一种电池片镀膜系统技术方案

技术编号:35063488 阅读:31 留言:0更新日期:2022-09-28 11:19
本实用新型专利技术实施例提供一种电池片镀膜系统,该电池片镀膜系统包括:用于输送电池片的输送线和设置于输送线的传输工位旁侧的多个镀膜模块,输送线具有多个传输工位,镀膜模块与传输工位之间传送电池片,多个镀膜模块包括:包括至少一个第一镀膜装置的第一镀膜模块;包括至少一个第二镀膜装置的第二镀膜模块;包括至少一个第二镀膜装置的第三镀膜模块;包括至少一个第四镀膜装置的第四镀膜模块;其中,第一镀膜装置、第二镀膜装置、第三镀膜装置以及第四镀膜装置中的至少一者的数量不小于两个。本实用新型专利技术实施例中的电池片镀膜系统降低了输送线需要等待单个镀膜装置的处理而整体空等的情况出现概率,提高了单位时间内处理电池片的数目。内处理电池片的数目。内处理电池片的数目。

【技术实现步骤摘要】
一种电池片镀膜系统


[0001]本技术涉及光伏设备
,具体涉及一种电池片镀膜系统。

技术介绍

[0002]随着人类对节能减排需求的日益增加,在全球范围内光伏发电具有广阔的产业前景。其中,硅基异质结太阳能电池,以其简洁的制备工艺,较高的转化效率和较高的降本增效潜能,越来越受到业界的关注,已经成为了行业内的热点。
[0003]PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition,等离子增强化学气相沉积)工艺是在较高真空环境下,利用高频电源将反应气体电离成等离子态后完成表面镀膜工艺,广泛应用于光伏电池制造领域。
[0004]以硅基异质结电池片镀膜生产线为例,在相关技术中,在生产线上依次布置多个PECVD工艺设备,在晶体硅基片上下表面上,利用PECVD工艺设备对称地沉积本征薄膜硅层;然后继续利用其他的PECVD工艺设备在上下表面的本征薄膜硅层沉积N型掺杂层和P型掺杂层,由于本征薄膜硅层、N型掺杂层、P型掺杂层的镀膜时间不同,而生产线的生产节拍按照时长最长的一个镀膜工序设定,导致其他工序空等时间较长,生产效率较低。

技术实现思路

[0005]有鉴于此,本申请实施例期望提供一种能够提高电池片镀膜效率的电池片镀膜系统。
[0006]为达到上述目的,本申请实施例的技术方案是这样实现的:
[0007]本技术实施例提供一种电池片镀膜系统,该电池片镀膜系统包括:
[0008]用于输送电池片的输送线,所述输送线具有多个传输工位;
[0009]设置于所述输送线的传输工位旁侧的多个镀膜模块,所述镀膜模块与所述传输工位之间传送电池片,多个所述镀膜模块包括:
[0010]第一镀膜模块,包括至少一个用于对电池片的第一面镀第一本征层的第一镀膜装置;
[0011]第二镀膜模块,包括至少一个用于对电池片的第二面镀第二本征层的第二镀膜装置,
[0012]第三镀膜模块,包括至少一个用于在所述第一本征层上镀N型掺杂层的第三镀膜装置;
[0013]第四镀膜模块,包括至少一个用于在所述第二本征层上镀P型掺杂层的第四镀膜装置;其中,所述第一镀膜装置、所述第二镀膜装置、所述第三镀膜装置以及所述第四镀膜装置中的至少一者的数量不小于两个。
[0014]在一些实施例中,所述第一镀膜装置、所述第二镀膜装置、所述第三镀膜装置以及所述第四镀膜装置中,镀膜所需时长最长者的数量不小于两个。
[0015]在一些实施例中,所述第一镀膜装置、所述第二镀膜装置、所述第三镀膜装置以及
所述第四镀膜装置中,镀膜所需时长最长者的数量最多。
[0016]在一些实施例中,所述第一镀膜模块与所述第三镀膜模块沿输送方向相邻;和\或,所述第二镀膜模块与所述第四镀膜模块沿输送方向相邻。
[0017]在一些实施例中,所述输送线包括至少一个用于翻转电池片的翻转工位,所述翻转工位位于所述第三镀膜模块和所述第四镀膜模块之间。
[0018]在一些实施例中,所述翻转工位的数目为一个,所述第一镀膜模块与所述第三镀膜模块沿输送方向相邻,所述第二镀膜模块与所述第四镀膜模块沿输送方向相邻;所述翻转工位位于所述第三镀膜模块与所述第二镀膜模块之间的所述输送线上;或者,所述翻转工位位于所述第四镀膜模块与所述第一镀膜模块之间的所述输送线上。
[0019]在一些实施例中,所述翻转工位的数目为两个,所述第一镀膜模块与所述第三镀膜模块沿输送方向相邻,一所述翻转工位位于第二镀膜模块与所述第一镀膜模块之间的所述输送线上,另一所述翻转工位位于所述第三镀膜模块与所述第四镀膜模块之间的所述输送线上;或者,所述第二镀膜模块与所述第四镀膜模块沿输送方向相邻,一所述翻转工位位于第一镀膜模块与所述第二镀膜模块之间的所述输送线上,另一所述翻转工位位于所述第四镀膜模块与所述第三镀膜模块之间的所述输送线上。
[0020]在一些实施例中,所述输送线包括至少一个用于加热电池片的加热工位、至少一个用于将电池片送入真空环境的进片工位、至少一个用于将电池片送出真空环境的出片工位;所述输送线和各所述镀膜模块沿输送方向形成至少一个真空处理工艺段,每个所述真空处理段均设置有所述进片工位、所述出片工位以及所述加热工位,所述进片工位位于所述真空处理工艺段的首端处,所述加热工位位于所述进片工位和所述传输工位之间,所述出片工位位于所述真空处理工艺段的末端处。
[0021]在一些实施例中,至少一所述传输工位沿输送方向的一侧设有所述第一镀膜装置,另一侧设有所述第三镀膜装置。
[0022]在一些实施例中,至少一所述传输工位沿输送方向的一侧设有所述第二镀膜装置,另一侧设有所述第四镀膜装置。
[0023]本技术实施例中的电池片镀膜系统,降低了输送线需要等待单个镀膜装置的处理而整体空等的情况出现概率,提高了单位时间内处理电池片的数目,提高了生产效率,降低了生产成本。各镀膜装置分别独立地与输送线之间传送电池片,即使部分镀膜装置需要进行维护或者发生损坏,也不会影响输送线和其他镀膜装置之间电池片的传送,降低了因镀膜装置检修或者损坏而导致电池片镀膜系统停止运作的几率,提高了整个电池片镀膜系统的利用率。
附图说明
[0024]图1为本技术一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框内为真空处理工艺段;
[0025]图2为本技术另一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框含义同图1;
[0026]图3为本技术另一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框含义同图1;
[0027]图4为本技术另一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框含义同图1;
[0028]图5为本技术另一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框含义同图1
[0029]图6为本技术另一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框含义同图1;
[0030]图7为本技术另一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框含义同图1;
[0031]图8为本技术另一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框含义同图1,其中,括号中的数字表示沿输送方向的第n个该类型镀膜装置;
[0032]图9为本技术另一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框含义同图1。
[0033]附图标记说明
[0034]输送线10;真空处理工艺段10a;传输工位11;翻转工位12;加热工位13;进片工位14;出片工位15;镀膜模块20;第一镀膜模块21;第一镀膜装置211;第二镀膜模块22;第二镀膜装置221;第三镀膜模块23;第三镀膜装置231;第四镀膜模块24;第四镀膜装置241
具体实施方式
[0035]需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的技术特征可以相互组合,具体实施方式中的详细描述应理解为本申请宗旨的解释说明,不应视为对本申请的不当限制。本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电池片镀膜系统,其特征在于,所述电池片镀膜系统包括:用于输送电池片的输送线,所述输送线具有多个传输工位;设置于所述输送线的传输工位旁侧的多个镀膜模块,所述镀膜模块与所述传输工位之间传送电池片,多个所述镀膜模块包括:第一镀膜模块,包括至少一个用于对电池片的第一面镀第一本征层的第一镀膜装置;第二镀膜模块,包括至少一个用于对电池片的第二面镀第二本征层的第二镀膜装置;第三镀膜模块,包括至少一个用于在所述第一本征层上镀N型掺杂层的第三镀膜装置;第四镀膜模块,包括至少一个用于在所述第二本征层上镀P型掺杂层的第四镀膜装置;其中,所述第一镀膜装置、所述第二镀膜装置、所述第三镀膜装置以及所述第四镀膜装置中的至少一者的数量不小于两个。2.根据权利要求1所述的电池片镀膜系统,其特征在于,所述第一镀膜装置、所述第二镀膜装置、所述第三镀膜装置以及所述第四镀膜装置中,镀膜所需时长最长者的数量不小于两个。3.根据权利要求1所述的电池片镀膜系统,其特征在于,所述第一镀膜装置、所述第二镀膜装置、所述第三镀膜装置以及所述第四镀膜装置中,镀膜所需时长最长者的数量最多。4.根据权利要求1所述的电池片镀膜系统,其特征在于,所述第一镀膜模块与所述第三镀膜模块沿输送方向相邻;和\或,所述第二镀膜模块与所述第四镀膜模块沿输送方向相邻。5.根据权利要求1所述的电池片镀膜系统,其特征在于,所述输送线包括至少一个用于翻转电池片的翻转工位,所述翻转工位位于所述第三镀膜模块和所述第四镀膜模块之间。6.根据权利要求5所述的电池片镀膜系统,其特征在于,所述翻转工位的数目为一个,所述第一镀膜模块与所述第三镀膜模块沿输送方向相邻,所述第二镀膜模...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨宝海李义升李翔李轶军
申请(专利权)人:营口金辰机械股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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