本发明专利技术的清洗台(10)对电子器件层叠体(50)的透明基材(52)进行清洗，具有载置面(11)，所述电子器件层叠体以所述透明基材作为表面而被载置于所述载置面；并具有：沟槽(20)，形成在所述载置面，且形成在与所述电子器件层叠体的外周端边(53)的背面侧外周缘部(54)对置的位置；外周壁(22)，构成所述沟槽的外周，延伸至所述电子器件层叠体的外周端边；气体供给机构(24)，与所述沟槽连通，对所述沟槽供给吹扫气体，所述外周壁在与所述电子器件层叠体的所述背面侧外周缘部之间留有间隙(23)而配置，从所述气体供给机构被供给至所述沟槽的所述吹扫气体从所述电子器件层叠体的外周端边与所述外周壁之间的所述间隙被吹出。所述外周壁之间的所述间隙被吹出。所述外周壁之间的所述间隙被吹出。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电子器件层叠体的清洗台、清洗装置及清洗方法
[0001]本专利技术涉及用于对在有机EL显示器面板等电子器件上层叠透明基材而成的电子器件层叠体的透明基材进行清洗的清洗台、清洗装置及清洗方法。
技术介绍
[0002]通常，在有机EL显示器(OLED)、液晶面板(LCD)等电子器件是由空穴输送层与电子输送层夹持发光层，并且进一步由电极夹持这些层，并配置在导电性基板上而构成的。由于导电性基板是柔性基板，因此在制造电子器件时，设为在由较硬且平坦性较高的玻璃或塑料等构成的透明基材上层叠电子器件的电子器件层叠体的形态。然后，在后续工序中通过LLO(激光剥离)等将透明基材从电子器件层叠体剥离，从而制作OLED面板等电子器件。
[0003]在LLO中，对透明基材照射激光，进行透明基材的剥离。此时，若透明基材上有异物，则激光被遮挡，无法顺利地剥离透明基材。于是，为了将存在于透明基材的表面的异物去除，需要清洗和研磨。专利文献1在0060段落例举了透明基材的清洗方法，但没有公开具体的清洗方法。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本专利第6492140号公报
技术实现思路
[0007]专利技术要解决的技术问题
[0008]为了高效地清洗透明基材，采用高压水射流的水清洗较为合适。然而，由于电子器件侧若被水弄湿则性能会降低，因此要求在不弄湿电子器件侧的情况下进行清洗。
[0009]本专利技术的目的在于，提供用于在不弄湿电子器件侧的情况下对透明基材进行水清洗的电子器件层叠体的清洗台、清洗装置及清洗方法。
[0010]用于解决上述技术问题的方案
[0011]本专利技术的电子器件层叠体的透明基材的清洗台，
[0012]对包含电子器件与安装于所述电子器件的一面的透明基材的电子器件层叠体的所述透明基材进行清洗，在该清洗台中，
[0013]具有载置面，所述电子器件层叠体以所述透明基材作为表面而被载置于所述载置面；
[0014]并具有：
[0015]沟槽，形成在所述载置面的外周，且形成在与所述电子器件层叠体的外周端边的背面侧外周缘部对置的位置；
[0016]外周壁，构成所述沟槽的外周，延伸至所述电子器件层叠体的外周端边；
[0017]气体供给机构，与所述沟槽连通，对所述沟槽供给吹扫气体，
[0018]所述外周壁在与所述电子器件层叠体的所述背面侧外周缘部之间留有间隙而配
置，
[0019]从所述气体供给机构供给至所述沟槽的所述吹扫气体被吹送至所述电子器件层叠体的所述背面侧外周缘部，并从所述电子器件层叠体的外周端边与所述外周壁之间的所述间隙被吹出。
[0020]所述沟槽期望形成在与所述电子器件层叠体中比外周端边更靠内侧的背面侧外周缘部对置的位置；
[0021]所述沟槽能够设为绕所述载置面一周的构成。
[0022]所述沟槽优选具有在与所述电子器件层叠体的角部对置的位置向外延伸的延伸凹部。
[0023]所述外周壁期望设为如下构成：可相对于所述电子器件层叠体的所述背面侧外周缘部接近和远离，并进行所述间隙的高度调整。
[0024]能够设为进一步具有如下部分的构成：
[0025]开设于所述载置面的1个或多个吸附孔；
[0026]从所述吸附孔抽吸吸入气体的气体抽吸机构。
[0027]此外，本专利技术的电子器件层叠体的透明基材的清洗装置具备：
[0028]上述记载的清洗台；
[0029]吹送机构，对载置于所述清洗台的所述电子器件层叠体的所述透明基材吹送清洗液。
[0030]能够设为如下构成：除了所述吹送机构以外还具备研磨装置，所述研磨装置在利用所述吹送机构吹送清洗液的同时所述研磨装置进行所述透明基材的研磨，或者，先利用所述吹送机构吹送清洗液，之后由所述研磨装置进行所述透明基材的研磨，并再次吹送所述清洗液。
[0031]此外，本专利技术的电子器件层叠体的透明基材的清洗方法，
[0032]对包含电子器件与安装于所述电子器件的一面的透明基材的电子器件层叠体的所述透明基材进行清洗，在该清洗方法中，
[0033]以所述透明基材成为表面的方式将所述电子器件层叠体载置于在载置面与所述载置面的外周形成沟槽的清洗台，
[0034]从所述沟槽将吹扫气体吹送至所述电子器件层叠体的外周端边的背面侧外周缘部，并从所述电子器件层叠体的所述外周端边吹出，同时
[0035]对所述透明基材吹送清洗液从而进行清洗。
[0036]所述沟槽形成在与所述电子器件层叠体中比外周端边更靠内侧的背面侧外周缘部对置的位置，通过将所述吹扫气体从所述电子器件层叠体的所述外周端边吹出，能够更加无清洗液残留且高效地进行清洗。
[0037]上述清洗方法期望为，清洗中，在比所述背面侧外周缘部更靠内侧处将所述电子器件层叠体吸附于所述清洗台。
[0038]对所述透明基材吹送所述清洗液进行清洗的工序能够设为：在吹送所述清洗液的同时进行所述透明基材的研磨，或者先吹送所述清洗液，后进行所述透明基材的研磨，并再次吹送所述清洗液。
[0039]专利技术效果
[0040]根据本专利技术的清洗台，能够通过将电子器件层叠体载置于载置面并对透明基材吹送清洗液，从而适当地进行透明基材的清洗。此时，通过从电子器件层叠体的外周端边吹出吹扫气体，被吹送至透明基材的清洗液会被吹走，不会附着于或者绕到位于透明基材的背面侧的电子器件，能够防止弄湿电子器件。此外，通过从形成于载置面的吸附孔来抽吸吸入气体而吸附电子器件层叠体，电子器件层叠体不会因吹扫气体而从载置面突出或发生位置偏离。
[0041]根据本专利技术的电子器件层叠体的清洗装置及清洗方法，能够在防止电子器件被弄湿的同时利用清洗液清洗透明基材。
附图说明
[0042]图1是示出在本专利技术的一实施方式的清洗台上载置了电子器件的状态的立体图。
[0043]图2是载置了电子器件层叠体的清洗台的外周缘部附近的剖视图。
[0044]图3是清洗台的角部附近的俯视图。
具体实施方式
[0045]以下，参照附图对本专利技术的一实施方式的清洗台10进行说明。
[0046]图1是在本专利技术的清洗台10上载置了电子器件层叠体50的立体图，图2是外周缘部附近的剖视图，图3是清洗台10的角部附近的俯视图。
[0047]如图1及图2所示，本专利技术的清洗台10是将电子器件层叠体50载置于上表面的台。电子器件层叠体50如前述那样，是有机EL显示器(OLED)、液晶面板(LCD)等电子器件51，例如形成为柔性基板。并且，为了防止在制造过程中的挠性变形，使处理变得容易，具有挠性的电子器件51配置在由较硬且平坦性较高的玻璃(载玻片)或塑料等构成的透明基材52。
[0048]使用清洗台10以透明基材52成为表面的方式载置电子器件层叠体50。例如，在清洗装置(未图示)中，如图2所示，清洗台10在从如喷射喷嘴本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种电子器件层叠体的透明基材的清洗台，对包含电子器件与安装于所述电子器件的一面的透明基材的电子器件层叠体的所述透明基材进行清洗，其特征在于，所述电子器件层叠体具有以所述透明基材作为表面而被载置的载置面，并具有：沟槽，形成在所述载置面，且形成在与所述电子器件层叠体的外周端边的背面侧外周缘部对置的位置；外周壁，构成所述沟槽的外周，延伸至所述电子器件层叠体的外周端边；气体供给机构，与所述沟槽连通，对所述沟槽供给吹扫气体，所述外周壁在与所述电子器件层叠体的所述背面侧外周缘部之间留有间隙而配置，从所述气体供给机构供给至所述沟槽的所述吹扫气体被吹送至所述电子器件层叠体的所述背面侧外周缘部，并从所述电子器件层叠体的外周端边与所述外周壁之间的所述间隙被吹出。2.如权利要求1所述的电子器件层叠体的透明基材的清洗台，其特征在于，所述沟槽形成在与所述电子器件层叠体中比外周端边更靠内侧的背面侧外周缘部对置的位置。3.如权利要求1或2所述的电子器件层叠体的透明基材的清洗台，其特征在于，所述沟槽绕所述载置面一周。4.如权利要求1～3的任一项所述的电子器件层叠体的透明基材的清洗台，其特征在于，所述沟槽具有在与所述电子器件层叠体的角部对置的位置向外延伸的延伸凹部。5.如权利要求1～4的任一项所述的电子器件层叠体的透明基材的清洗台，其特征在于，所述外周壁能相对于所述电子器件层叠体的所述背面侧外周缘部接近和远离，且能进行所述间隙的高度调整。6.如权利要求1～5的任一项所述的电子器件层叠体的透明基材的清洗台，其特征在于，进一步具有：开设于所述载置面的1个或多个吸附孔；从所述吸附孔抽吸吸入气体的气体抽吸机构。7.一种电子器件层叠体的透明基材...
【专利技术属性】
技术研发人员：大江智久，羽渕浩三，寺野翔，冈本健太，
申请(专利权)人：淀川美科株式会社，
类型：发明
国别省市：
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