显示面板及其制造方法、显示设备技术

本申请实施例提供了一种显示面板及其制造方法、显示设备。该显示面板包括基板、RIB结构和阳极功能层，RIB结构位于周边区域，包括在基板一侧依次层叠设置的第二透明电极、第一金属结构、第二金属结构和第三透明电极，第二透明电极设置在第一金属结构靠近基板的一侧；阳极功能层位于显示区域，包括在基板一侧依次层叠设置的第一透明电极、第二透明电极、第二金属结构和第三透明电极。本申请的阳极功能层的第二金属结构的厚度小于RIB结构的第一金属结构和第二金属结构的厚度，能够使得阳极功能层的金属结构的厚度降低，从而降低阳极功能层产生金属颗粒的数量级，进而能够利于改善或消除显示面板的暗点。显示面板的暗点。显示面板的暗点。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制造方法、显示设备


[0001]本申请涉及显示
，具体而言，本申请涉及一种显示面板及其制造方法、显示设备。

技术介绍

[0002]有机电致发光器件(OLED)具有许多的优点，如高亮度、高效率、宽视角、自主发光、全固态、超薄超轻、制作工艺简单、较快的响应速度、可实现全彩化显示以及良好的机械加工性能，可以制成形状不同的显示器等。
[0003]但是，目前的OLED器件容易出现暗点的问题。

技术实现思路

[0004]本申请针对现有方式的缺点，提出一种显示面板及其制造方法、显示设备，用以解决现有OLED器件容易出现暗点的技术问题。
[0005]第一个方面，本申请实施例提供了一种显示面板，包括显示区域和位于所述显示区域外侧的周边区域，该显示面板包括：
[0006]基板；
[0007]RIB结构，位于所述周边区域，包括在所述基板一侧依次层叠设置的第二透明电极、第一金属结构、第二金属结构和第三透明电极，所述第二透明电极设置在所述第一金属结构靠近所述基板的一侧；
[0008]阳极功能层，位于所述显示区域，包括在所述基板一侧依次层叠设置的第一透明电极、第二透明电极、第二金属结构和第三透明电极。
[0009]可选地，沿垂直于所述基板的方向，所述第一金属结构的厚度不小于5000埃且不大于6000埃，所述第二金属结构的厚度不小于500埃且不大于1000埃。
[0010]可选地，所述第一金属结构的材料和第二金属结构的材料不同，所述第一金属结构的材料包括铜，所述第二金属结构的材料包括钼。
[0011]可选地，所述第一金属结构在所述基板上的正投影，在所述第二金属结构在所述基板上的正投影内。
[0012]可选地，所述第一金属结构的一端在所述基板上的正投影，与所述第三透明电极的一端在所述基板上的正投影的距离不小于0.5微米且不大于1微米；
[0013]所述第二金属结构的一端在所述基板上的正投影，与所述第三透明电极的一端在所述基板上的正投影的距离不小于0.1微米且不大于0.5微米。
[0014]第二个方面，本申请实施例提供了一种显示设备，包括第一个方面提供的显示面板。
[0015]第三个方面，本申请实施例提供了一种第一个方面提供的显示面板的制造方法，包括：
[0016]在所述基板一侧制作位于显示区域的第一透明电极；
[0017]在所述基板和所述第一透明电极的一侧制作初始第二透明导电层；所述显示面板包括所述显示区域和位于所述显示区域外侧的周边区域；在所述周边区域的所述初始第二透明导电层远离所述基板的一侧制作中间第一金属结构；
[0018]基于图案化工艺在所述中间第一金属结构和所述初始第二透明导电层的一侧，制作位于所述周边区域的RIB结构和位于所述显示区域的阳极功能层；所述RIB结构包括层叠的第二透明电极、第一金属结构、第二金属结构和第三透明电极，所述阳极功能层包括层叠的第一透明电极、第二透明电极、第二金属结构和第三透明电极。
[0019]可选地，基于图案化工艺在所述中间第一金属结构和所述初始第二透明导电层的一侧，制作位于所述周边区域的RIB结构和位于所述显示区域的阳极功能层，包括：
[0020]在所述中间第一金属结构和所述初始第二透明导电层的一侧，依次制作初始第二金属层制作和初始第三透明导电层；对所述初始第三透明导电层、所述初始第二金属层和所述初始第二透明导电层进行图案化，得到位于周边区域层叠的第三透明电极、中间第二金属结构、中间第一金属结构和第二透明电极，以及位于所述显示区域层叠的第三透明电极、中间第二金属结构和第二透明电极；
[0021]对所述中间第一金属结构进行侧向刻蚀，得到位于所述周边区域的包括第一金属结构和第二金属结构的RIB结构、以及位于所述显示区域的包括第二金属结构的阳极功能层。
[0022]可选地，对所述中间第一金属结构进行侧向刻蚀，得到位于所述周边区域的包括第一金属结构和第二金属结构的RIB结构、以及位于所述显示区域的包括第二金属结构的阳极功能层，包括：
[0023]利用第一金属刻蚀液对所述中间第一金属结构和所述中间第二金属结构进行侧向刻蚀，得到位于所述周边区域的第一金属结构和第二金属结构，形成RIB结构，以及得到位于所述显示区域的第二金属结构，形成阳极功能层。
[0024]可选地，对所述初始第三透明导电层、所述初始第二金属层和所述初始第二透明导电层进行图案化，得到位于周边区域层叠的第三透明电极、中间第一金属结构、中间第二金属结构和第二透明电极，以及位于所述显示区域层叠的第三透明电极、中间第二金属结构、第二透明电极和第一透明电极，包括：
[0025]在所述第三透明导电层的一侧制作光刻胶层；基于第一掩膜版，对所述光刻胶层进行图案化，得到第一光刻胶结构；
[0026]以所述第一光刻胶结构为掩膜对所述初始第三透明导电层进行刻蚀，得到位于所述周边区域的第三透明电极和位于所述显示区域的第三透明电极；
[0027]以所述第一光刻胶结构为掩膜对所述初始第二金属层进行刻蚀，得到位于所述周边区域的中间第二金属结构和位于所述显示区域的中间第二金属结构；
[0028]以所述第一光刻胶结构为掩膜对所述初始第二透明导电层进行刻蚀，得到位于所述周边区域的第二透明电极和位于所述显示区域的第二透明电极。
[0029]本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：
[0030]通过在阳极功能层设置第二金属结构，相比于RIB(工字型)结构设置的第一金属结构和第二金属结构，阳极功能层的第二金属结构的厚度小于RIB结构的第一金属结构和第二金属结构的厚度，则能够使得本申请的阳极功能层的金属结构的厚度降低，从而能够
降低阳极功能层产生金属颗粒的数量级，进而能够利于改善或消除显示面板的暗点。
[0031]以及，本申请的RIB结构包括在基板一侧依次层叠设置的第二透明电极、第一金属结构、第二金属结构和第三透明电极，该RIB结构能够利于保证隔断有机封装层和无机封装层，避免水氧通过周边区域进入至显示区域，有利于保障显示面板的显示性能。
[0032]本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
[0033]本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0034]图1为本申请实施例提供的一种显示面板的膜层结构示意图；
[0035]图2为本申请实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程示意图；
[0036]图3为本申请实施例提供了一种显示面板的制造方法的展开方法的流程示意图；
[0037]图4为本申请实施例提供的一种显示面板的制造方法中在基板的一侧沉积得到初始第一透明导电层的膜层结构示意图；
[0038]图5为本申请实施例提供的一种显示面板的制造方法中对初始第一透明导电层进行图案化，得本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，包括显示区域和位于所述显示区域外侧的周边区域；其特征在于，包括：基板；RIB结构，位于所述周边区域，包括在所述基板一侧依次层叠设置的第二透明电极、第一金属结构、第二金属结构和第三透明电极，所述第二透明电极设置在所述第一金属结构靠近所述基板的一侧；阳极功能层，位于所述显示区域，包括在所述基板一侧依次层叠设置的第一透明电极、第二透明电极、第二金属结构和第三透明电极。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，沿垂直于所述基板的方向，所述第一金属结构的厚度不小于5000埃且不大于6000埃，所述第二金属结构的厚度不小于500埃且不大于1000埃。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一金属结构的材料和第二金属结构的材料不同，所述第一金属结构的材料包括铜，所述第二金属结构的材料包括钼。4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一金属结构在所述基板上的正投影，在所述第二金属结构在所述基板上的正投影内。5.根据权利要求1或4所述的显示面板，其特征在于，所述第一金属结构的一端在所述基板上的正投影，与所述第三透明电极的一端在所述基板上的正投影的距离不小于0.5微米且不大于1微米；所述第二金属结构的一端在所述基板上的正投影，与所述第三透明电极的一端在所述基板上的正投影的距离不小于0.1微米且不大于0.5微米。6.一种显示设备，其特征在于，包括权利要求1
‑
5中任一所述的显示面板。7.一种如权利要求1
‑
5中任一所述显示面板的制造方法，其特征在于，包括：在所述基板一侧制作位于显示区域的第一透明电极；在所述基板和所述第一透明电极的一侧制作初始第二透明导电层；所述显示面板包括所述显示区域和位于所述显示区域外侧的周边区域；在所述周边区域的所述初始第二透明导电层远离所述基板的一侧制作中间第一金属结构；基于图案化工艺在所述中间第一金属结构和所述初始第二透明导电层的一侧，制作位于所述周边区域的RIB结构和位于所述显示区域的阳极功能层；所述RIB结构包括层叠的第二透明电极、第一金属结构、第二金属结构和第三透明电极，所述阳极功能层包括层叠的第一透明电极、第二透明电极、第...

【专利技术属性】
技术研发人员：王明，赵策，周斌，刘宁，王顺，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：