本发明专利技术涉及氧化炉技术领域，尤其涉及一种转动调节型气体均布装置，包括沿第一直线方向并列设置的若干导流结构，相邻两导流结构之间的空间供气流通过；导流结构围绕设定轴线转动设置，且设定轴线垂直于第一直线方向；还包括调节装置，输出令导流结构转动的动力，且将动力传输至各导流结构，以及在动力输出结束后，保持导流结构的当下角度。本发明专利技术中提供了一种能够针对不同结构气体分配器的使用来对实际流出的气流方向进行调节的气体均布装置，从而对来自气体分配器的气流方向与原丝走向之间的偏差进行补偿，即通过不同的转动角度实现与气体分配器的匹配，最终输出与原丝走向相同的气流。同时，本发明专利技术中还请求保护一种气体分配器及氧化炉。器及氧化炉。器及氧化炉。
【技术实现步骤摘要】
一种转动调节型气体均布装置、气体分配器及氧化炉
[0001]本专利技术涉及氧化炉
，尤其涉及一种转动调节型气体均布装置、气体分配器及氧化炉。
技术介绍
[0002]现有的氧化炉中设置氧化腔室供原丝穿过，通过控制实现从氧化腔室的一端吹入流向另一端的热风，热风在流动过程中吹扫原丝，从而实现对原丝的预氧化过程。
[0003]其中，吹入氧化腔室的气流的最佳状态是风向沿原丝的走向，而在实际的氧化炉结构中，气流需要通过气体分配器均匀的分配而进入到氧化腔室，但针对不同结构的气体分配器，实际流出的气流方向可能会与设计的方向产生不同程度的偏差。
[0004]如何对上述偏差进行补偿，成为了本领域技术人员亟待解决的问题。鉴于上述问题，本设计人基于从事此类产品工程应用多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研究创新，设计了一种转动调节型气体均布装置，以及采用上述转动调节型气体均布装置的气体分配器和氧化炉。
[0005]公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在加深对本专利技术的总体
技术介绍
的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。
技术实现思路
[0006]本专利技术提供了一种转动调节型气体均布装置、气体分配器及氧化炉，可有效解决
技术介绍
中的问题。
[0007]为了达到上述目的，本专利技术所采用的技术方案是：一种转动调节型气体均布装置，包括沿第一直线方向并列设置的若干导流结构，相邻两所述导流结构之间的空间供气流通过；所述导流结构围绕设定轴线转动设置，且所述设定轴线垂直于所述第一直线方向；还包括调节装置，输出令所述导流结构转动的动力，且将所述动力传输至各所述导流结构，以及在动力输出结束后，保持所述导流结构的当下角度。
[0008]进一步地，所述调节装置将所述动力同步传输至各所述导流结构。
[0009]进一步地，所述调节装置向各所述导流结构进行若干组的动力传输。
[0010]进一步地，所述导流结构包括导流板和转轴；所述导流板与所述转轴固定连接，所述转轴围绕所述设定轴线转动；所述导流板自与所述转轴的连接位置起沿曲线弯曲，在迎风方向上向内凹陷，且在背风方向上向外凸出。
[0011]进一步地，所述导流板的厚度均匀设置。
[0012]进一步地，所述导流结构还包括两挡风板，分别设置于所述导流板在所述设定轴线方向的两侧，与所述导流板共同围设成槽体结构。
[0013]一种气体分配器，包括：如上所述的转动调节型气体均布装置；以及，端部分配箱；所述端部分配箱包括间隔设置的若干分隔板，相邻两所述分隔板之间依次形成第二进气端、流通通道和出气端，若干所述分隔板之间所形成的各所述出气端沿所述第一直线方向均匀分布；各所述第二进气端迎接气体进入，且将气体传送至所述转动调节型气体均布装置。
[0014]进一步地，每个所述出气端对应的所述导流结构数量相等。
[0015]进一步地，还包括：中部分配箱，包括箱体、两隔板、至少一个第一进气端和均匀分布的若干个出气孔，两所述隔板成V字型安装于所述箱体内，V字型的尖角一侧朝向所述第一进气端，且两所述隔板与所述箱体平行的两侧壁之间分别形成在气体流通方向上截面逐渐减小的流通通道，所述出气孔在平行的两侧壁上相对均匀分布，对自所述第一进气端进入的气体在相反的方向上进行均匀分配；所述端部分配箱与每个所述中部分配箱对应设置两个，设置于所述中部分配箱在所述第二安装方向的两端，各所述第一进气端与所述第二进气端在同一方向迎接气体进入；所述第一安装方向、第二安装方向和气体进入的方向分别沿X、Y和Z轴设置。
[0016]一种氧化炉，包括：具有氧化腔的框架结构；以及至少两层如上所述的气体分配器；各所述气体分配器沿所述第一安装方向均匀分布，且相邻两层所述气体分配器之间的间隙供在所述氧化腔内的原丝通过；所述气体分配器用于向所述原丝在所述第二安装方向两侧的氧化腔内，以及相邻两层所述气体分配器之间的空间进行气体供给。
[0017]通过本专利技术的技术方案，可实现以下技术效果：本专利技术中提供了一种能够针对不同结构气体分配器的使用来对实际流出的气流方向进行调节的气体均布装置，从而对来自气体分配器的气流方向与原丝走向之间的偏差进行补偿，即通过不同的转动角度实现与气体分配器的匹配，最终输出与原丝走向相同且均匀的气流；采用上述气体均布装置的气体分配器可以有效解决气流在进入主腔室时可能发生的紊乱、不均匀的问题，从而有效保证原丝氧化的效果。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1为相邻两导流结构的分布，以及二者之间供气流经过的示意图；图2为若干导流结构与一种调节装置安装后的示意图（包括局部放大）；图3为图2中的结构设置两层，从而在中间获得供原丝经过的间隙的示意图；
图4为若干导流结构与另一种调节装置安装后的示意图；图5为图4中D处的局部放大图；图6为沿设定轴线方向设置若干导流结构，且各导流结构的转轴固定连接而通过同一施力部调节的示意图；图7为导流结构的一种优化示意图；图8为气体分配器的使用示意图；图9为中部分配箱的结构示意图；图10为气体分配器的一种结构示意图；附图标记：A、第一直线方向；B、原丝走向；C、转动调节型气体均布装置；1、导流结构；11、导流板；12、转轴；13、挡风板；2、设定轴线；3、调节装置；31、齿轮；32、齿条；33、施力部；4、中部分配箱；41、箱体；42、第一进气端；43、出气孔；44、隔板；5、端部分配箱；51、分隔板；52、第二进气端；53、流通通道；54、出气端；6、风机。
具体实施方式
[0020]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0021]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0022]实施例一：如图1和2所示，一种转动调节型气体均布装置，包括沿第一直线方向A并列设置的若干导流结构1，相邻两导流结构1之间的空间供气流通过；导流结构1围绕设定轴线2转动设置，且设定轴线2垂直于第一直线方向A；还包括调节装置3，输出令导流结构1转动的动力，且将动力传输至各导流结构1，以及在动力输出结束后，保持导流结构1的当下角度。
[0023]本实施例中，提供了一种能够针对不同的气体分配器，来对实际流出的气流方向进行调节的气体均布装置，从而对来自气体分配器的气流方向与原丝走向本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种转动调节型气体均布装置，其特征在于，包括沿第一直线方向并列设置的若干导流结构，相邻两所述导流结构之间的空间供气流通过；所述导流结构围绕设定轴线转动设置，且所述设定轴线垂直于所述第一直线方向；还包括调节装置，输出令所述导流结构转动的动力，且将所述动力传输至各所述导流结构，以及在动力输出结束后，保持所述导流结构的当下角度。2.根据权利要求1所述的转动调节型气体均布装置，其特征在于，所述调节装置将所述动力同步传输至各所述导流结构。3.根据权利要求1所述的转动调节型气体均布装置，其特征在于，所述调节装置向各所述导流结构进行若干组的动力传输。4.根据权利要求1~3任一项所述的转动调节型气体均布装置，其特征在于，所述导流结构包括导流板和转轴；所述导流板与所述转轴固定连接，所述转轴围绕所述设定轴线转动；所述导流板自与所述转轴的连接位置起沿曲线弯曲，在迎风方向上向内凹陷，且在背风方向上向外凸出。5.根据权利要求4所述的转动调节型气体均布装置，其特征在于，所述导流板的厚度均匀设置。6.根据权利要求4所述的转动调节型气体均布装置，其特征在于，所述导流结构还包括两挡风板，分别设置于所述导流板在所述设定轴线方向的两侧，与所述导流板共同围设成槽体结构。7.一种气体分配器，其特征在于，包括：如权利要求1所述的转动调节型气体均布装置；以及，端部分配箱；所述端部分配箱包括间隔设置的若干分隔板，相邻两所述分隔板之间依次...
【专利技术属性】
技术研发人员：谈源，曹飞，刘庆君，朱天宇，
申请(专利权)人：新创碳谷控股有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。