工作台系统、工作台系统操作方法、检查工具、光刻设备、校准方法和装置制造方法制造方法及图纸

相对于参考物(RE)可移动的工作台(ST)包括：轴承(BE)，用于支撑和引导所述工作台相对于二维平面中的所述参考物的移动；以及致动器系统(ACT)，用于相对于所述参考物向所述工作台施加力，以相对于所述二维平面中的所述参考物移动或定位所述工作台，其中所述致动器系统包括至少一个致动器装置(CL)，所述至少一个致动器装置(CL)被配置为具有：接合模式，其中所述致动器装置与所述工作台接合以允许所述工作台与所述致动器装置一起移动；以及分离模式，其中所述致动器装置与所述工作台分离，允许所述工作台和所述致动器装置独立移动。许所述工作台和所述致动器装置独立移动。许所述工作台和所述致动器装置独立移动。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】工作台系统、工作台系统操作方法、检查工具、光刻设备、校准方法和装置制造方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年2月7日提交的EP申请20156073.7的优先权，其通过引用全部并入本文。


[0003]本专利技术涉及一种工作台系统、用于这种工作台系统的操作方法、检查工具、包括这种工作台系统的光刻设备、校准方法以及使用这种工作台系统的装置制造方法。

技术介绍

[0004]光刻设备是被构造为将期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以被用于例如集成电路(IC)的制造中。例如，光刻设备可以将图案形成装置(例如掩模)的图案(通常也称为“设计布局”或“设计”)投影到设置在衬底(例如晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
[0005]随着半导体制造过程的不断发展，遵循一般称为
‘
摩尔定律
’
的趋势，电路元件的尺寸被不断减小，但几十年来每个装置的功能元件(诸如晶体管)的数量却稳定增加。为了跟上摩尔定律，半导体行业正在寻求能够创建越来越小的特征的技术。为了将图案投影到衬底本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种工作台系统，包括：
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工作台，相对于参考物能够移动；
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轴承，用于支撑和引导所述工作台在二维平面中相对于所述参考物的移动；以及
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致动器系统，用于相对于所述参考物向所述工作台施加力，以在所述二维平面中相对于所述参考物移动或定位所述工作台，其中所述致动器系统包括至少一个致动器装置，所述至少一个致动器装置被配置为具有：接合模式，在所述接合模式中所述致动器装置与所述工作台接合以允许所述工作台与所述致动器装置一起移动；以及分离模式，在所述分离模式中所述致动器装置与所述工作台分离，从而允许所述工作台和所述致动器装置独立移动。2.根据权利要求1所述的工作台系统，其中所述轴承是非接触式或低摩擦轴承。3.根据权利要求1或2所述的工作台系统，其中所述致动器系统的致动器装置包括夹具，以使所述致动器装置进入所述接合模式。4.根据权利要求3所述的工作台系统，其中所述夹具是电磁夹具、静电夹具、真空夹具或者利用范德华力的夹具。5.根据权利要求1至4中任一项所述的工作台系统，其中所述致动器系统的致动器装置包括所述轴承的一部分，以在所述致动器装置处于分离模式时支撑和引导所述工作台相对于所述致动器装置的移动。6.根据权利要求1至5中任一项所述的工作台系统，其中所述致动器系统的至少一个致动器装置相对于所述参考物是不可平移的。7.根据权利要求1至6中任一项所述的工作台系统，其中所述致动器系统的至少一个致动器装置相对于所述参考物绕垂直于所述二维平面的旋转轴线能够旋转。8.根据权利要求1至6中任一项所述的工作台系统，其中所述致动器系统的至少一个致动器装置相对于所述参考物被布置为静止的。9.根据权利要求1至5中任一项所述的工作台系统，其中至少一个致动器装置被配置为在至少两个不同方向上施加力，以在所述二维平面中相对于所述参考物移动或定位所述工作台。10.根据权利要求2所述的工作台系统，其中所述轴承是空气轴承。11.根据权利要求3所述的工作台系统，其中所述夹具是电磁夹具，并且其中所述工作台包括铁磁材料以与所述电磁夹具协作。12.根据权利要求11所述的工作台系统，其中所述铁磁材料在所述二维平面外的方向上是能够变形的，以与处于所述接合模式的所述电磁夹具进行摩擦接合。13.根据权利要求1至12中任一项所述的工作台系统，其中所述致动器系统被配置为在所述致动器装置的所述接合模式下从下方与所述工作台接合。14.根据权利要求3、5和10所述的工作台系统，其中所述夹...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄仰山，R，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：