一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源制造技术

本实用新型专利技术公开了一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源，包括套筒，所述套筒的外表面设置有第二开口，所述套筒的内部设置有垫块，所述垫块的右表面设置有电离块，所述电离块的外表面设置有第一开槽，所述电离块的右表面设置有电离盘，所述电离块、电离盘的内部均设置有电离管，所述电离管的外表面固定连接有第一凸块，所述电离管的外表面且位于第一凸块的右侧设置有第二凸块。本实用新型专利技术，通过设计第一凸块、第二凸块、第二开槽与第二开槽，实现在装卸时，可以通过镊子完成避免清洗完成后，遭到污染，影响装置的使用，通过设计开槽与凸块，实现在清洗使用镊子夹持吹干的过程中，气流与装置接触的面积更大，增加装置的洁净程度。度。度。

【技术实现步骤摘要】
一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源


[0001]本技术涉及电离
，尤其涉及一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源。

技术介绍

[0002]离子源有效用于基片改良或溅射镀膜。离子源是利用电极和磁极形成闭环，是沿着该环使电子高速移动的结构。电子移动的闭环内由工艺室外部向其内部连续供应离子生成用气体即离子化气体。
[0003]现有的一些气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源有以下缺陷：
[0004]1、目前气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源清洗不方便；
[0005]2、目前气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源需要用手进行安装，导致清洗完成后会产生污染的情况。

技术实现思路

[0006]本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源。
[0007]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源，包括套筒，所述套筒的外表面设置有第二开口，所述套筒的内部设置有垫块，所述垫块的右表面设置有电离块，所述电离块的外表面设置有第一开槽，所述电离块的右表面设置有电离盘；
[0008]所述电离块、电离盘的内部均设置有电离管，所述电离管的外表面固定连接有第一凸块，所述电离管的外表面且位于第一凸块的右侧设置有第二凸块，所述垫块的左表面设置有第二开槽。
[0009]作为上述技术方案的进一步描述：
[0010]所述第二开口的数量为多个。
[0011]作为上述技术方案的进一步描述：
[0012]所述第一凸块与第二凸块之间形成缝隙。
[0013]作为上述技术方案的进一步描述：
[0014]所述第二开口之间通过第三开口连通，所述垫块、电离块的前表面设置有金属棒，所述第三开口的宽度与金属棒的直径相同。
[0015]作为上述技术方案的进一步描述：
[0016]所述套筒的左表面设置有第一开口。
[0017]本技术具有如下有益效果：
[0018]1、与现有技术相比，该气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源，通过设计第一凸块、第二凸块、第二开槽与第二开槽，实现在装卸时，可以通过镊子完成避免清洗完成后，遭到污染，影响装置的使用。
[0019]2、与现有技术相比，该气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源，通过设计开槽与凸块，实现在清洗使用镊子夹持吹干的过程中，气流与装置接触的面积更大，增加装置的洁净程度。
附图说明
[0020]图1为本技术提出的一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源的内部结构示意图；
[0021]图2为图1中A处结构放大示意图；
[0022]图3为本技术提出的一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源的；
[0023]图4为本技术提出的一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源的整体结构示意图。
[0024]图例说明：
[0025]1、套筒；2、垫块；3、第一开槽；4、第二开口；5、电离盘；6、第一凸块；7、第二凸块；8、缝隙；9、金属棒；10、第一开口；11、电离管；12、第二开槽。
具体实施方式
[0026]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0027]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制；术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性，此外，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0028]参照图1
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4，本技术提供的一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源：包括套筒1，套筒1的左表面设置有第一开口10，用于对垫块2进行安装，套筒1的外表面设置有第二开口4，第二开口4的数量为多个，第二开口4之间通过第三开口连通，套筒1的内部设置有垫块2，垫块2的右表面设置有电离块，电离块的外表面设置有第一开槽3，用于对电离块进行安装，垫块2、电离块的前表面设置有金属棒9，第三开口的宽度与金属棒9的直径相同，用于可以安装金属棒9，电离块的右表面设置有电离盘5。
[0029]电离块、电离盘5的内部均设置有电离管11，电离管11的外表面固定连接有第一凸块6，第一凸块6与第二凸块7之间形成缝隙8，用于对电离盘5 进行安装，电离管11的外表面且位于第一凸块6的右侧设置有第二凸块7，垫块2的左表面设置有第二开槽12。
[0030]工作原理：通过镊子与缝隙8进行接触，从而对电离盘5进行装卸，镊子通过第二开
口4与第一开槽3接触可以对电离块进行装卸，从第一开口10 处将垫块2取下，在清洗完成后，对各个零件进行夹持，使其与氮气流接触的更加充分，快速干燥，避免装置受到污染。
[0031]最后应说明的是：以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源，包括套筒(1)，其特征在于：所述套筒(1)的外表面设置有第二开口(4)，所述套筒(1)的内部设置有垫块(2)，所述垫块(2)的右表面设置有电离块，所述电离块的外表面设置有第一开槽(3)，所述电离块的右表面设置有电离盘(5)；所述电离块、电离盘(5)的内部均设置有电离管(11)，所述电离管(11)的外表面固定连接有第一凸块(6)，所述电离管(11)的外表面且位于第一凸块(6)的右侧设置有第二凸块(7)，所述垫块(2)的左表面设置有第二开槽(12)。2.根据权利要求1所述的一种气质联用仪和液质联用...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱伟贤，何勇，郭祎娜，温妙灵，
申请(专利权)人：福建省中孚检测技术有限公司，
类型：新型
国别省市：