【技术实现步骤摘要】
记忆体装置及记忆体阵列
[0001]本案是与电子装置有关,且特别是有关于一种记忆体装置及记忆体阵列。
技术介绍
[0002]通常,记忆体装置可是挥发性记忆体装置及非挥发性记忆体(non
‑
volatile memory,NVM)装置。挥发性记忆体装置可在提供电力时储存数据,但一旦电力关断,储存的数据可能会丢失。一次可程序(one
‑
Time programmable,OTP)记忆体装置是常用于只读记忆体(read
‑
only memory,ROM)的NVM类型。当程序化OTP记忆体装置时,该装置无法重新程序化。eFuse记忆体单元是一OTP记忆体装置类型,包括一晶体管、一电阻器(one
‑
Transistor,one
‑
Resistor,1T1R)组态。随着技术的不断进步且遵循莫耳定律,人们希望装置具有较小的单元面积。
技术实现思路
[0003]本案内容的一技术态样是关于一种记忆体装置。记忆体装置包含晶体管及电阻器。与晶 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种记忆体装置,其特征在于,其包含:一晶体管;及与该晶体管电连接的一电阻器,该晶体管与该电阻器形成一第一一次可程序(OTP)记忆体单元,其中该电阻器包括具有一电阻率的一金属基层,用以自一第一电阻状态不可逆地转换至一第二电阻状态。2.根据权利要求1所述的记忆体装置,其特征在于,其进一步包含耦合至该晶体管的一源极/漏极(S/D)结构的一第一互连结构,其中该金属基层相对于该第一互连结构设置。3.根据权利要求2所述的记忆体装置,其特征在于,其中该金属基层插入该第一互连结构与该S/D结构之间。4.一种记忆体装置,其特征在于,其包含:一晶体管;电耦合至该晶体管的一电阻器,该晶体管与该电阻器形成一电气熔丝(eFuse)记忆体单元;形成于该晶体管的一源极/漏极结构上方的多个互连结构;及形成于该晶体管的该源极/漏极结构上方的多个通孔结构,其中该电阻器设置于该晶体管的该源极/漏极结构与该些互连结构中的一最顶一者之间,且其中该电阻器由氮化钛(TiN)形成。5.根据权利要求4所述的记忆体装置,其特征在于,其中该电阻器直接设置于该些互连结构中的一第一者的一底表...
【专利技术属性】
技术研发人员:张盟昇,黄家恩,
申请(专利权)人:台湾积体电路制造股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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