取向液晶膜的制造方法技术

本发明专利技术提供能够制造即使长时间暴露于高温环境光学特性的变化也小的取向液晶膜的取向液晶膜的制造方法，其通过卷对卷方式将取向液晶层与光学层介由活性能量射线固化型粘接剂贴合。上述取向液晶膜的制造方法具有：通过卷对卷方式将取向液晶层与光学层介由活性能量射线固化型粘接剂贴合的贴合工序。粘接剂的固化收缩率为11％以下。固化收缩率为11％以下。固化收缩率为11％以下。

【技术实现步骤摘要】
取向液晶膜的制造方法


[0001]本专利技术涉及具备液晶化合物取向了的取向液晶层的取向液晶膜的制造方法。

技术介绍

[0002]作为具有液晶显示装置的光学补偿、有机EL显示装置的外部光反射防止等功能的光学膜(光学各向异性元件)，使用了具备液晶化合物沿着规定方向取向了的取向液晶层的液晶膜(取向液晶膜)。取向液晶膜与聚合物的拉伸膜相比，双折射Δn大，因此，有利于图像显示装置(更具体而言，液晶显示装置、有机EL显示装置等)的薄型化、轻质化。在图像显示装置中，取向液晶膜以介由粘合剂或粘接剂与起偏器等一体层叠而成的层叠板的形式贴合于有机EL面板、液晶显示面板(例如参照专利文献1)。
[0003]液晶化合物通过涂布于基材上时的剪切力、取向膜的取向限制力等，能够在规定方向上取向，通过使液晶化合物取向，可以得到具有各种光学各向异性的取向液晶膜。例如，使具有正向折射率各向异性的向列型液晶分子在基材面上平行地取向了的均匀取向液晶层能够用作具有nx＞ny＝nz的折射率各向异性的正A板。
[0004]在使用热致型液晶的情况下，将包含液晶化合物的溶液(液晶性组合物)涂布于基材上，以组合物中所含的液晶化合物成为液晶状态的方式进行加热，使液晶化合物取向。在液晶性组合物包含具有光聚合性的液晶化合物(液晶单体)的情况下，使液晶化合物取向后，通过光照射使液晶性组合物固化，由此将取向状态固定。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开2015
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7700号公报

技术实现思路

[0008]专利技术所要解决的问题
[0009]对于图像显示装置，要求更高的耐久性，构成图像显示装置的光学构件在长时间暴露于高温环境下的情况下，也要求光学特性(更具体而言，延迟等)的变化小。
[0010]另一方面，由于与取向液晶层相邻地配置的层的影响，存在取向液晶膜的光学特性在高温环境下变化的情况。例如，在介由粘合剂层将取向液晶层、和光学层(更具体而言，起偏器、透明膜、其他取向液晶层等)贴合的情况下，几乎不会发生高温环境下的延迟变化，与此相对，在将取向液晶层与光学层介由活性能量射线固化型粘接剂贴合的情况下，存在延迟在高温环境下上升的趋势。
[0011]另外，通过本专利技术人等的研究判明，延迟在上述高温环境下上升的趋势在通过卷对卷方式将取向液晶层与光学层介由活性能量射线固化型粘接剂贴合的情况下变得特别显著。
[0012]鉴于该问题，本专利技术的目的在于，提供能够制造即使长时间暴露于高温环境下光学特性的变化也小的取向液晶膜的取向液晶膜的制造方法，其通过卷对卷方式介由活性能
量射线固化型粘接剂将取向液晶层与光学层贴合。
[0013]用于解决问题的手段
[0014]本专利技术的取向液晶膜的制造方法是具备液晶化合物取向了的取向液晶层的取向液晶膜的制造方法，其具有通过卷对卷方式介由活性能量射线固化型粘接剂将取向液晶层与光学层贴合的贴合工序。上述粘接剂的固化收缩率为11％以下。
[0015]在本专利技术的取向液晶膜的制造方法的一个实施方式中，上述贴合工序具有在对将上述取向液晶层与上述光学层介由固化前的上述粘接剂层叠而成的层叠体在赋予了张力的状态下对上述层叠体照射活性能量射线的照射工序。在上述照射工序中，例如，在沿着上述层叠体的输送方向赋予了70N/1000mm宽～550N/1000mm宽的张力的状态下，对上述层叠体照射上述活性能量射线。
[0016]在本专利技术的取向液晶膜的制造方法的一个实施方式中，上述贴合工序具有在上述取向液晶层及上述光学层中的至少一个表面涂布固化前的上述粘接剂的涂布工序。在上述涂布工序中，例如将温度为0℃～45℃的上述粘接剂涂布于上述表面。
[0017]在本专利技术的取向液晶膜的制造方法的一个实施方式中，上述贴合工序具有在对将上述取向液晶层与上述光学层介由固化前的上述粘接剂层叠而成的层叠体赋予了张力的状态下对上述层叠体照射活性能量射线的照射工序。在上述照射工序中，例如，对上述层叠体以累积光量450mJ/cm2～1200mJ/cm2的条件照射上述活性能量射线。
[0018]在本专利技术的取向液晶膜的制造方法的一个实施方式中，固化前的上述粘接剂包含重均分子量1000以上的低聚物。上述重均分子量1000以上的低聚物相对于固化前的上述粘接剂总量的含有比例例如为9.0重量％～20.0重量％。
[0019]在本专利技术的取向液晶膜的制造方法的一个实施方式中，由上述照射工序后的上述粘接剂形成的层的厚度为0.1μm～3.0μm。
[0020]在本专利技术的取向液晶膜的制造方法的一个实施方式中，在上述取向液晶层中，液晶化合物均匀取向。
[0021]在本专利技术的取向液晶膜的制造方法的一个实施方式中，上述贴合工序后的上述取向液晶层的双折射Δn为0.03以上。
[0022]在本专利技术的取向液晶膜的制造方法的一个实施方式中，上述光学层为起偏器、透明膜、或其他取向液晶层。
[0023]专利技术效果
[0024]根据本专利技术的取向液晶膜的制造方法，具有通过卷对卷方式将取向液晶层与光学层介由活性能量射线固化型粘接剂贴合的贴合工序，并且能够制造即使长时间暴露于高温环境光学特性的变化也小的取向液晶膜。
附图说明
[0025]图1是用于对本专利技术的取向液晶膜的制造方法的一例进行说明的说明图。
[0026]图2是示出介由粘接剂将取向液晶层与光学层层叠而成的取向液晶膜的一例的剖面图。
[0027]图3A、B、C及D是示出图2所示的取向液晶膜的制造方法的一例的针对工序的剖面图。
[0028]图4是示出介由粘接剂将取向液晶层与光学层层叠而成的取向液晶膜的一例的剖面图。
[0029]图5是示出具备粘合剂层的取向液晶膜的一例的剖面图。
[0030]图6是示出介由粘接剂将取向液晶层与光学层层叠而成的取向液晶膜的一例的剖面图。
[0031]图7是示出图像显示装置的层构成例的剖面图。
[0032]符号说明
[0033]17 层叠体
[0034]19、40 粘接剂层
[0035]21 取向液晶层
[0036]22、41 光学层
[0037]100、101、102、103、104 取向液晶膜
具体实施方式
[0038]以下，对本专利技术的优选实施方式进行说明。首先，对在本说明书中使用的术语进行说明。取向液晶层的厚度、光学层的厚度、及由照射了活性能量射线后(固化后)的粘接剂形成的层(以下有时仅记载为“粘接剂层”)的厚度是以透射型电子显微镜(TEM)观察将层沿着厚度方向切断而成的截面、从截面图像中随机地选择10处测定位置、并测定所选择的10处测定位置的厚度而得到的10处测定值的算数平均值。
[0039]粘接剂反应率(单位：％)以{100
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(用于形成粘接剂层的粘接剂中的全部单体的质量
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粘接剂层中的残留单体的质量)本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种取向液晶膜的制造方法，其是具备液晶化合物取向了的取向液晶层的取向液晶膜的制造方法，其具有通过卷对卷方式将取向液晶层与光学层介由活性能量射线固化型粘接剂贴合的贴合工序，所述粘接剂的固化收缩率为11％以下。2.根据权利要求1所述的取向液晶膜的制造方法，其中，所述贴合工序具有在对将所述取向液晶层与所述光学层介由固化前的所述粘接剂层叠而成的层叠体赋予了张力的状态下对所述层叠体照射活性能量射线的照射工序，在所述照射工序中，在沿着所述层叠体的搬送方向赋予了70N/1000mm宽～550N/1000mm宽的张力的状态下，对所述层叠体照射所述活性能量射线。3.根据权利要求1或2所述的取向液晶膜的制造方法，其中，所述贴合工序具有在所述取向液晶层及所述光学层中的至少一个表面涂布固化前的所述粘接剂的涂布工序，在所述涂布工序中，将温度0℃～45℃的所述粘接剂涂布于所述表面。4.根据权利要求1或2所述的取向液晶膜的制造方法，其中，所述贴合工序具有在对将所述取向液晶层与所述光学层介由固化前的所述粘接剂...

【专利技术属性】
技术研发人员：土屋裕，菅野亮，铃木畅，山冈洋平，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：