原位烘干浸渍法基片薄膜成型装置及其成型方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种原位烘干浸渍法基片薄膜成型装置及其成型方法；该装置包括薄膜成型箱，薄膜成型箱内依次形成有基片室、镀膜室和烘干室，还包括基片放置装置、基片镀膜装置、基片烘干装置、基片输送装置以及薄膜成型操控台；基片放置装置设置在所述基片室内用于放置基片；基片镀膜装置设置在所述镀膜室内用于对基片进行镀膜处理；基片烘干装置设置在所述烘干室内用于对基片进行烘干处理；基片输送装置用于携带基片在所述基片室、所述镀膜室、所述烘干室之间水平往复输送；本发明专利技术采用湿法制备基片薄膜时的原位烘干，在薄膜成型操控台控制下，实现了设备内无杂质作业，最大程度地减少人为干预带来的不良影响，可有效提高膜层间的吸附力和均匀性。吸附力和均匀性。吸附力和均匀性。

【技术实现步骤摘要】
原位烘干浸渍法基片薄膜成型装置及其成型方法


[0001]本专利技术涉及基片镀膜
，尤其涉及一种原位烘干浸渍法基片薄膜成型装置，还涉及该装置专门使用的基片薄膜成型方法。

技术介绍

[0002]近几年来，薄膜技术应用发展迅速，已成为全球重要的新兴产业，溶胶凝胶湿法镀膜便是该领域最主要的薄膜成型方法，因操作简单、工艺成熟、成膜速度快，受到各大高校和科研院所中研究人员的青睐。但是，目前使用的湿法镀膜常规方法中还是有诸多缺点的，且镀膜设备功能单一，因此急需对设备进行改进。而且目前研究人员在进行多层薄膜的制备过程中，需要另外配备干燥箱对基片表面的薄膜进行固化处理，且每层薄膜样品均需人工移动到干燥箱中进行烘干固化，干燥固化好后再由人工移回至镀膜设备中，才能进行其它层薄膜的浸渍成型，因此镀几层就需要将样品转移几次。由此可见，样品在频繁移动时薄膜会多次暴露在空气中，空气中含有大量的灰尘、杂质等污染物，很容易吸附在薄膜表面，这样薄膜被污染后的样品在再次浸渍溶胶时不仅污染了溶胶，还会导致样品的多次镀膜附着力不强，多层镀膜的样品质量不高，膜层极易脱落，且均匀性也会受到影响。
[0003]另外，传统的溶胶湿法镀膜方式一般采用基片提拉式进行镀膜，即将基片先向下移动浸入溶胶中，然后再向上移动将基片提拉出液面，完成镀膜浸渍过程。但基片一般质量较轻，上下移动极易出现颤动，从而影响镀膜的均匀性，而且基片在上下多次升降的过程中，由于是人为移动导致速度无法保持一致，薄膜极易出现区域厚度不均的现象，从而影响多层薄膜样品的性能指标。
[0004]再者，目前常规的镀膜仪器一般功能都比较简单，镀多层薄膜时几乎全部依靠人工操作，人为干预越多，越容易致使多层薄膜的样品在成型过程出现多镀或少镀的人为失误，且多层薄膜的厚度出现差错会直接影响样品的性能指标。
[0005]基于上述原因，需要研发一种新型结构的基片用镀膜设备及使用方法，以克服上述多种技术缺陷。

技术实现思路

[0006]本专利技术所要解决的技术问题是提供一种可大幅减少人为干预，避免镀膜过程中成型的层膜产生污染，提高膜层间吸附力和均匀性的原位烘干浸渍法基片薄膜成型装置以及该装置的成型方法。
[0007]为解决上述技术问题，本专利技术的技术方案是：原位烘干浸渍法基片薄膜成型装置，包括薄膜成型箱，所述薄膜成型箱内依次形成有基片室、镀膜室和烘干室，所述薄膜成型箱上对应所述基片室、所述镀膜室和所述烘干室分别设有便于操作的室门，所述基片室与所述镀膜室之间连通，所述镀膜室与所述烘干室之间间隔设置；还包括：
[0008]基片放置装置，设置在所述基片室内用于放置基片，所述基片放置装置对应所述基片室上的所述室门设置；
[0009]基片镀膜装置，设置在所述镀膜室内用于对基片进行镀膜处理，包括活动安装在所述镀膜室内的镀膜升降台，所述镀膜升降台上放置有用于盛装镀膜溶胶材料的溶胶容器，所述镀膜室内还安装有与所述镀膜升降台配合使用的升降台驱动装置，所述升降台驱动装置控制所述镀膜升降台上升与下降，所述镀膜升降台上靠近所述烘干室的一侧还固定安装有助干风扇；
[0010]基片烘干装置，设置在所述烘干室内用于对基片进行烘干处理，所述基片烘干装置包括基片烘干座，所述基片烘干座对应所述烘干室上的所述室门设置，所述烘干室内位于所述基片烘干座的下方设有薄膜烘干装置；
[0011]基片输送装置，用于携带基片在所述基片室、所述镀膜室、所述烘干室之间水平往复输送，包括固定安装在所述薄膜成型箱内顶壁上的移片轨道，所述移片轨道依次贯穿所述基片室、所述镀膜室和所述烘干室水平设置，所述移片轨道上滑动安装有可携带基片的基片携带器，所述基片携带器与所述薄膜成型箱之间连接有基片平移装置，所述基片平移装置控制所述基片携带器沿所述移片轨道水平移动实现在所述基片室、所述镀膜室和所述烘干室之间往复输送；
[0012]电动门，设置在所述镀膜室与所述烘干室之间可开启与关闭，当所述电动门处于开启状态时，所述镀膜室与所述烘干室连通便于基片通过，当所述电动门处于关闭状态时，所述镀膜室与所述烘干室隔断；
[0013]薄膜成型操控台，安装在所述薄膜成型箱上，所述基片平移装置、所述升降台驱动装置、所述助干风扇、所述电动门、所述薄膜烘干装置分别连接至所述薄膜成型操控台。
[0014]作为优选的技术方案，所述基片平移装置包括固定安装于所述薄膜成型箱内的平移驱动电机，所述平移驱动电机的动力输出端传动连接有平移驱动皮带，且所述平移驱动皮带设于所述移片轨道的下方，所述基片携带器为安装在所述平移驱动皮带上的电磁吸料器，所述电磁吸料器的顶端限位滑动安装于所述移片轨道上，所述电磁吸料器的底端向下延伸设置与所述基片放置装置配合，所述平移驱动电机和所述电磁吸料器分别连接至所述薄膜成型操控台。
[0015]作为优选的技术方案，所述基片放置装置包括滑动安装于所述基片室内的基片放置座，所述基片放置座的滑动抽拉端对应所述基片室的所述室门设置，所述基片放置座上活动插装有至少一个用于承载基片的基片放置框，所述基片放置框顶端固定有与所述电磁吸料器配合使用的铁磁块，所述铁磁块与所述电磁吸料器的垂直距离不大于1cm。
[0016]作为优选的技术方案，所述升降台驱动装置包括在所述薄膜成型箱的内壁上竖向并列安装的升降驱动导轨和升降限位导轨，所述镀膜升降台设于所述升降驱动导轨和所述升降限位导轨的一侧，所述镀膜升降台上相对安装有两个升降滑块，贯穿其中一所述升降滑块螺纹连接有驱动丝杠，所述驱动丝杠设于所述升降驱动导轨内且传动连接有丝杠驱动电机，另一所述升降滑块限位装配于所述升降限位导轨内。
[0017]作为优选的技术方案，所述薄膜烘干装置包括布置安装于所述基片烘干座下方的碘钨灯组。
[0018]作为优选的技术方案，所述薄膜成型操控台包括单片机，所述单片机连接有硬盘、内存、系统总线、主控屏和操作键，所述主控屏和所述操作键分别设于所述薄膜成型箱的顶端。
[0019]作为对上述技术方案的改进，所述薄膜成型箱的一侧还设有透明的观察窗。
[0020]本专利技术还涉及所述原位烘干浸渍法基片薄膜成型装置的成型方法，包括以下步骤：
[0021]步骤一、启动所述薄膜成型操控台，利用所述薄膜成型操控台初始化所述基片输送装置和所述升降台驱动装置；
[0022]步骤二、将基片码放至所述基片放置装置上，关闭各所述室门，利用所述薄膜成型操控台控制所述薄膜烘干装置和所述助干风扇启动，对所述烘干室进行加热；
[0023]步骤三、通过所述薄膜成型操控台启动所述基片输送装置，将所述基片放置装置上的一个基片移至所述溶胶容器的正上方，并停止N1分钟；
[0024]步骤四、通过所述薄膜成型操控台启动所述升降台驱动装置，驱动所述镀膜升降台与所述溶胶容器同步上升，直至基片浸没于所述溶胶容器内的溶胶材料中，并保持浸没N2分钟后，通过所述薄膜成型操控台控制所述升降台驱动装置启动，驱动所述镀膜升降台与所述溶胶容器同步下降回位，完成基片镀膜；
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.原位烘干浸渍法基片薄膜成型装置，包括薄膜成型箱，其特征在于：所述薄膜成型箱内依次形成有基片室、镀膜室和烘干室，所述薄膜成型箱上对应所述基片室、所述镀膜室和所述烘干室分别设有便于操作的室门，所述基片室与所述镀膜室之间连通，所述镀膜室与所述烘干室之间间隔设置；还包括：基片放置装置，设置在所述基片室内用于放置基片，所述基片放置装置对应所述基片室上的所述室门设置；基片镀膜装置，设置在所述镀膜室内用于对基片进行镀膜处理，包括活动安装在所述镀膜室内的镀膜升降台，所述镀膜升降台上放置有用于盛装镀膜溶胶材料的溶胶容器，所述镀膜室内还安装有与所述镀膜升降台配合使用的升降台驱动装置，所述升降台驱动装置控制所述镀膜升降台上升与下降，所述镀膜升降台上靠近所述烘干室的一侧还固定安装有助干风扇；基片烘干装置，设置在所述烘干室内用于对基片进行烘干处理，所述基片烘干装置包括基片烘干座，所述基片烘干座对应所述烘干室上的所述室门设置，所述烘干室内位于所述基片烘干座的下方设有薄膜烘干装置；基片输送装置，用于携带基片在所述基片室、所述镀膜室、所述烘干室之间水平往复输送，包括固定安装在所述薄膜成型箱内顶壁上的移片轨道，所述移片轨道依次贯穿所述基片室、所述镀膜室和所述烘干室水平设置，所述移片轨道上滑动安装有可携带基片的基片携带器，所述基片携带器与所述薄膜成型箱之间连接有基片平移装置，所述基片平移装置控制所述基片携带器沿所述移片轨道水平移动实现在所述基片室、所述镀膜室和所述烘干室之间往复输送；电动门，设置在所述镀膜室与所述烘干室之间可开启与关闭，当所述电动门处于开启状态时，所述镀膜室与所述烘干室连通便于基片通过，当所述电动门处于关闭状态时，所述镀膜室与所述烘干室隔断；薄膜成型操控台，安装在所述薄膜成型箱上，所述基片平移装置、所述升降台驱动装置、所述助干风扇、所述电动门、所述薄膜烘干装置分别连接至所述薄膜成型操控台。2.如权利要求1所述的原位烘干浸渍法基片薄膜成型装置，其特征在于：所述基片平移装置包括固定安装于所述薄膜成型箱内的平移驱动电机，所述平移驱动电机的动力输出端传动连接有平移驱动皮带，且所述平移驱动皮带设于所述移片轨道的下方，所述基片携带器为安装在所述平移驱动皮带上的电磁吸料器，所述电磁吸料器的顶端限位滑动安装于所述移片轨道上，所述电磁吸料器的底端向下延伸设置与所述基片放置装置配合，所述平移驱动电机和所述电磁吸料器分别连接至所述薄膜成型操控台。3.如权利要求2所述的原位烘干浸渍法基片薄膜成型装置，其特征在于：所述基片放置装置包括滑动安装于所述基片室内的基片放置座，所述基片放置座的滑动抽拉端对应所述基片室的所述室门设置，所述基片放置座上活动插装有至少一个用于承载基片的基片放置框，所述基片放置框顶端固定有与所述电磁吸料器配合使用的铁磁块，所述铁磁块与所述电磁吸料器的垂直距离不大于1cm。4.如权利要求1所述的原位烘干浸渍法基片薄膜成型装置，其特征在于：所述升降台驱动装置包括在所述薄...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱海玲，王博文，黄飞翔，李英德，黄宝歆，
申请(专利权)人：潍坊学院，
类型：发明
国别省市：