投影系统及包含其的三维测量模组技术方案

本申请实施例提供了一种投影系统及包含其的三维测量模组，属于三维测量的技术领域。该投影系统包括辐射源阵列，包括随机排列的辐射源，用于提供随机分布的辐射信号；以及，设置于所述辐射源阵列的出光侧的放大复制器阵列；所述放大复制器阵列包括阵列排布的放大复制器；所述放大复制器包括多个超构单元；其中，所述超构单元包括至少一个纳米结构和所述至少一个纳米结构下方的基底；并且，所述放大复制器中的纳米结构阵列排布于所述基底的一侧；其中，基于所述超构单元的相位和排布形式，所述放大复制器能够调制所述辐射信号，将所述辐射信号放大并以阵列的形式投射至目标表面。该投影系统结构简单紧凑，重量低，且衍射效率可达90％以上。90％以上。90％以上。

【技术实现步骤摘要】
投影系统及包含其的三维测量模组


[0001]本申请涉及三维测量的
，具体地，本申请涉及投影系统及包含其的三维测量模组。

技术介绍

[0002]结构光测量是三维测量技术中的重要手段之一，是一种主动光学测量。通常，借助投影系统将光结构化并以特定形状(点、线、面或其他图案)投射到物体的表面，然后检测结构光偏移距离得到物体的三维信息。
[0003]现有的结构光装置中，投影系统至少包括光源、准直镜组和衍射光学元件(DOE，Diffractive Optical Elements)。光源发出的光线经过准直镜组的准直之后由衍射光学元件(DOE，Diffractive Optical Elements)产生点阵并透射至远场。
[0004]现有技术中的投影系统至少由三片光学元器件，即至少两片准直镜组和一片衍射光学元件组成。这种结构使投影系统很难同时满足紧凑、轻便、高性能和低成本的要求。也因此，限制了三维测量模组与追求小型化、轻量化以及低成本的消费电子设备的兼容。

技术实现思路

[0005]为了解决现有技术中投影系统受光学元器本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种投影系统，其特征在于，包括：辐射源阵列，包括随机排列的辐射源，用于提供随机分布的辐射信号；以及，设置于所述辐射源阵列的出光侧的放大复制器阵列；所述放大复制器阵列包括阵列排布的放大复制器；所述放大复制器包括阵列排布的超构单元；其中，所述超构单元包括至少一个纳米结构和所述至少一个纳米结构下方的基底；并且，所述放大复制器中的纳米结构阵列排布于所述基底的一侧；基于所述超构单元的相位和排布形式，所述放大复制器能够调制所述辐射信号，将所述辐射信号放大并以阵列的形式投射至目标表面。2.根据权利要求1所述的投影系统，其特征在于，所述放大复制器中的纳米结构以密堆积图形的样式阵列排布；所述纳米结构被设置于所述密堆积图形的顶点位置和/或中心位置。3.根据权利要求2所述的投影系统，其特征在于，所述放大复制器阵列中所述放大复制器以A
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B的样式阵列排布；其中，所述A和B的取值均大于等于3。4.根据权利要求3所述的投影系统，其特征在于，所述放大复制器阵列中所述放大复制器以A
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B的样式阵列排布；其中，所述A和B的取值均大于等于5。5.根据权利要求3所述的投影系统，其特征在于，所述放大复制器阵列的A和B取值相等。6.根据权利要求3所述的投影系统，其特征在于，所述放大复制器阵列的A和B取值不相等。7.根据权利要求2所述的投影系统，其特征在于，所述密堆图形包括正六边形、正方形或扇形。8.根据权利要求1所述的投影系统，其特征在于，所述辐射源包括垂直腔面发射激光器或边缘发射激光器。9.根据权利要求1
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6中任一所述的投影系统，其特征在于，所述放大复制器为衍射分束器，任一辐射源发出的光线经过任一所述放大复制器后均衍射到对应的多个方向，并形成点阵单元，从而使所述辐射源阵列的光线经所述放大复制器阵列后，所述点阵单元阵列排布。10.根据权利要求9所述的投影系统，其特征在于，任一所述放大复制器的相位由对应的目标的点阵形式在迭代傅里叶算法或者GS算法的计算得到。11.根据权利要求10所述的投影系统，其特征在于，所述计算包括频率域等间距计算或...

【专利技术属性】
技术研发人员：郝成龙，谭凤泽，朱瑞，朱健，
申请(专利权)人：深圳迈塔兰斯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：