含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质制造技术

一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示。R1‑

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质


[0001]本专利技术涉及适合于磁记录介质的润滑剂用途的含氟醚化合物、包含该含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂以及磁记录介质。
[0002]本申请基于2020年2月7日在日本申请的特愿2020
‑
020180号来主张优先权，将其内容援用到本文中。

技术介绍

[0003]近年来，随着经由了因特网的信息处理量的飞跃的增大，保存这些信息的记录介质的开发备受注目。特别是作为记录介质的一种的磁记录介质由于低成本且能够大容量化，因此作为增大的信息的接收皿而被期待。
[0004]对于磁记录介质，为了确保磁记录介质的耐久性和可靠性，在被形成在基板上的磁性层(磁记录层)上设置保护层和润滑层。特别是对被配置在最表面的润滑层要求长期稳定性、化学物质耐性(防止硅氧烷等污染)、耐磨损性、耐热性等各种特性。
[0005]迄今为止作为磁记录介质用的润滑剂，提出了含有在具有包含CF2的重复结构的氟系聚合物的末端具有羟基等极性基的化合物的润滑剂(例如，参照专利文献1～7)。
[0006本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示，R1‑
(O(CH2)
a
)
b
‑
[A]
‑
[B]
‑
O
‑
CH2‑
R2‑
CH2‑
R3ꢀꢀ
(1)在式(1)中，R1为可以具有取代基的烷基、具有至少一个双键或三键的有机基中的任一者；a为2～4的整数，b为0或1；[A]由下述式(2)表示；式(2)中的c为1或2；[B]由下述式(3)表示；式(3)中的d为0或1，e为2～4的整数；其中，式(2)的c与式(3)的d的值之和为2；R2为全氟聚醚链；R3由下述式(4)表示；式(4)中的f为2～5的整数，2.根据权利要求1所述的含氟醚化合物，其数均分子量在1000～2300的范围内。3.根据权利要求1或2所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R1为碳原子数1～6的烷基。4.根据权利要求1或2所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R1为具有取代基的碳原子数1～6的烷基，所述取代基为氟基或氰基。5.根据权利要求1或2所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R1为具有芳香族烃的碳原子数6～12的有机基、具有芳香族杂环的碳原子数3～10的有机基、碳原子数2～8的烯基、和碳原子数3～8的炔基中的任一者。6.根据权利要求1或2所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R1为选自甲基、乙基、正丙基、异丙基、2,2,2
‑
三氟乙基、2,2,3,3,3
‑
五氟丙基、2,2,2,2,2,2
‑
六氟异丙基、2
‑
氰基乙基、3
‑
氰基丙基、4
‑
氰基丁基、苯基、甲氧基苯基、氰基苯基、苯乙基、噻吩基乙基、N
‑
甲基吡唑基甲基、烯丙基、3
‑
丁烯基、4
‑
戊烯基、炔丙基、3
‑
丁炔基、和4
‑
戊炔基中的1个基团。7.根据权利要求1～6中任一项所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R2为下述式(5)～(8)中的...

【专利技术属性】
技术研发人员：柳生大辅，加藤刚，浅野绫乃，芝田夏实，福本直也，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，
类型：发明
国别省市：