备，清理推导结构用于对制备缸内侧的残留进行刮除。本实用新型专利技术通过适温制备结构的设计，使得装置便于完成对制备缸进行稳定的合适温度输出，使得制备缸内侧的制备溶液达到合适的融合配给，避免了温度影响下的凝结，大大降低了残留效果，且通过清理推导结构的设计，使得装置便于完成对制备缸表面的一定凝结材料进行自动化推导刮除，大大提高了使用效果。大大提高了使用效果。大大提高了使用效果。

【技术实现步骤摘要】
一种低残留清洗消毒液制备系统


[0001]本技术属于清洗消毒液制备
，特别是涉及一种低残留清洗消毒液制备系统。

技术介绍

[0002]清洗消毒液在进行制备过程中往往需要对应的一整套系统，但是现有的清洗消毒液所使用的制备系统往往缺乏温控辅助设备，导致凝结残留较多，且不便于完成对凝结残留进行刮除，影响使用效果，因此需要对以上问题提出一种新的解决方案。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种低残留清洗消毒液制备系统，以解决了现有的问题：现有的清洗消毒液所使用的制备系统往往缺乏温控辅助设备，导致凝结残留较多，且不便于完成对凝结残留进行刮除，影响使用效果。
[0004]为解决上述技术问题，本技术是通过以下技术方案实现的：
[0005]一种低残留清洗消毒液制备系统，包括制备缸、适温制备结构和清理推导结构，所述制备缸的外侧固定连接有适温制备结构，所述适温制备结构的顶端固定连接有清理推导结构，所述适温制备结构用于对制备缸内侧的消毒液进行适温制备，所述清理推导结构用于对制备缸内侧的残留进行刮除；
[0006]所述适温制备结构包括导温模块和温控输出模块，所述导温模块的一端固定连接有温控输出模块。
[0007]进一步地，所述导温模块包括导温环、导温块和传递环，所述导温环内侧的一端固定连接有导温块，所述导温块的内侧固定有多个传递环，所述传递环的材质和导温块的材质均为铜。
[0008]进一步地，所述温控输出模块包括控制面板、半导体制冷板和电热板，所述导温环一端的外侧固定连接有控制面板，所述控制面板的内侧搭载有半导体制冷板和电热板，所述半导体制冷板的一端与电热板的一端均通过导温胶与导温块连接。
[0009]通过控制面板控制半导体制冷板或电热板进行温度输出，利用半导体制冷板的设计，完成制冷温度输出，利用电热板的设计完成电热温度的输出，利用导温块和传递环的配合将半导体制冷板和电热板的输出温度导出进入导温环的内侧，形成对导温环内空气的温度调节，形成合适温度，利用导温环将合适温度导入制备缸，使得制备缸内侧形成合适的加工温度。
[0010]进一步地，所述清理推导结构包括刮除动力模块和跟随去除模块，所述刮除动力模块的顶端固定连接有跟随去除模块。
[0011]进一步地，所述刮除动力模块包括定位配装块、动导输出块、电机、齿轮轴和齿条柱，所述定位配装块的底端与导温环固定连接，所述定位配装块的一端固定连接有动导输出块，所述动导输出块的一侧通过螺钉固定连接有电机，所述电机的输出端固定连接有齿
轮轴，所述定位配装块的内侧滑动连接有齿条柱，所述齿条柱的一端与齿轮轴啮合连接。
[0012]进一步地，所述跟随去除模块包括传递拉动杆和清洁拉板，所述齿条柱的顶端固定连接有传递拉动杆，所述传递拉动杆的底端焊接有清洁拉板，所述清洁拉板与制备缸内侧贴合。
[0013]通过控制电机完成对齿轮轴进行转矩输出，利用齿轮轴带动齿条柱完成上升，利用齿条柱的上升推导传递拉动杆带动清洁拉板完成同步位移，进而完成对制备缸内表面的上升刮拭。
[0014]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0015](1)本技术通过适温制备结构的设计，使得装置便于完成对制备缸进行稳定的合适温度输出，使得制备缸内侧的制备溶液达到合适的融合配给，避免了温度影响下的凝结，大大降低了残留效果。
[0016](2)本技术通过清理推导结构的设计，使得装置便于完成对制备缸表面的一定凝结材料进行自动化推导刮除，大大提高了使用效果。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0018]图1为本技术整体结构的示意图；
[0019]图2为本技术清理推导结构的连接结构示意图；
[0020]图3为本技术适温制备结构的连接结构示意图。
[0021]附图中，各标号所代表的部件列表如下：
[0022]1、制备缸；2、适温制备结构；3、清理推导结构；4、定位配装块；5、动导输出块；6、电机；7、齿轮轴；8、齿条柱；9、传递拉动杆；10、清洁拉板；11、导温环；12、控制面板；13、半导体制冷板；14、电热板；15、导温块；16、传递环。
具体实施方式
[0023]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0024]参照图1
‑
3，一种低残留清洗消毒液制备系统，包括制备缸1、适温制备结构2和清理推导结构3，制备缸1的外侧固定连接有适温制备结构2，适温制备结构2的顶端固定连接有清理推导结构3，适温制备结构2用于对制备缸1内侧的消毒液进行适温制备，清理推导结构3用于对制备缸1内侧的残留进行刮除；
[0025]适温制备结构2包括导温模块和温控输出模块，导温模块的一端固定连接有温控输出模块。
[0026]导温模块包括导温环11、导温块15和传递环16，导温环11内侧的一端固定连接有
导温块15，导温块15的内侧固定有多个传递环16，传递环16的材质和导温块15的材质均为铜。
[0027]温控输出模块包括控制面板12、半导体制冷板13和电热板14，导温环11一端的外侧固定连接有控制面板12，控制面板12的内侧搭载有半导体制冷板13和电热板14，半导体制冷板13的一端与电热板14的一端均通过导温胶与导温块15连接。
[0028]通过控制面板12控制半导体制冷板13或电热板14进行温度输出，利用半导体制冷板13的设计，完成制冷温度输出，利用电热板14的设计完成电热温度的输出，利用导温块15和传递环16的配合将半导体制冷板13和电热板14的输出温度导出进入导温环11的内侧，形成对导温环11内空气的温度调节，形成合适温度，利用导温环11将合适温度导入制备缸1，使得制备缸1内侧形成合适的加工温度。
[0029]清理推导结构3包括刮除动力模块和跟随去除模块，刮除动力模块的顶端固定连接有跟随去除模块。
[0030]刮除动力模块包括定位配装块4、动导输出块5、电机6、齿轮轴7和齿条柱8，定位配装块4的底端与导温环11固定连接，定位配装块4的一端固定连接有动导输出块5，动导输出块5的一侧通过螺钉固定连接有电机6，电机6的输出端固定连接有齿轮轴7，定位配装块4的内侧滑动连接有齿条柱8，齿条柱8的一端与齿轮轴7啮合连接。
[0031]跟随去除模块包括传递拉动杆9和清洁拉板10，齿条柱8的顶端固定连接有传递拉动杆9，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低残留清洗消毒液制备系统，其特征在于，包括制备缸(1)、适温制备结构(2)和清理推导结构(3)，所述制备缸(1)的外侧固定连接有适温制备结构(2)，所述适温制备结构(2)的顶端固定连接有清理推导结构(3)，所述适温制备结构(2)用于对制备缸(1)内侧的消毒液进行适温制备，所述清理推导结构(3)用于对制备缸(1)内侧的残留进行刮除；所述适温制备结构(2)包括导温模块和温控输出模块，所述导温模块的一端固定连接有温控输出模块。2.根据权利要求1所述的一种低残留清洗消毒液制备系统，其特征在于，所述导温模块包括导温环(11)、导温块(15)和传递环(16)，所述导温环(11)内侧的一端固定连接有导温块(15)，所述导温块(15)的内侧固定有多个传递环(16)，所述传递环(16)的材质和导温块(15)的材质均为铜。3.根据权利要求2所述的一种低残留清洗消毒液制备系统，其特征在于，所述温控输出模块包括控制面板(12)、半导体制冷板(13)和电热板(14)，所述导温环(11)一端的外侧固定连接有控制面板(12)，所述控制面板(12)的内侧搭载有半导体制冷板(13)和电热板(14)，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：沙正茂，蒋华，李艳春，
申请(专利权)人：无锡优洁科技有限公司，
类型：新型
国别省市：