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用于防治无脊椎有害生物的吡啶化合物制造技术

技术编号:34878785 阅读:17 留言:0更新日期:2022-09-10 13:35
披露了式(1)的化合物,包括其所有几何异构体和立体异构体、N

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于防治无脊椎有害生物的吡啶化合物
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年1月30日提交的美国临时申请号62/967,838的权益。


[0003]本披露涉及适用于农学和非农学用途的某些吡啶化合物、其N

氧化物、盐和组合物,以及它们用于在农学和非农学环境中防治无脊椎有害生物诸如节肢动物的方法。

技术介绍

[0004]防治无脊椎有害生物在实现高作物效率中是极其重要的。无脊椎有害生物对生长中和储存的农作物的损害可导致生产力显著降低,并由此导致消费者的成本增加。在林业、温室作物、观赏植物、苗圃作物、储存食品和纤维产品、牲畜、家庭、草皮、木材产品以及公共健康和动物健康中的无脊椎有害生物的防治也是重要的。为了这些目的,许多产品是可商购的,但持续需要更有效、较低成本、较低毒性、对环境更安全或具有不同的作用位点的新型化合物。

技术实现思路

[0005]本披露涉及式1的化合物(包括所有几何异构体和立体异构体)、其N

氧化物和盐,以及含有它们的组合物,以及它们用于防治无脊椎有害生物的用途:
[0006][0007]其中
[0008]R1是F、OR6或S(O)
n
R6;
[0009]A是N或CR3;
[0010]R2是H、卤素、CN、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C4环烷基、C3‑
C4卤代环烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;
[0011]R3是H、卤素、CN、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C4环烷基、C3‑
C4卤代环烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;
[0012]R4是5至6元杂环,每个环含有选自碳原子和1至4个独立地选自最高达2个O原子、最高达2个S原子和最高达4个N原子的杂原子的环成员,其中最高达2个环成员独立地选自C(=O)、C(=S)、S(=O)和S(=O)2,每个环任选地被最高达5个独立地选自R
v
的取代基取代,并且r是这些取代基的数目;
[0013]每个R
v
独立地是H、氰基、卤素、C1‑
C6烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C1‑
C6卤代烷基、C2‑
C6烯基、C2‑
C6卤代烯基、C2‑
C6炔基、C2‑
C6卤代炔基、C3‑
C6环烷基、C3‑
C6卤代环烷基、C2‑
C6氰基烷基、C1‑
C6羟基烷基、C4‑
C
10
烷基环烷基、C4‑
C
10
环烷基烷基、C3‑
C6环烯基、C3‑
C6卤代环烯基、C2‑
C6烷氧基烷基、C4‑
C
10
环烷氧基烷基、C3‑
C
10
烷氧基烷氧基烷基、C2‑
C6烷硫基烷基、C2‑
C6烷基亚磺酰基烷基、C3‑
C6环烷氧基、C3‑
C6卤代环烷氧基、C4‑
C
10
环烷基烷氧基、C2‑
C6烯氧基、C2‑
C6卤代烯氧基、C2‑
C6烷氧基烷氧基、C2‑
C6烷基羰基氧基、C1‑
C6烷硫基、C1‑
C6卤代烷硫基、C3‑
C6环烷硫基、C1‑
C6烷基亚磺酰基、C1‑
C6卤代烷基亚磺酰基、C1‑
C6烷基磺酰基、C1‑
C6卤代烷基磺酰基、C3‑
C6环烷基磺酰基、C1‑
C6烷基氨基、C2‑
C6二烷基氨基、C1‑
C6卤代烷基氨基、C2‑
C6卤代二烷基氨基或C3‑
C6环烷基氨基;
[0014]r是1、2、3、4或5;
[0015]R5是H、卤素、CN、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C4环烷基、C3‑
C4卤代环烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;
[0016]R6是C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C4环烷基或C3‑
C4卤代环烷基;
[0017]Q是含有选自碳原子和最高达2个氮原子的环成员的六元芳族环,每个环在碳原子环成员上任选地被最高达5个独立地选自一个或多个R
w
的取代基取代;并且s是这些取代基的数目;
[0018]R
w
独立地是H、氰基、卤素、C1‑
C6烷基、C1‑
C6卤代烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C2‑
C6烯基、C2‑
C6卤代烯基、C2‑
C6炔基、C2‑
C6卤代炔基、C3‑
C6环烷基、C3‑
C6卤代环烷基、C2‑
C6氰基烷基、C1‑
C6羟基烷基、C4‑
C
10
烷基环烷基、C4‑
C
10
环烷基烷基、C3‑
C6环烯基、C3‑
C6卤代环烯基、C2‑
C6烷氧基烷基、C4‑
C
10
环烷氧基烷基、C3‑
C
10
烷氧基烷氧基烷基、C2‑
C6烷硫基烷基、C2‑
C6烷基亚磺酰基烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C3‑
C6环烷氧基、C3‑
C6卤代环烷氧基、C4‑
C
10
环烷基烷氧基、C2‑
C6烯氧基、C2‑
C6卤代烯氧基、C2‑
C6烷氧基烷氧基、C2‑
C6烷基羰基氧基、C1‑
C6烷硫基、C1‑
C6卤代烷硫基、C3‑
C6环烷硫基、C1‑
C6烷基亚磺酰基、C1‑
C6卤代烷基亚磺酰基、C3‑
C6环烷基亚磺酰基、C1‑
C6烷基磺酰基、C1‑
C6卤代烷基磺酰基、C3‑
C6环烷基磺酰基、C1‑
C6烷基氨基、C2‑
C6二烷基氨基、C1‑
C6卤代烷基氨基、C2‑
C6卤代二烷基氨基或C3‑
C6环烷基氨基;或者相邻碳原子上的两个R
w
可以一起形成

OCF2O



OCH2O



OCF2S



OCH2CH2)

、OCF2CF2O

环醚环;
[0019]s是1、2、3、4或5;<本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种选自式1的化合物、其N

氧化物或盐,其中R1是F、OR6或S(O)
n
R6;A是N或CR3;R2是H、卤素、CN、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C4环烷基、C3‑
C4卤代环烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;R3是H、卤素、CN、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C4环烷基、C3‑
C4卤代环烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;R4是5至6元杂环,每个环含有选自碳原子和1至4个独立地选自最高达2个O原子、最高达2个S原子和最高达4个N原子的杂原子的环成员,其中最高达2个环成员独立地选自C(=O)、C(=S)、S(=O)和S(=O)2,每个环任选地被最高达5个独立地选自R
v
的取代基取代,并且r是这些取代基的数目;每个R
v
独立地是H、氰基、卤素、C1‑
C6烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C1‑
C6卤代烷基、C2‑
C6烯基、C2‑
C6卤代烯基、C2‑
C6炔基、C2‑
C6卤代炔基、C3‑
C6环烷基、C3‑
C6卤代环烷基、C2‑
C6氰基烷基、C1‑
C6羟基烷基、C4‑
C
10
烷基环烷基、C4‑
C
10
环烷基烷基、C3‑
C6环烯基、C3‑
C6卤代环烯基、C2‑
C6烷氧基烷基、C4‑
C
10
环烷氧基烷基、C3‑
C
10
烷氧基烷氧基烷基、C2‑
C6烷硫基烷基、C2‑
C6烷基亚磺酰基烷基、C3‑
C6环烷氧基、C3‑
C6卤代环烷氧基、C4‑
C
10
环烷基烷氧基、C2‑
C6烯氧基、C2‑
C6卤代烯氧基、C2‑
C6烷氧基烷氧基、C2‑
C6烷基羰基氧基、C1‑
C6烷硫基、C1‑
C6卤代烷硫基、C3‑
C6环烷硫基、C1‑
C6烷基亚磺酰基、C1‑
C6卤代烷基亚磺酰基、C1‑
C6烷基磺酰基、C1‑
C6卤代烷基磺酰基、C3‑
C6环烷基磺酰基、C1‑
C6烷基氨基、C2‑
C6二烷基氨基、C1‑
C6卤代烷基氨基、C2‑
C6卤代二烷基氨基或C3‑
C6环烷基氨基;r是1、2、3、4或5;R5是H、卤素、CN、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C4环烷基、C3‑
C4卤代环烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;R6是C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C4环烷基或C3‑
C4卤代环烷基;Q是含有选自碳原子和最高达2个氮原子的环成员的六元芳族环,每个环在碳原子环成员上任选地被最高达5个独立地选自一个或多个R
w
的取代基取代;并且s是这些取代基的数目;R
w
独立地是H、氰基、卤素、C1‑
C6烷基、C1‑
C6卤代烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C2‑
C6烯基、C2‑
C6卤代烯基、C2‑
C6炔基、C2‑
C6卤代炔基、C3‑
C6环烷基、C3‑
C6卤代环烷基、C2‑
C6氰基烷基、C1‑
C6羟基烷基、C4‑
C
10
烷基环烷基、C4‑
C
10
环烷基烷基、C3‑
C6环烯基、C3‑
C6卤代环烯
基、C2‑
C6烷氧基烷基、C4‑
C
10
环烷氧基烷基、C3‑
C
10
烷氧基烷氧基烷基、C2‑
C6烷硫基烷基、C2‑
C6烷基亚磺酰基烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C3‑
C6环烷氧基、C3‑
C6卤代环烷氧基、C4‑
C
10
环烷基烷氧基、C2‑
C6烯氧基、C2‑
C6卤代烯氧基、C2‑
C6烷氧基烷氧基、C2‑
C6烷基羰基氧基、C1‑
C6烷硫基、C1‑
C6卤代烷硫基、C3‑
C6环烷硫基、C1‑
C6烷基亚磺酰基、C1‑
C6卤代烷基亚磺酰基、C3‑
C6环烷基亚磺酰基、C1‑
C6烷基磺酰基、C1‑
C6卤代烷基磺酰基、C3‑
C6环烷基磺酰基、C1‑
C6烷基氨基、C2‑
C6二烷基氨基、C1‑
C6卤代烷基氨基、C2‑
C6卤代二烷基氨基或C3‑
C6环烷基氨基;或者相邻碳原子上的两个R
w
可以一起形成

OCF2O



OCH2O



OCF2S



OCH2CH2)

、OCF2CF2O

环醚环;s是1、2、3、4或5;n是0、1或2;前提是1)当R1是F时,R2是H,A是CR3,其中R3是F,R4是1

吡唑并且R5是H,Q不是4

OCF3‑
苯基;以及2)R4不是吡啶基。2.如权利要求1所述的化合物,其中:一种式1的化合物,其中R1是F;A是CR3;R2是H、卤素、CN、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C4环烷基、C3‑
C4卤代环烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;R3是H、卤素、CN、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C4环烷基、C3‑
C4卤代环烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;R4是5至6元杂环,每个环含有选自碳原子和1至4个独立地选自最高达2个O原子、最高达2个S原子和最高达4个N原子的杂原子的环成员,其中最高达2个环成员独立地选自C(=O)、C(=S)、S(=O)和S(=O)2,每个环或环体系任选地被最高达5个独立地选自R
v
的取代基取代,并且r是这些取代基的数目;每个R
v
独立地是H、卤素、C1‑
C6烷基、C1‑
C6卤代烷基、C1‑
C6烷氧基或C1‑
C6卤代烷氧基;r是1、2、3、4或5;R5是H、卤素、CN、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C4环烷基、C3‑
C4卤代环烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;Q是在环上具有0至2个N的六元芳族环,每个环在碳原子环成员上任选地被最高达5个独立地选自R
w
的取代基取代;R
w
独立地是氰基、卤素、C1‑
C6烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C1‑
C6卤代烷基、C2‑
C6烯基、C2‑
C6卤代烯基、C2‑
C6炔基、C2‑
C6卤代炔基、C1‑
C6烷硫基、C1‑
C6卤代烷硫基、C1‑
C6烷基亚磺酰基、C1‑
C6卤代烷基亚磺酰基、C1‑
C6烷基磺酰基或C1‑
C6卤代烷基磺酰基;s是1、2、3、4或5;n是0、1或2。3.如权利要求2所述的化合物,其中:R2是H、卤素或C1‑
C4烷基;R3是H、卤素、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;
R4选自如示例1中所示的U

2至U

49或U52至U61;r是1或2;R5是H、卤素、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;R
w
是C1‑
C6卤代烷氧基、C1‑
C6卤代烷基、C2‑
C6卤代烯基、C2‑
C6卤代炔基、C1‑
C6卤代烷硫基、C1‑
C6卤代烷基亚磺酰基、C1‑
C6卤代烷基磺酰基;s是1或2。4.如权利要求3所述的化合物,其中:R2是H;R3是H或卤素;R4选自U

2至U

49;R
v
是H;R5是H或卤素;Q是苯基、吡啶基、嘧啶基或吡嗪基环,每个环在碳原子环成员上任选地被最高达5个独立地选自R
w
的取代基取代;R
w
是OCF3、SCF3、CF3、CF2CF3、SOCF3或SO2CF3。5.如权利要求3所述的化合物,其中:R2是C1‑
C4烷基;R3是H或卤素;R4选自U

2至U

49;R
v
是H;r是2;R5是H;Q是苯基、吡啶基、嘧啶基或吡嗪基环,每个环在碳原子环成员上任选地被最高达5个独立地选自R
w
的取代基取代;R
w
是OCF3、SCF3、CF3、CF2CF3、SOCF3或SO2CF3。6.一种式1的化合物,其中:R1是OR6;A是CR3;R2是H、卤素、CN、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C4环烷基、C3‑
C4卤代环烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;R3是H、卤素、CN、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C4环烷基、C3‑
C4卤代环烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;R4是5至6元杂环,每个环含有选自碳原子和1至4个独立地选自最高达2个O原子、最高达2个S原子和最高达4个N原子的杂原子的环成员,其中最高达2个环成员独立地选自C(=O)、C(=S)、S(=O)和S(=O)2,每个环或环体系任选地被最高达5个独立地选自R
v
的取代基取代,并且r是这些取代基的数目;每个R
v
独立地是H、卤素、C1‑
C6烷基、C1‑
C6卤代烷基、C1‑
C6烷氧基或C1‑
C6卤代烷氧基;r是1、2、3、4或5;R5是H、卤素、CN、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C4环烷基、C3‑
C4卤代环烷基、C1‑
C4烷氧基
或C1‑
C4卤代烷氧基;R6是C1‑
C4烷基;Q是在环上具有0至2个N的六元芳族环,每个环在碳原子环成员上任选地被最高达5个独立地选自R
w
的取代基取代;R
w
独立地是氰基、卤素、C1‑
C6烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C1‑
C6卤代烷基、C2‑
C6烯基、C2‑
C6卤代烯基、C2‑
C6炔基、C2‑
C6卤代炔基、C1‑
C6烷硫基、C1‑
C6卤代烷硫基、C1‑
C6烷基亚磺酰基、C1‑
C6卤代烷基亚磺酰基、C1‑
C6烷基磺酰基或C1‑
C6卤代烷基磺酰基;s是1、2、3、4或5;n是0、1或2。7.如权利要求6所述的化合物,其中:R2是H、卤素或C1‑
C4烷基;R3是H、卤素、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;R4选自如示例1中所示的U

2至U

49或U52至U61;r是1或2;R5是H、卤素、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;R6是Me;R
w
是C1‑
C6卤代烷氧基、C1‑
C6卤代烷基、C2‑
C6卤代烯基、C2‑
C6卤代炔基、C1‑
C6卤代烷硫基、C1‑
C6卤代烷基亚磺酰基、C1‑
C6卤代烷基磺酰基;s是1或2。8.如权利要求7所述的化合物,其中:R2是H;R3是H或卤素;R4选自U

2至U

49;R
v
是H;r是2;R5是H或卤素;Q是苯基、吡啶基、嘧啶基或吡嗪基环,每个环在碳原子环成员上任选地被最高达5个独立地选自R
w
的取代基取代;R
w
是OCF3、SCF3、CF3、CF2CF3、SOCF3或SO2CF3。9.一种式1的化合物,其中:R1是SR6;A是CR3;R2是H、卤素、CN、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C4环烷基、C3‑
C4卤代环烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;R3是H、卤素、CN、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C4环烷基、C3‑
C4卤代环烷基、C1‑
C4烷氧基或C1‑
C4卤代烷氧基;R4是5至6元杂环,每个环含有选自碳原子和1至4个独立地选自最高达2个O原子、最高达2个S原子和最高达4个N原子的杂原子的环成员,其中最高达2个环成员独立地选...

【专利技术属性】
技术研发人员:O
申请(专利权)人:FMC公司
类型:发明
国别省市:

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