导电棒表面附着物的清洗系统技术方案

本发明专利技术公开了一种导电棒表面附着物的清洗系统，包括设备本体，所述设备本体内包括依次间隔布置的缓冲区、清洗区和沥水区，所述缓冲区、清洗区和沥水区共同限定出通过通道，导电棒沿所述通过通道可移动布置，并且所述清洗区设有喷嘴，所述喷嘴朝向所述导电棒设置。由此，采用本申请的清洗系统不仅清洗效率和清洗质量高，而且对导电棒表面的铜层损伤较小，从而可以显著提高清洗后导电棒的使用寿命。而可以显著提高清洗后导电棒的使用寿命。而可以显著提高清洗后导电棒的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
导电棒表面附着物的清洗系统


[0001]本专利技术属于清洗领域，具体涉及一种导电棒表面附着物的清洗系统。

技术介绍

[0002]在传统的铜、铅、镍电解生产过程中，由导电棒、始极片组成电解用阴极，其中导电棒需要在电解过程中反复使用，其结构一般为铜包钢。在实际电解生产过程中，需要将导电棒一端放置在电解槽上的导电母板上取电，在较高的电流密度下导电棒极易发热并氧化发黑，且在电解液面上方的高温强酸腐蚀性环境下，导电棒表面也易附着其他杂质，使得导电棒在电解过程中导电性能持续下降，产生电解槽电压升高、耗电量增加、阴极铜质量降低等一系列问题。
[0003]目前已公知的清洗导电棒的主要方法有以下几种：
[0004]1、人工清洗
[0005]由工人将导电棒与阴极铜、镍、铅分离后，采用纯人工处理，手持粗布在铜棒表面来回擦试，将氧化层擦除，直至将氧化层完全打磨光。该方法的缺点是工人作业环境较差，工作强度大，安全保障性不佳。同时可能由于工人疏忽造成氧化层清洗不完全，进一步影响生产。
[0006]2、采用机械打磨的方式
[0007]专利技术专利(申请号：20142008676.7)公开的方法是将导电棒放置在输送装置上，通过两侧的钢刷打磨，去除导电棒上杂质和氧化层。该方法的缺点是对导电棒的磨损较大，导电棒寿命短，同时造成粉尘多，环境差；如果导电棒变形后，打磨效果的均匀性难以解决。
[0008]3、采用光棒机清洗的方式
[0009]将成捆导电棒放入设备的腔体内，同时倒入谷壳，开动机器，让设备旋转起来，让谷壳作为导电棒之间碰撞的缓冲器及磨料，将氧化层和杂质清洗下来。该方法的缺点是工序多，流程长，作业效率低，噪声大，环境差，并且也容易造成无法将导电棒表面氧化层完全清洗干净的问题。
[0010]4、采用超声波导电棒清洗的方式
[0011]专利技术专利(申请号：202010213998.9)是将一组待处理导电棒放入有清洗剂的酸洗槽内，酸洗槽内配有超声波发生器。清洗过程中通过超声波振动以及清洗剂的清洗下将氧化物清洗干净。该方法的缺点是：工序多，效率低，清洗效果差，使用清洗剂成本较高等缺点。
[0012]因此，现有的导电棒清洗技术有待改进。

技术实现思路

[0013]本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种导电棒表面附着物的清洗系统，采用本申请的清洗系统不仅清洗效率和清洗质量高，而且对导电棒表面的铜层损伤较小，从而可以显著提高清洗后导电棒的
使用寿命。
[0014]在本专利技术的一个方面，本专利技术提出了一种导电棒表面附着物的清洗系统。根据本专利技术的实施例，所述系统包括：
[0015]设备本体，所述设备本体内包括依次间隔布置的缓冲区、清洗区和沥水区，所述缓冲区、清洗区和沥水区共同限定出通过通道，导电棒沿所述通过通道可移动布置，并且所述清洗区设有喷嘴，所述喷嘴朝向所述导电棒设置。
[0016]根据本专利技术实施例的导电棒表面附着物的清洗系统，通过采用包括依次间隔布置的缓冲区、清洗区和沥水区的设备本体，缓冲区、清洗区和沥水区共同限定出通过通道，导电棒沿通过通道依次经过缓冲区、清洗区和沥水区，并且在清洗区设置喷嘴，在导电棒经过清洗区时，喷嘴喷出高压清洗液对导电棒表面的氧化层和杂质进行清洗，可以实现对导电棒的快速清洗，导电棒在清洗区清洗完成进入沥水区，在沥水区去除表面附着清洗液，即在一个设备内即可完成导电棒的高效清洗和沥干，相较于现有的人工清洗、机械打磨、光棒机清洗和超声波清洗方式，本申请的清洗系统不仅清洗效率和清洗质量高，而且对导电棒表面的铜层损伤较小，从而可以显著提高清洗后导电棒的使用寿命。
[0017]另外，根据本专利技术上述实施例的导电棒表面附着物的清洗系统还可以具有如下附加的技术特征：
[0018]在本专利技术的一些实施例中，上述系统进一步包括导向机构，所述导向机构设在所述导电棒的端部且带动所述导电棒沿所述缓冲区至所述沥水区方向运动。
[0019]在本专利技术的一些实施例中，所述缓冲区的端部设有第一通孔，所述缓冲区和清洗区之间设有第二通孔，所述清洗区和沥水区之间设有第三通孔，所述沥水区的端部设有第四通孔，所述第一通孔、缓冲区、第二通孔、清洗区、第三通孔、沥水区和第四通孔共同限定出所述通过通道。
[0020]在本专利技术的一些实施例中，所述第一通孔、第二通孔、第三通孔和第四通孔设有柔性材料。由此，可以在保证系统气密性的同时避免对经过通过通道的导电棒表面造成损伤。
[0021]在本专利技术的一些实施例中，所述喷嘴沿所述缓冲区的方向倾斜延伸。由此，可以提高导电棒的清洗效率。
[0022]在本专利技术的一些实施例中，所述喷嘴的轴向与所述导电棒的轴向呈10～70度夹角。由此，可以提高导电棒的清洗效率。
[0023]在本专利技术的一些实施例中，上述导电棒表面附着物的清洗系统包括多组所述喷嘴，所述多组喷嘴沿所述导电棒长度方向间隔布置。由此，可以提高导电棒的清洗效率和清洗质量。
[0024]在本专利技术的一些实施例中，每组所述喷嘴包括多个喷嘴，所述多个喷嘴沿所述导电棒的周向间隔布置。由此，可以提高导电棒的清洗效率和清洗质量。
[0025]在本专利技术的一些实施例中，所述沥水区设有清洗液去除组件。由此，可以提高清洗后导电棒表面附着清洗液的去除效率。
[0026]在本专利技术的一些实施例中，所述清洗液去除组件包括毛刷、布料或喷吹设备。由此，可以提高清洗后导电棒表面附着清洗液的去除效率。
[0027]在本专利技术的一些实施例中，上述导电棒表面附着物的清洗系统进一步包括：检测组件，所述检测组件设在所述沥水区且用于收集所述导电棒表面清洗质量信息；控制组件，
所述控制组件与所述检测组件和所述喷嘴相连，且基于所述检测组件的反馈的清洗质量信息调整所述喷嘴的流量和/或出液压力。由此，可以在保证清洗质量的同时降低导电棒表面的损伤。
[0028]本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。
附图说明
[0029]本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0030]图1是根据本专利技术一个实施例的导电棒表面附着物的清洗系统的结构示意图；
[0031]图2是根据本专利技术再一个实施例的导电棒表面附着物的清洗系统的结构示意图；
[0032]图3是根据本专利技术又一个实施例的导电棒表面附着物的清洗系统中清洗区的部分纵截面结构示意图；
[0033]图4是根据本专利技术又一个实施例的导电棒表面附着物的清洗系统中清洗区的部分纵截面结构示意图；
[0034]图5是根据本专利技术又一个实施例的导电棒表面附着物的清洗系统的结构示意图；
[0035]图6是根据本专利技术又一个实施例的导电棒表面附着物的清洗系统的结构示意图；
[0036]图7是根据本专利技术又一个实施例的导电棒表面附着物本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种导电棒表面附着物的清洗系统，其特征在于，包括：设备本体，所述设备本体内包括依次间隔布置的缓冲区、清洗区和沥水区，所述缓冲区、清洗区和沥水区共同限定出通过通道，导电棒沿所述通过通道可移动布置，并且所述清洗区设有喷嘴，所述喷嘴朝向所述导电棒设置。2.根据权利要求1所述的导电棒表面附着物的清洗系统，其特征在于，进一步包括：导向机构，所述导向机构设在所述导电棒的端部且带动所述导电棒沿所述缓冲区至所述沥水区方向运动。3.根据权利要求1所述的导电棒表面附着物的清洗系统，其特征在于，所述缓冲区的端部设有第一通孔，所述缓冲区和清洗区之间设有第二通孔，所述清洗区和沥水区之间设有第三通孔，所述沥水区的端部设有第四通孔，所述第一通孔、缓冲区、第二通孔、清洗区、第三通孔、沥水区和第四通孔共同限定出所述通过通道。4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述第一通孔、第二通孔、第三通孔和第四通孔设有柔性材料。5.根据权利要求1所述的导电棒表面附着物的清洗系统，...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓爱民，彭宏道，喻鑫，高诗杰，
申请(专利权)人：江西瑞林装备有限公司，
类型：发明
国别省市：