一种半导体清洗剂用精馏装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种半导体清洗剂用精馏装置，涉及半导体清洗剂精馏技术领域，包括精馏釜，所述精馏釜侧面固定安装有进液管，所述精馏釜顶部中心位置固定焊接有圆柱筒，所述圆柱筒两端采用螺栓固定连接有密封盖，设置于圆柱筒顶部的密封盖中心位置采用轴承与驱动电机输出端转动连接，所述驱动电机底部通过进水架固定连接有第一弯管。本实用新型专利技术在圆柱筒设置有进水腔，进水腔一侧设置有进水管，可通过进水管向完全贴合精馏管内壁形状的第一弯管、第二弯管持续供水，驱动电机通过进水架带动第一弯管、第二弯管沿精馏釜内壁转动，清洗水可对精馏釜高压进行冲洗，可不在浪费大量水资源的情况下，完成对精馏釜的清洗工作。完成对精馏釜的清洗工作。完成对精馏釜的清洗工作。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体清洗剂用精馏装置


[0001]本技术涉及半导体清洗剂精馏
，尤其涉及一种半导体清洗剂用精馏装置。

技术介绍

[0002]半导体水基清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面沾污有金属原子和金属离子等，而精馏是利用混合物中各组分挥发度不同而将各组分加以分离的一种分离过程，常用的设备有板式精馏塔和填料精馏塔。
[0003]半导体清洗剂在精馏釜中精馏时，精馏釜侧壁顶部由于温度较低，半导体清洗剂气相会在侧壁冷凝附着，因此精馏釜在更换精馏原液之前，需要对精馏釜侧壁进行清洗，然后现有技术中对精馏釜侧壁进行清洗的方式是将精馏釜灌满清洗水，利用大量的清洗水覆盖满精馏釜内壁，但是此种清洗水会浪费大量的水资源，增加清洗成本。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是为了解决现有技术中对精馏釜侧壁进行清洗的方式是将精馏釜灌满清洗水，利用大量的清洗水覆盖满精馏釜内壁，但是此种清洗水会浪费大量的水资源，增加清洗成本的问题，而提出的一种半导体清洗剂用精馏装置。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体清洗剂用精馏装置，包括精馏釜(7)，其特征在于，所述精馏釜(7)侧面固定安装有进液管(1)，所述精馏釜(7)顶部中心位置固定焊接有圆柱筒(11)，所述圆柱筒(11)两端采用螺栓固定连接有密封盖(10)，设置于圆柱筒(11)顶部的密封盖(10)中心位置采用轴承与驱动电机(20)输出端转动连接，所述驱动电机(20)底部通过进水架(19)固定连接有第一弯管(5)，所述第一弯管(5)底部固定连接有第二弯管(6)，所述第二弯管(6)形状为半圆弧形，所述第一弯管(5)与第二弯管(6)沿轴线等距分布有出水孔(51)，所述圆柱筒(11)顶部设置有吸气腔(9)，所述圆柱筒(11)靠吸气腔(9)侧面开设有出气管(15)。2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗剂用精馏装置，其特征在于，所述精馏釜(7)底部固定联通有连接管(3)，所述连接管(3)底部螺纹旋入端盖(4)，所述端盖(4)顶部固定安装有加热棒(2)。3.根据权利要求1所述的一种半导体清洗剂用精馏装置，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯林熙，纪明智，凌坤华，李陈陈，张顺利，张国平，吕超，李亚楠，
申请(专利权)人：江苏斯德瑞克化工有限公司，
类型：新型
国别省市：