显示面板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种显示面板及其制作方法、显示装置。显示面板包括：阵列基板，阵列基板包括设置于非显示区的至少两个堤坝；绝缘层，位于阵列基板上；多条触控走线，位于绝缘层远离阵列基板的一侧；相邻两个堤坝之间的绝缘层上设置有多个凹槽，位于相邻两个堤坝之间区域的触控走线位于对应的凹槽内。据此，使得在触控走线图案化工艺中，在相邻两个堤坝之间的区域内，相邻两条触控走线之间的光刻胶可以流动至凹槽内，从而使得相邻两条触控走线之间的光刻胶的厚度较小，即达到有效降低相邻两条触控走线之间光刻胶厚度的效果，进而降低了触控走线图案化工艺中曝光所需能量，缩短了黄光制程时间，有效提升了触控显示面板的制作产能。能。能。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制作方法、显示装置


[0001]本专利技术实施例涉及显示
，尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。

技术介绍

[0002]随着科技的高速发展，带有触控装置的触控显示面板作为一种信息输入工具被广泛应用于手机、平板电脑及笔记本电脑等各种显示产品中，用户仅需用手触摸触控显示面板上的标识就能够实现对该电子设备的操作，消除了用户对键盘、鼠标等其他输入设备的依赖，使人机交互更为简易。目前，技术人员采用将触控装置直接制作在显示面板上的方式，实现显示面板上触控装置的设置。这种制作方式虽然能够保证较低的工艺复杂程度与制作成本，但触控显示面板的制作产能仍有待进一步的提高。

技术实现思路

[0003]本专利技术实施例提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，以在保证较低的工艺复杂程度与制作成本的前提下，有效提高触控显示面板的制作产能。
[0004]第一方面，本专利技术实施例提供了一种显示面板，所述显示面板具有显示区和非显示区，所述显示面板包括：阵列基板，所述阵列基板包括设置于所述非显示区的至少两个堤坝；绝缘层，位于所述阵列基板上，所述绝缘层覆盖所述至少两个堤坝；多条触控走线，位于所述绝缘层远离所述阵列基板的一侧；相邻两个所述堤坝之间的所述绝缘层上设置有多个凹槽，位于相邻两个所述堤坝之间区域的所述触控走线位于对应的所述凹槽内。
[0005]可选地，所述凹槽的边缘的至少部分呈曲折状。
[0006]可选地，所述凹槽的横截面呈弯曲状；其中，所述横截面的延展方向与所述触控走线的延伸方向相垂直。
[0007]可选地，所述绝缘层包括第一无机绝缘层和第二无机绝缘层；
[0008]所述第一无机绝缘层位于所述阵列基板与所述第二无机绝缘层之间；所述凹槽贯穿所述第二无机绝缘层，或者所述凹槽贯穿所述第一无机绝缘层和所述第二无机绝缘层；
[0009]优选地，所述第一无机绝缘层和所述第二无机绝缘层的厚度均为0.3μm；
[0010]优选地，所述第一无机绝缘层和所述第二无机绝缘层的材质均为氮化硅。
[0011]可选地，还包括封装层；所述封装层位于所述绝缘层与所述阵列基板之间；所述凹槽贯穿至所述封装层中，但不贯穿所述封装层；
[0012]优选地，所述封装层的厚度为1μm。
[0013]可选地，所述凹槽的深度大于或者等于所述触控走线的厚度；
[0014]优选地，所述凹槽的宽度与所述触控走线的宽度相同；
[0015]优选地，在相邻两个所述堤坝之间，所述凹槽与所述触控走线一一对应；
[0016]优选地，所述触控走线横跨所述至少两个堤坝。
[0017]第二方面，本专利技术实施例还提供了一种显示装置，显示装置包括上述第一方面所
述的显示面板；所述显示装置还包括触控电路，所述触控走线自所述显示区依次经过所述至少两个堤坝而与所述触控电路电连接。
[0018]第三方面，本专利技术实施例还提供了一种显示面板的制作方法，显示面板的制作方法包括：提供阵列基板，所述阵列基板具有显示区和非显示区，所述阵列基板包括设置于所述非显示区的至少两个堤坝；在所述阵列基板上形成绝缘层，所述绝缘层覆盖所述至少两个堤坝；在相邻两个所述堤坝之间的所述绝缘层上形成多个凹槽；在所述绝缘层远离所述阵列基板的一侧形成多条触控走线，其中位于相邻两个所述堤坝之间区域的所述触控走线位于对应的所述凹槽内。
[0019]可选地，所述在相邻两个所述堤坝之间的所述绝缘层上形成多个凹槽包括：在相邻两个所述堤坝之间的所述绝缘层上形成第一光刻胶层，并对所述第一光刻胶层依次进行曝光和显影，形成第一光刻胶图案；依照所述第一光刻胶图案对所述绝缘层进行刻蚀，从而在所述绝缘层上形成多个所述凹槽；
[0020]优选地，所述第一光刻胶图案中对应所述凹槽的区域保留有预设厚度的光刻胶；
[0021]优选地，所述在所述绝缘层远离所述阵列基板的一侧形成多条触控走线包括：形成金属层，所述金属层至少覆盖相邻两个所述堤坝之间的所述绝缘层和所述绝缘层上的所述凹槽；在相邻两个所述堤坝之间的所述金属层上形成第二光刻胶层，并对所述第二光刻胶层依次进行曝光和显影，形成第二光刻胶图案；依照所述第二光刻胶图案对所述金属层进行刻蚀，以去除相邻所述凹槽之间的所述金属层，从而形成位于所述凹槽内的所述触控走线。
[0022]可选地，所述在所述阵列基板上形成绝缘层之前还包括：在所述阵列基板上形成封装层，并在相邻两个所述堤坝之间的所述封装层上形成多个初始凹槽；在相邻两个所述堤坝之间的所述绝缘层上形成多个凹槽包括：所述初始凹槽被所述绝缘层覆盖后构成所述凹槽。
[0023]本专利技术实施例的技术方案，显示面板具有显示区和非显示区，显示面板包括阵列基板、绝缘层和多条触控走线，其中阵列基板包括设置于非显示区的至少两个堤坝，绝缘层位于阵列基板上，绝缘层覆盖至少两个堤坝，触控走线位于绝缘层远离阵列基板的一侧。通过设置相邻两个堤坝之间的绝缘层包括多个凹槽，且位于相邻两个堤坝之间区域的触控走线位于对应的凹槽内。使得在触控走线图案化工艺中，在相邻两个堤坝之间的区域内，相邻两条触控走线之间的光刻胶可以流动至凹槽内，从而使得相邻两条触控走线之间的光刻胶的厚度较小，即达到有效降低相邻两条触控走线之间光刻胶厚度的效果，进而降低了触控走线图案化工艺中曝光所需能量，缩短了黄光制程时间，有效提升了触控显示面板的制作产能。同时，本专利技术实施例的技术方案基本不会额外增加过多的工艺步骤和制作成本，使得触控显示面板的制作仍然保有较低的工艺复杂程度及制作成本。此外，本专利技术实施例有效降低相邻两个堤坝之间区域内，相邻两条触控走线之间光刻胶的厚度，还有利于在触控走线图案化工艺中，避免相邻两条触控走线之间残留光刻胶，从而保证相邻两条触控走线之间的金属被完全刻蚀，相邻两条触控走线之间基本没有金属残留，触控走线具有良好性能。
附图说明
[0024]图1是相关技术中的一种显示面板的局部俯视结构示意图；
[0025]图2是图1显示面板沿剖面线CC
’
进行剖面的剖面结构示意图；
[0026]图3是本专利技术实施例提供的一种显示面板的局部俯视结构示意图；
[0027]图4是图3所示显示面板沿剖面线CC
’
进行剖面的剖面结构示意图；
[0028]图5是本专利技术实施例提供的另一种显示面板的局部俯视结构示意图；
[0029]图6是本专利技术实施例提供的另一种显示面板沿剖面线DD
’
进行剖面的剖面结构示意图；
[0030]图7是本专利技术实施例提供的另一种显示面板沿剖面线CC
’
进行剖面的剖面结构示意图；
[0031]图8是本专利技术实施例提供的另一种显示面板沿剖面线CC
’
进行剖面的剖面结构示意图；
[0032]图9是本专利技术实施例提供的另一种显示面板沿剖面线CC
’
进行剖面的剖面结构示意图；
[0033]图10是本专利技术实施例提供的一种显示面板本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板具有显示区和非显示区，所述显示面板包括：阵列基板，所述阵列基板包括设置于所述非显示区的至少两个堤坝；绝缘层，位于所述阵列基板上，所述绝缘层覆盖所述至少两个堤坝；多条触控走线，位于所述绝缘层远离所述阵列基板的一侧；相邻两个所述堤坝之间的所述绝缘层上设置有多个凹槽，位于相邻两个所述堤坝之间区域的所述触控走线位于对应的所述凹槽内。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽的边缘的至少部分呈曲折状。3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽的横截面呈弯曲状；其中，所述横截面的延展方向与所述触控走线的延伸方向相垂直。4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述绝缘层包括第一无机绝缘层和第二无机绝缘层；所述第一无机绝缘层位于所述阵列基板与所述第二无机绝缘层之间；所述凹槽贯穿所述第二无机绝缘层，或者所述凹槽贯穿所述第一无机绝缘层和所述第二无机绝缘层；优选地，所述第一无机绝缘层和所述第二无机绝缘层的厚度均为0.3μm；优选地，所述第一无机绝缘层和所述第二无机绝缘层的材质均为氮化硅。5.根据权利要求1或者4所述的显示面板，其特征在于，还包括封装层；所述封装层位于所述绝缘层与所述阵列基板之间；所述凹槽贯穿至所述封装层中，但不贯穿所述封装层；优选地，所述封装层的厚度为1μm。6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽的深度大于或者等于所述触控走线的厚度；优选地，所述凹槽的宽度与所述触控走线的宽度相同；优选地，在相邻两个所述堤坝之间，所述凹槽与所述触控走线一一对应；优选地，所述触控走线横跨所述至少两个堤坝。7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1
‑
6任一项所述的显示面板；所述显示装置还包括触控电路，...

【专利技术属性】
技术研发人员：吉小龙，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：