一种富含酵母发酵液SupfermPO的抗敏舒缓底妆配方及其制备方法组成比例

本发明专利技术公开一种富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方及其制备方法。该底妆配方以质量百分数计，包括乳化剂、粉类、成膜剂、润肤剂、增稠剂、调理剂、防腐剂、保湿剂、抗敏舒缓剂，剩余为酵母发酵液；所述抗敏舒缓剂为BLUSH Ol

【技术实现步骤摘要】
一种富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方及其制备方法


[0001]本专利技术属于化妆品领域，具体涉及一款富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方及其制备方法。

技术介绍

[0002]敏感性皮肤特指皮肤在生理或病理条件下发生的一种高反应状态，主要发生于面部，临床表现为受到物理、化学、精神等因素刺激时皮肤易出现灼热、刺痛、瘙痒及紧绷感等主观症状，伴或不伴红斑、鳞屑、毛细血管扩张等客观体征。随着环境污染日益加重和精神压力增加等，可反射性地引起神经降压肽释放，从而引发敏感性皮肤。
[0003]有报告显示，中国敏感肌女性占全球敏感肌女性的36％，主要是承受都市生活压力，普遍高频化妆的轻熟女性，超过七成的敏感肌女性其肌肤敏感程度处于弱度或轻度。长久以来，占人口30％以上的敏感肌人群一直在化妆与不化妆之间做选择题。敏感肌女性选择化妆品时最在意产品对肌肤是否安全无刺激。敏感肌人群对产品温和成分的重视程度，与肌肤敏感程度呈正相关。
[0004]在以往敏感肌上妆的过程中，由于敏感的肌肤体感，传统市售底妆产品大多存在“扎脸”“闷痘”“泛红瘙痒”等不适，同时基于敏感肌自身常见的皮肤状态，厚重浮粉更是常态。
[0005]因为本申请专利技术人提出了属于敏感肌人群选择底妆的一站式解决方案，在解决这些传统的痛点的同时，更通过不同的搭配设计和技术打造了一款温和舒敏、富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方。

技术实现思路

[0006]
技术实现思路
是一种新型底妆配方搭配，此配方所选取的原料均不致敏，具备一定的安全性，针对目前敏感肌人群使用底妆产品容易出现致痘、扎脸等现状，提供一种富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方及配方。
[0007]本专利技术的目的至少通过如下技术方案之一实现。
[0008]一种富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方，其特征在于，以质量百分数计，包括4％～6％乳化剂、10％～18％粉类、8％～15％成膜剂、20％～30％润肤剂、1％～2％增稠剂、2％～6％调理剂、0.5％～2％防腐剂、10％～15％保湿剂、0.5％～2％抗敏舒缓剂，剩余为酵母发酵液；所述抗敏舒缓剂为BLUSH Ol
é
oactif，酵母发酵液为 Supferm PO。
[0009]所述Supferm PO的制备工艺为：准备马铃薯发酵底物和酵母菌为发酵底物，将10g酵母菌C
‑
SFF
‑
9菌液接种到300g马铃薯发酵底物中，在温度为25℃，且搅拌的条件下发酵培养36小时，搅拌的转速为170rpm；制得的物料转移到离心机中，在转速为4000rpm的条件离心30min，收集上清液，上清液在90℃的条件下灭菌30min；灭菌后，降温，在70℃条件下与防腐剂混合即可得到目标产物 Supferm PO。
[0010]所述成膜剂为丙烯酸(酯)类成膜剂与MQ树脂成膜剂按照质量比1～2:4～6 搭配，优选1:6。
[0011]所述底妆配方包括粉底液、粉霜、隔离乳或遮瑕膏。
[0012]进一步优选地，上述的乳化剂为KSG
‑
840(月桂基聚二甲基硅氧烷/聚甘油
ꢀ‑
3交联聚合物)、KF
‑
6105(月桂基聚甘油
‑
3聚二甲基硅氧乙基聚二甲基硅氧烷)中的一种以上。
[0013]进一步优选地，上述的粉体为KTP系列、TAY
‑
MP1133
‑
AES及SOLAVEIL XTP
‑
1 中的一种以上。其中KTP系列为氧化铁类(和)三乙氧基甲硅烷基乙基聚二甲基硅氧乙基己基聚二甲基硅氧烷，其中氧化铁类包括氧化铁黄、氧化铁黑、氧化铁红。TAY
‑
MP1133
‑
AES为二氧化钛(和)三乙氧基辛基硅烷。SOLAVEIL XTP
‑
1为二氧化钛(和)硬脂酸(和)氧化铝。
[0014]进一步优选地，所述丙烯酸(酯)类成膜剂包括丙烯酸(酯)类/聚二甲基硅氧烷共聚物(和)聚二甲基硅氧烷或丙烯酸(酯)类/聚二甲基硅氧烷共聚物(和) 异十二烷；所述MQ树脂成膜剂包括三甲基硅烷氧基硅酸酯(和)聚二甲基硅氧烷或三甲基硅烷氧基硅酸酯(和)异十二烷。
[0015]进一步优选地，上述的润肤剂为聚二甲基硅氧烷、丁基辛醇水杨酸酯或羟基硬脂酸乙基己酯中的一种以上。
[0016]进一步优选地，上述的增稠剂为二硬脂二甲铵锂蒙脱石或黄原胶中的一种以上。
[0017]进一步优选地，所述调理剂为KSG
‑
19(聚二甲基硅氧烷(和)聚二甲基硅氧烷/乙烯基聚二甲基硅氧烷交联聚合物)、KMP
‑
590(聚甲基硅倍半氧烷)和 KSP
‑
300(二苯基聚二甲基硅氧烷/乙烯基二苯基聚二甲基硅氧烷/倍半硅氧烷交联聚合物)。
[0018]进一步优选地，上述的防腐剂为对羟基苯乙酮。
[0019]进一步优选地，上述的保湿剂为甘油、丁二醇和1,2
‑
己二醇。
[0020]进一步优选地，上述的抗敏舒缓剂为BLUSH Ol
é
oactif(油菜(BRASSICACAMPESTRIS)籽油、蓼蓝(POLYGONUM TINCTORIUM)叶提取物、迷迭香(ROSMARINUSOFFICINALIS)叶提取物)。
[0021]进一步优选地，上述的酵母发酵液为Supferm PO(酵母菌/马铃薯提取物发酵产物滤液、1,2
‑
己二醇、对羟基苯乙酮)。
[0022]本专利技术一种富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方的制备方法，包括以下步骤：
[0023]步骤1：将增稠剂之一用部分润肤剂分散，后加入乳化剂，高速均质，均质力度为3000～8000r/min，均质时间为3min～10min，得到组分A；
[0024]步骤2：将粉类、润肤剂混合，均质分散，均质力度为3000～8000r/min，均质时间为3min～10min，得到组分B；
[0025]步骤3：将组分A和组分B混合均匀，得组分C；
[0026]步骤4：将成膜剂、抗敏舒缓剂及部分调理剂依次加入组分C，低速均质，均质力度为3000～8000r/min，均质时间为3min～10min，得到组分D；
[0027]步骤5：将防腐剂和保湿剂保温加热到60℃～85℃搅拌5min～10min至溶解，加入增稠剂之一分散，后加入部分调理剂及酵母发酵液，溶解，低速均质，均质力度为3000～8000r/min，均质时间为3min～10min，得到组分E；
[0028]步骤6：组分D在搅拌的状态下，搅拌机速度为400～500r/min，缓慢加入组分E，加
完后，用均质机均质，均质力度为3000～8000r/min，均质时间为3min～10min；均质完搅拌本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方，其特征在于，以质量百分数计，包括4%~6%乳化剂、10%~18%粉类、8%~15%成膜剂、20%~30%润肤剂、1%~2%增稠剂、2%~6%调理剂、0.5%~2%防腐剂、10%~15%保湿剂、0.5%~2%抗敏舒缓剂，剩余为酵母发酵液；所述抗敏舒缓剂为BLUSH Ol
é
oactif，酵母发酵液为Supferm PO；所述Supferm PO的制备工艺为：准备马铃薯发酵底物和酵母菌为发酵底物，将10g酵母菌C
‑
SFF
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9菌液接种到300g马铃薯发酵底物中，在温度为25℃，且搅拌的条件下发酵培养36小时，搅拌的转速为170rpm；制得的物料转移到离心机中，在转速为4000rpm的条件离心30min，收集上清液，上清液在90℃的条件下灭菌30min；灭菌后，降温，在70℃条件下与防腐剂混合即可得到目标产物Supferm PO；所述成膜剂为丙烯酸酯类成膜剂与MQ树脂成膜剂按照质量比1~2:4~6搭配；所述底妆配方包括粉底液、粉霜、隔离乳或遮瑕膏。2.根据权利要求1所述富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方，其特征在于，所述乳化剂包括月桂基聚二甲基硅氧烷/聚甘油
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3 交联聚合物或月桂基聚甘油
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3 聚二甲基硅氧乙基聚二甲基硅氧烷中的一种以上。3.根据权利要求1所述富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方，其特征在于，所述粉体包括氧化铁类和三乙氧基甲硅烷基乙基聚二甲基硅氧乙基己基聚二甲基硅氧烷、二氧化钛和三乙氧基辛基硅烷或二氧化钛和硬脂酸和氧化铝中的一种以上。4.根据权利要求1所述富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方，其特征在于，所述丙烯酸（酯）类成膜剂包括丙烯酸（酯）类/聚二甲基硅氧烷共聚物(和）聚二甲基硅氧烷或丙烯酸（酯）类/聚二甲基硅氧烷共聚物(和）异十二烷；所述MQ树脂成膜剂包括三甲基硅烷氧基硅酸酯和聚二甲基硅氧烷或，三甲基硅烷氧基硅酸酯和异十二烷。5.根据权利要求1所述富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方，其特征在于，所述润肤剂为聚二甲基硅氧烷、丁基辛醇水杨酸酯或羟基硬脂酸乙基己酯中的一种以上。6.根据权利要求1所述富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方，其特征在于，所述增稠剂为二硬脂二甲铵锂蒙脱石或...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓朝庆，林如妹，叶秀琳，郝钰婷，程勇，
申请(专利权)人：广东馨柯生命科学有限公司，
类型：发明
国别省市：