【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于追踪与识别光刻系统的部件的方法及光刻系统
[0001]本申请案主张2020年2月3日所申请的德国专利申请案第DE 102020201 264.4号的优先权,其整个内容在此以引用方式并入本说明书作为本公开的一部分。
[0002]本专利技术关于一种如权利要求1的前序所述的用于追踪与识别光刻系统、特别是用于半导体光刻的投射曝光装置的部件的方法。
[0003]本专利技术还关于一种如权利要求16的前序所述的光刻系统、特别是一种用于半导体光刻的投射曝光装置,其包含具有辐射源的照明系统以及具有多个部件的光学单元。
技术介绍
[0004]光刻系统,特别是用于半导体光刻的投射曝光装置,具有大量部件,所述部件进而含有大量子部件。
[0005]为了追踪与识别所述部件,从现有技术已知所述部件具有多种商品管理系统。在这种情况下,该商品管理系统的编号可通过雕刻或压印而应用于所述部件。然而,可从该商品管理系统的编号直接获得的信息内容有限。
[0006]光刻系统,特别是投射曝光装置可具有个别化配置或客制化配置,这可意味着所述部件同样以个别化或客制化方式设置。举例来说,由于特定客户意愿或个别化,用于特定光刻系统的部件的处理可能与该部件的习惯处理有所不同,或该部件可能已在其中并入类型、设置、或配置与通常并入该部件中的子部件有所不同的子部件。
[0007]从该商品管理系统的编号,此有所不同无法被推论出,或只能推论到有限程度。
[0008]此外,对于光刻系统,特别是投射曝光装置,可具有性质(在规格内)与其 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于追踪与识别光刻系统的部件(1)的方法,特别是用于半导体光刻的投射曝光装置(100,200,400)的部件,其特征在于,所述部件(1)中的每一个具有至少一个转发器(2),该转发器(2)具有数据存储器(3),其上储存有关各部件(1)的数据,且该转发器(2)设置成拾取读取器(4)的无线抵达信号并采用来自该数据存储器(3)的数据响应,其中该光刻系统具有该转发器(2)的所述部件(1)是没有电气部件和/或没有电源的机械部件。2.如权利要求1的方法,其特征在于被动式转发器用作转发器(2)。3.如权利要求1或2的方法,其特征在于所述读取器(4)的所述信号通过无线电传送。4.如权利要求1、2、或3的方法,其特征在于所述转发器(2)设置成在该数据存储器(3)上根据需要储存经由所述读取器(4)的所述信号和/或传送器而抵达的数据。5.如权利要求1至4中任一项的方法,其特征在于在所述部件(1)的生产期间和/或在所述光刻系统的生产期间和/或在所述光刻系统的启动之后,所述数据储存在所述数据存储器(3)上。6.如权利要求5的方法,其特征在于在所述部件(1)的生产期间和/或在所述光刻系统的生产期间和/或在所述光刻系统的启动之后,数据重复储存在所述数据存储器(3)上。7.如权利要求1至6中任一项的方法,其特征在于下列一个或多个信息项目储存在所述数据存储器(3)中:
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关于部件(1)的类型的识别的数据;
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所述部件(1)的生产的IST数据;
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有关所述部件(1)的个别化和/或客制化调适的数据;
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有关所述部件(1)与特定光刻系统的关联性的数据,特别是个别化光刻系统和/或以客制化方式设置的光刻系统;
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有关所述部件(1)的性质的数据,具有所述性质的所述部件与规格内的相同类型的其他部件(1)不同;
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所述部件(1)的测量数据;
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有关所述部件(1)的全面检修、改良、转换、更新、或置换的数据;
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有关所述部件(1)的服务、启动、维修、和/或维护的数据;
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有关所述部件(1)的生产步骤的数据;
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有关所述部件(1)的一个或多个材料的数据;
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有关所述部件(1)的校准的资料;
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有关该部件(1)的处理的数据;
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有关生产特征的数据;
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有关产品特征的数据;
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有关所述部件(1)的子部件(7)的数据;
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有关所述部件(1)的硬件和/或所述部件(1)的子部件(7)的类型、配置、设置、处理、或状态的数据;
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【专利技术属性】
技术研发人员:M坎普弗罗泽,C沃尔辛,
申请(专利权)人:卡尔蔡司SMT有限责任公司,
类型:发明
国别省市:
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