用于处理金属基材的系统和方法技术方案

公开了一种用于处理金属基材的系统，所述系统包括转化组合物，所述转化组合物包括量为0.001g/L到20g/L的三价铬；以及密封组合物，所述密封组合物包括含铵化合物。还公开了一种用于处理金属基材的方法，所述方法包含使所述基材的表面的至少一部分与所述转化组合物接触，以及然后使所述基材的所述表面的至少一部分与所述密封组合物接触。还公开了一种基材，所述基材可通过用所述系统处理获得和/或可通过所述处理方法获得。所述处理方法获得。所述处理方法获得。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于处理金属基材的系统和方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年12月26日提交的并且题为“用于处理金属基材的系统和方法(Systems and Methods for Treating a Metal Substrate)”的美国临时专利申请第62/953,762号的优先权。


[0003]本专利技术涉及用于处理基材的组合物、系统和方法。本专利技术还涉及可通过用所述系统和方法处理获得的基材。

技术介绍

[0004]为了防止航空航天、汽车和商业工业中使用的金属氧化和降解，可以将无机保护涂层施涂在金属表面上。这种无机保护涂层，也称为转化涂层，可以是施涂到金属基材上的唯一涂层，或者所述涂层可以是施涂后续涂层的中间涂层。

技术实现思路

[0005]本文公开了一种用于处理基材的系统，所述系统包括：转化组合物，所述转化组合物包括基于所述转化组合物的总重量，量为0.001g/L到20g/L的三价铬；以及密封组合物，所述密封组合物包括含铵化合物。
[0006]本文还公开了一种处理金属基材的方法，所述方法包括：使所述基材的表面的至少一部分与转化组合物接触，所述转化组合物包括基于所述转化组合物总重量，量为0.001g/L到20g/L的三价铬；以及使已用所述转化组合物处理的基材表面的一部分与所述密封组合物接触，所述密封组合物包括含铵化合物。
[0007]还公开了一种基材，所述基材可通过用本专利技术的系统处理获得和/或可通过本专利技术的处理方法获得。
[0008]还公开了一种基材，其包括表面，所述表面在空气
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表面界面处的氟含量低于7原子百分比，如通过XPS深度剖析(使用配备有单色Al kαx射线源(hν＝1,486.7eV)和同心半球分析仪的物理电子VersaProbe II仪器)测量的和/或所述表面在空气
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表面界面以下50nm到100nm的氟含量低于4.5原子百分比，如通过XPS深度剖析(使用配备有单色Al kαx射线源(hν＝1,486.7eV)和同心半球分析仪的物理电子VersaProbe II仪器)测量的。
附图说明
[0009]图1示出了(A)根据实例1处理的基材、(B)根据实例4处理的基材和(C)在实例1和4的基材中空气
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基材界面处和以下的氟水平的XPS深度轮廓。
具体实施方式
[0010]出于以下详细描述的目的，应该理解的是，除非明确相反地指出，否则本专利技术可以
采取各种替代变型和步骤次序。此外，除了在任何操作实例中或在另外指示的情况下以外，如表示值、量、百分比、范围、子范围或分数的那些数字等所有数字可以解读为如同以词语“约”开头，即使所述术语没有明确出现也是如此。因此，除非相反地指示，否则在以下说明书和所附权利要求中所阐述的数值参数是可以根据待通过本专利技术获得的期望性质而改变的近似值。至少，并且不试图将等同原则的应用限制于权利要求的范围，每个数值参数至少应按照所报告的有效数字的数量并通过应用普通的舍入技术来解释。在本文所描述的封闭式或开放式数值范围的情况下，所述数值范围内或所涵盖的所有数字、值、量、百分比、子范围和分数应被视为具体地包含在本申请的原始公开内容中并且属于所述原始公开内容，就好像这些数字、值、量、百分比、子范围和分数已被完整地明确写出一样。
[0011]尽管阐述本专利技术的广泛范围的数值范围和参数是近似值，但是具体实例中阐述的数值是尽可能精确地报告的。然而，任何数值都固有地含有由其相应测试测量结果中发现的标准差必然造成的某些误差。
[0012]如本文所使用的，除非另有说明，否则复数术语可以涵盖其单数对应物并且反之亦然，除非另有说明。例如，尽管本文提及“一种”清洁剂组合物、“一种”转化组合物和“一种”密封组合物，但可以使用这些组分的组合(即，多种)。另外，在本申请中，除非另外具体说明，否则“或”的使用意指“和/或”，即使在某些情况下可以明确地使用“和/或”。
[0013]如本文所使用的，“包含”、“含有”和相似术语在本申请的上下文中被理解为与“包括”同义并且因此是开放式的并且不排除另外的未描述的和/或未叙述的要素、材料、成分和/或方法步骤的存在。如本文所使用的，“由...组成”在本申请的上下文中被理解为排除任何未指定的要素、成分和/或方法步骤的存在。如本文所使用的，“本质上由...组成”在本申请的上下文中被理解为包含所指定的要素、材料、成分和/或方法步骤“以及未对所描述内容的基本特性和新颖特性造成实质影响的那些要素、材料、成分或方法步骤”。如本文所使用的，开放式术语旨在涵盖“本质上由...组成”和“由...组成”。
[0014]如本文所使用的，术语“在...上”、“到...上”、“施加在...上”、“施加到...上”、“形成在...上”、“沉积在...上”、“沉积到...上”意指形成、覆盖、沉积和/或提供在表面上但不一定与所述表面接触。例如，“形成在基材之上”的涂层不排除定位于所形成的涂层与基材之间的相同或不同组合物的一个或多个其它中间涂层的存在。
[0015]除非本文另有公开，否则当关于不存在特定材料使用时，术语“基本上不含”意指如果此类材料存在于组合物、含有所述组合物的浴和/或由所述组合物形成并包括所述组合物的层中，则可以视情况而定，基于组合物和/或层的总重量，仅以5ppm或更少的痕量存在，不包含由于拖入、基材和/或设备溶解而可能存在或衍生的任何量的此类材料。除非本文另有公开，否则当关于不存在特定材料使用时，术语“本质上不含”意指如果此类材料存在于组合物、含有所述组合物的浴和/或由所述组合物形成并包括所述组合物的层中，则可以视情况而定，按组合物和/或层的总重量计，此类材料仅以1ppm或更少的痕量存在。除非本文另有公开，否则当关于不存在特定材料使用时，术语“完全不含”意指如果此类材料存在于组合物、含有所述组合物的浴和/或由所述组合物形成和包括所述组合物的层中，则此类材料不存在于组合物、含有所述组合物的浴和/或由其形成和包括其的层中(即组合物、含有所述组合物的浴和/或由所述组合物形成和包括所述组合物的层含有0ppm的此类材料)。
[0016]如本文所使用的，“盐”是指由阳离子和阴离子构成且总电荷为零的离子化合物。盐可以是水合的或无水的。
[0017]如本文所使用的，“水性组合物”是指在主要包括水的介质中的溶液或分散体。例如，基于组合物的总重量，水性组合物可以包括超过50wt.％、或超过70wt.％、或超过80wt.％、或超过90wt.％、或超过95wt.％的量的水。水性介质可以例如基本上由水组成。例如，基于水性组合物的总重量，水性组合物可以包括至少5wt.％，如至少10wt.％，如至少20wt.％，如至少30wt.％，如至少40wt.％，如至少50wt.％的量的溶质或分散剂。
[0018]如本文所使用的，“转化组合物”是指能够与基材表面反应并化学地改变基材表面并与其结合以形成提供腐蚀保护的膜的组合物。
[0019]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于处理基材的系统，所述系统包括：转化组合物，所述转化组合物包括基于所述转化组合物的总重量，量为0.001g/L到20g/L的三价铬；以及密封组合物，所述密封组合物包括含铵化合物。2.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括阴离子，所述阴离子适于与所述三价铬形成盐。3.根据权利要求1或权利要求2所述的系统，其中所述转化组合物进一步包括共抑制剂。4.根据权利要求3所述的系统，其中所述共抑制剂包括过渡金属、镧系金属和/或唑或其组合。5.根据权利要求3或权利要求4所述的系统，其中所述共抑制剂包括IVB族金属。6.根据权利要求3到5中任一项所述的系统，其进一步包括阴离子，所述阴离子适于与所述共抑制剂形成盐。7.根据权利要求3到6中任一项所述的系统，其中所述共抑制剂的所述盐以0.001g/L到20g/L的量存在于所述转化组合物中。8.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中所述转化组合物的pH小于7。9.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中基于所述密封组合物的总重量，所述含铵化合物中的铵以100ppm到1,500ppm的量存在于所述密封组合物中。10.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中所述密封组合物的pH为5到11。11.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中所述密封组合物进一步包括IVB族金属。12.根据权利要求11所述的系统，其中基于所述密封组合物的总重量，所述IVB族金属以250ppm到3,800ppm的量存在于所述密封组合物中。13.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中所述密封组合物进一步包括碳酸盐、硫酸盐、硝酸盐、乙酸盐、氢氧化物和/或磷酸盐或其任何组合。14.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其进一步包括清洁剂组合物、脱氧组合物、指示剂组合物和/或成膜组合物。15.根据权利要求14所述的系统，其中所述成膜组合物包括阴离子可电沉积涂层组合物、阳离子可电沉积涂层组合物、粉末涂层组合物、液体涂层组合物、底漆组合物和/或面漆组合物。16.一种用根据前述权利要求中任一项所述的系统处理基材的方法，所述方法包括：使所述基材的表面的至少一部分与所述转化组合物接触；以及使已与所述转化组合物接触的所述表面的至少一部分与所述密封组合物接触。17.根据权利要求16所述的方法，其中所述基材用清洁剂组合物进行处理。18.根据权利要求16或权利要求17所述的方法，其中使用机械脱氧和/或化学脱氧对所述基材进行脱氧。19.根据权利要求16到18中...

【专利技术属性】
技术研发人员：G，
申请(专利权)人：PRC迪索托国际公司，
类型：发明
国别省市：