一种激光器制造技术

本发明专利技术公开了一种激光器，涉及光学技术领域，其中，所述激光器包括：激光器本体和设置于所述激光器本体一端的出光组件；所述出光组件包括光处理组件，所述光处理组件包括顺次设置的第一反射层、增益介质层和第二反射层；所述第一反射层和所述第二反射层中的至少一层设置有至少两个超表面器件；所述至少两个超表面器件用于反射或折射调制待出射光，以使所述待出射光经由所述增益介质层传输及调制。通过上述方式，本发明专利技术的激光器在满足单点出光的情况下提高了出光功率。下提高了出光功率。下提高了出光功率。

【技术实现步骤摘要】
一种激光器


[0001]本专利技术涉及光学
，具体涉及一种激光器。

技术介绍

[0002]现有的激光器通常是由激光器本体与光处理组件组成，光处理组件是用于发射激光的组件，通常都是点发光，在光处理组件的反射镜内可以覆盖的面积内都有激光，出射的光斑也和反射镜面类似。
[0003]而要想改变现有激光器的出光功率，需要增大光处理组件内增益介质的体积，而增加增益介质体积，一方面可以增加光处理组件的长度，但这样会导致出光波长和模式变化，另一方面可以增加反射镜数量和出光孔面积，但这会导致各个出光孔的光不相干，而且变成了面发光，这样在某些场景下会与点发光的要求不符。
[0004]基于此，如何通过使用一种激光器，在满足单点出光的情况下来提高出光功率是本领域人员亟待解决的问题。

技术实现思路

[0005]为解决上述问题，提出了本专利技术实施例的激光器，所述激光器包括：
[0006]激光器本体和设置于所述激光器本体一端的出光组件；
[0007]所述出光组件包括光处理组件，所述光处理组件包括顺次设置的第一反射层、增益介质层和第二反射层；
[0008]所述第一反射层和所述第二反射层中的至少一层设置有至少两个超表面器件；
[0009]所述至少两个超表面器件用于反射或折射调制待出射光，以使所述待出射光经由所述增益介质层传输及调制。
[0010]可选的，所述光处理组件还包括：
[0011]第一金属电极层，所述第一金属电极层位于所述出光组件的第一端；
[0012]第二金属电极层，所述第二金属电极层位于所述出光组件的第二端；
[0013]隔离层，所述隔离层位于所述第二金属电极层的第二端；
[0014]基底层，所述基底层位于所述隔离层的第二端。
[0015]可选的，所述光处理组件还包括：
[0016]出光口结构，所述出光口结构设置在所述第一金属电极层的第一侧。
[0017]可选的，所述至少两个超表面器件均为以下三种超表面器件中的一种：
[0018]半透半反型超表面器件、反射型超表面器件、透射型超表面器件。
[0019]可选的，所述出光组件还包括：
[0020]第一超表面器件，所述第一超表面器件设置于所述第一反射层和所述第二反射层中的至少一层的第一侧，与所述出光口结构对应。
[0021]可选的，所述半透半反型超表面器件的第一面为分布式布拉格反射器；
[0022]所述半透半反型超表面器件的第二面为纳米结构。
[0023]可选的，所述第一金属电极层还包括：
[0024]所述第一超表面器件，其中，若所述第一超表面器件设置于所述第一反射层中，则所述第一超表面器件为半透半反型超表面器件；
[0025]若所述第一超表面器件设置于所述第二反射层中，则所述第一超表面器件为反射型超表面器件。
[0026]根据本专利技术上述实施例提供的方案，通过激光器本体和设置于所述激光器本体一端的出光组件；所述出光组件包括光处理组件，所述光处理组件包括顺次设置的第一反射层、增益介质层和第二反射层；所述第一反射层和所述第二反射层中的至少一层设置有至少两个超表面器件；所述至少两个超表面器件用于反射或折射调制待出射光，以使所述待出射光经由所述增益介质层传输及调制，可以在满足单点出光的情况下提高出光功率。
[0027]上述说明仅是本专利技术实施例技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术实施例的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本专利技术实施例的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本专利技术实施例的具体实施方式。
附图说明
[0028]通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本专利技术实施例的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：
[0029]图1示出了本专利技术实施例提供的第一种具体的光处理组件示意图；
[0030]图2示出了本专利技术实施例提供的第二种具体的光处理组件示意图；
[0031]图3示出了本专利技术实施例提供的第三种具体的光处理组件示意图；
[0032]图4示出了本专利技术实施例提供的第四种具体的光处理组件示意图；
[0033]图5示出了本专利技术实施例提供的一种具体的光处理组件中的光路传播示意图；
[0034]附图标记说明：1、出光组件；2、光处理组件；11、第一金属电极层；12、第一反射层；13、增益介质层；14、第二反射层；15、第二金属电极层；16、隔离层；17、基底层；21、第一超表面器件。
具体实施方式
[0035]下面将参照附图更详细地描述本专利技术的示例性实施例。虽然附图中显示了本专利技术的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本专利技术而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本专利技术，并且能够将本专利技术的范围完整的传达给本领域的技术人员。
[0036]图1
‑
4示出了本专利技术实施例提供四种激光器的光处理组件2示意图。如图1
‑
4所示，所述激光器包括：
[0037]激光器本体和设置于所述激光器本体一端的出光组件1；
[0038]所述出光组件1包括光处理组件2，所述光处理组件2包括顺次设置的第一反射层12、增益介质层13和第二反射层14；
[0039]所述第一反射层12和所述第二反射层14中的至少一层设置有至少两个超表面器件；
reflector，DBR)、金属反射层或纳米层，但不仅限于如上所述。
[0056]以下对照图1
‑
图4逐一说明光是如何通过增益介质来实现粒子数反转并放大光的：
[0057]实施例一，如图1所示，该光处理组件中，在第一反射层设置了两个超表面器件，其中，一号超表面器件位于出光口结构下方，属于半透半反型超表面器件，二号超表面器件位于其他位置，属于反射型超表面器件。
[0058]实施例二，如图2所示，该光处理组件中，在第二反射层设置了两个超表面器件，其中，一号超表面器件位于出光口结构下方，属于反射型超表面器件，二号超表面器件位于其他位置，同属于反射型超表面器件。
[0059]实施例三，如图3所示，该光处理组件中，在第一反射层设置了两个超表面器件，其中，一号超表面器件位于出光口结构下方，属于半透半反型超表面器件，二号超表面器件位于其他位置，属于反射型超表面器件。
[0060]实施例四，如图4所示，该光处理组件中，在第一反射层设置了一个超表面器件，在第二反射层设置了一个超表面器件，其中，一号超表面器件位于出光口结构下方，属于半透半反型超表面器件，二号超表面器件位于其他位置，属于反射型超表面器件。
[0061]在上述具体的四个实施例当中，两个超表面器件和两个反射层提供了一个增益光路，光沿着图中光路方向在两个超表面器件中间来回传播，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种激光器，其特征在于，所述激光器包括：激光器本体和设置于所述激光器本体一端的出光组件(1)；所述出光组件(1)包括光处理组件(2)，所述光处理组件(2)包括顺次设置的第一反射层(12)、增益介质层(13)和第二反射层(14)；所述第一反射层(12)和所述第二反射层(14)中的至少一层设置有至少两个超表面器件；所述至少两个超表面器件用于反射或折射调制待出射光，以使所述待出射光经由所述增益介质层(13)传输及调制。2.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述光处理组件(2)还包括：第一金属电极层(11)，所述第一金属电极层(11)位于所述出光组件(1)的第一端；第二金属电极层(15)，所述第二金属电极层(15)位于所述出光组件(1)的第二端；隔离层(16)，所述隔离层(16)位于所述第二金属电极层(15)的第二端；基底层(17)，所述基底层(17)位于所述隔离层(16)的第二端。3.根据权利要求2所述的激光器，其特征在于，所述光处理组件(2)还包括：出光口结构，所述出光口结构设置在...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙磊，邱兵，
申请(专利权)人：天津山河光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：